伯東企業(yè)（上海）有限公司
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美國 KRi 射頻離子源 RFICP 220 助力光學(xué)薄膜技術(shù)發(fā)展
美國KRi射頻離子源RFICP220助力光學(xué)薄膜技術(shù)發(fā)展上海伯東美國KRi高能量射頻離子源RFICP220應(yīng)用于光學(xué)鍍膜機(jī),增強(qiáng)光學(xué)基片反射及透射率,助力光學(xué)薄膜技術(shù)發(fā)展.KRi射頻離子源在光學(xué)鍍膜機(jī)中的作用設(shè)備:自主搭建光學(xué)鍍膜機(jī),光學(xué)薄膜強(qiáng)激光裝置組成部分之一美國KRi高能射頻離子源:RFICP220作用:通過玻璃鏡片表面清潔Pre-clean和輔助鍍膜IBAD工藝,增強(qiáng)光學(xué)基片反射及透射率.從而加強(qiáng)激光束,對薄膜內(nèi)部進(jìn)行雜質(zhì)和缺陷消除,解決光學(xué)薄膜內(nèi)部因存在雜質(zhì)與缺陷導(dǎo)致的激光損傷問題真空 -
KRi 霍爾離子源 EH 2000 望遠(yuǎn)鏡鏡片鍍膜應(yīng)用
KRi霍爾離子源EH2000望遠(yuǎn)鏡鏡片鍍膜應(yīng)用上海伯東美國KRi大尺寸霍爾離子源EH2000安裝于高性能電子束光學(xué)鍍膜機(jī),實(shí)現(xiàn)300mm望遠(yuǎn)鏡鏡片鍍膜.KRi霍爾離子源EH2000望遠(yuǎn)鏡鏡片鍍膜設(shè)備:電子束鍍膜機(jī)應(yīng)用:光學(xué)鍍膜,300mm望遠(yuǎn)鏡鏡片鍍金Au,最外層鍍一層二氧化硅SiO2,做為保護(hù)膜,黃金對于紅外波段有著高的反射率,增強(qiáng)鏡面的紅外線反射能力.工藝過程:IBAD輔助鍍膜,通過使用美國KRi霍爾離子源可以實(shí)現(xiàn)增強(qiáng)和控制薄膜性能,薄膜致密化的改進(jìn),控制薄膜化學(xué)計(jì)量,提高折射率,降低薄膜應(yīng) -
Gel-Pak 提供 VCSEL 芯片生產(chǎn)使用的 DGL 膠膜和真空釋放托盤
Gel-Pak提供VCSEL芯片生產(chǎn)使用的DGL膠膜和真空釋放托盤VCSEL(VerticalCavitySurfaceEmittingLaser),中文名為垂直腔面發(fā)射激光器,因?yàn)槭褂玫氖强梢噪娮涌刂频母哳l率光源,光線比較集中,所以可以作為光信號發(fā)射器,主要應(yīng)用于高速率數(shù)據(jù)通信,車規(guī)級高性能激光雷達(dá),以及高性價(jià)比消費(fèi)類芯片.特別對于目前國際主流的800G光模塊,廣泛使用VCSEL芯片,800GSR8光模塊通常用于800G乙太網(wǎng),數(shù)據(jù)中心鏈路或800G-800G互連中.上海伯東美國Gel-Pak -
美國 inTEST 高低溫沖擊熱流儀助力半導(dǎo)體芯片研發(fā)
上海伯東代理美國inTEST高低溫沖擊熱流儀兼容各品牌半導(dǎo)體測試機(jī),可正確評估與參數(shù)標(biāo)定芯片開發(fā),器件或模塊研發(fā),品質(zhì)檢查,第三方認(rèn)證,失效分析,FAE等幾乎所有流程,高低溫沖擊測試作為一種常見的測試手段,適用于IGBT,MOSFET,三極管,二極管等各類半導(dǎo)體特性測試.inTEST高低溫沖擊熱流儀特性1.變溫速率更快,每秒可快速升溫/降溫15°C2.溫控精度:±1℃3.實(shí)時(shí)監(jiān)測待測芯片真實(shí)溫度,可隨時(shí)調(diào)整沖擊氣流溫度4.針對PCB電路板上眾多元器件中的某一單個(gè)IC(模塊),可單獨(dú)進(jìn)行高低溫沖擊 -
SiC碳化硅功率器件溫度測試應(yīng)用于AI人工智能,新能源,電動汽車,消費(fèi)電子等領(lǐng)域的SiC碳化硅功率器件是一種新型的半導(dǎo)體器件,具有高溫,高頻,高壓等優(yōu)異特性.為確保SiC碳化硅功率器件的性能和質(zhì)量,需要進(jìn)行全面的測試和分析.上海伯東美國inTEST高低溫沖擊熱流儀,兼容各類半導(dǎo)體測試儀器,為SiC碳化硅功率器件的溫度測試提供解決方案.SiC碳化硅功率器件的溫度測試主要包含以下幾個(gè)方面：?1.靜態(tài)測試:靜態(tài)測試一般指電壓,電流,功率和溫度等方面的測試.溫度測試用于評估SiC碳化硅器件在通電使用,帶
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紅外截止濾光片(IRCF)是利用精密光學(xué)鍍膜技術(shù)在光學(xué)基片上交替鍍上高低折射率的光學(xué)膜,實(shí)現(xiàn)可見光區(qū)（400nm-630nm）高透,近紅外（700nm-1100nm）截止的光學(xué)濾光片,主要應(yīng)用于可拍照手機(jī)攝像頭、電腦內(nèi)置攝像頭、汽車攝像頭和安防攝像頭等數(shù)碼成像領(lǐng)域,用于消除紅外光線對CCD/CMOS成像的影響.通過在成像系統(tǒng)中加入紅外截止濾光片,阻擋該部分干擾成像質(zhì)量的紅外光,可以使所成影像更加符合人眼的感覺.上海伯東某客戶為精密光學(xué)鍍膜產(chǎn)品生產(chǎn)商,經(jīng)過伯東推薦選用國產(chǎn)鍍膜機(jī)加裝美國進(jìn)口KRi霍
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離子束拋光適用于大面積、異型、特殊材料等加工對象的超高精度非接觸式修形及拋光,精度可達(dá)亞納米級,被譽(yù)為終拋光.離子束拋光機(jī)的最核心部件是可聚焦的高能量離子源.上海伯東某客戶為專業(yè)精密光學(xué)元器件設(shè)備制造商,主要產(chǎn)品為離子束拋光機(jī)、磁流變拋光機(jī)等,提供超精密光學(xué)工藝制造研發(fā)服務(wù),是一家超精密光學(xué)元器件解決方案提供商.經(jīng)推薦,該客戶采用上海伯東美國KRi直流電源式考夫曼離子源KDC系列成功應(yīng)用于光學(xué)鍍膜離子束拋光機(jī).KRI離子源用于離子束拋光機(jī):應(yīng)用方向：非接觸式亞納米離子束表面修形應(yīng)用領(lǐng)域：半導(dǎo)體/
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上海伯東適用于光學(xué)鍍膜機(jī)的離子源和真空系統(tǒng)
上海伯東提供適用于光學(xué)鍍膜機(jī)的離子源和真空系統(tǒng)光的干涉在薄膜光學(xué)中應(yīng)用廣泛.光學(xué)薄膜技術(shù)的普遍方法是借助真空濺射的方式在玻璃基板上涂鍍薄膜.光學(xué)鍍膜是光學(xué)器件上的單個(gè)或多個(gè)材料沉積薄層,實(shí)現(xiàn)多樣功能,典型應(yīng)用例如在鏡片鍍膜中,為了消除光學(xué)零件表面的反射損失,提高成像質(zhì)量,涂鍍一層或多層透明介質(zhì)膜,稱為增透膜或減反射膜.薄膜沉積在新型特殊性能材料的開發(fā)和研究中起到重要作用.光學(xué)鍍膜是如何工作的？待鍍膜工件裝入鍍膜室,其內(nèi)將執(zhí)行噴濺工藝流程.通常是兩個(gè)離子源,一個(gè)濺射沉積源,一個(gè)預(yù)清潔和輔助沉積源.
