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      • KRI 離子源應(yīng)用于電子束蒸鍍?cè)O(shè)備

        KRI離子源應(yīng)用于電子束蒸鍍?cè)O(shè)備E-beamEvaporationSystem特殊的系統(tǒng)設(shè)計(jì)電子束沉積是一種實(shí)用且高度可靠的系統(tǒng),上海伯東某客戶電子束蒸鍍系統(tǒng)可針對(duì)量產(chǎn)使用單一大坩堝也可以有多個(gè)坩堝來達(dá)到產(chǎn)品多層膜結(jié)構(gòu),在基板乘載上對(duì)應(yīng)半導(dǎo)體研究和大型設(shè)備設(shè)計(jì)單片和多片公自轉(zhuǎn)的設(shè)計(jì).為了獲得大的制程靈活性,可以結(jié)合考夫曼離子源進(jìn)行離子輔助沉積或者預(yù)清潔等功能.-----------電子束蒸鍍?cè)O(shè)備E-beamEvaporationSystem----------上海伯東KRI射頻離子源RFICP參
      • KRI 射頻離子源應(yīng)用于多層膜磁控濺鍍?cè)O(shè)備

        上海伯東代理美國KRI射頻離子源應(yīng)用于多層膜磁控濺鍍?cè)O(shè)備Multilayersputter,通過使用KRI射頻離子源可實(shí)現(xiàn)基板清潔和加速鍍膜材料的濺射速度,并且離子源在材料沉積過程中可幫助沉積并使沉積后的薄膜更為致密.膜基附著力更好,膜層不易脫落.多層膜的結(jié)構(gòu)廣泛用于各個(gè)領(lǐng)域,而對(duì)于精密系統(tǒng)則需要更嚴(yán)格的規(guī)格,包括光,聲音和電子組件.在單一材料薄膜無法滿足所需規(guī)格的精密系統(tǒng)中,高質(zhì)量多層膜的作用變得越來越重要.因此,新材料的開發(fā)和薄膜的精確控制制程已成為當(dāng)前多層薄膜研究的重要方向.特殊設(shè)計(jì)的多層
      • KRI 離子源應(yīng)用于金屬熱蒸鍍?cè)O(shè)備

        KRI離子源應(yīng)用于金屬熱蒸鍍?cè)O(shè)備MetalThermalEvaporationSystem熱蒸發(fā)是物理氣相沉積PVD中常用方法.使用電加熱的蒸發(fā)源可用于沉積大多數(shù)的有機(jī)和無機(jī)薄膜,其中以電阻式加熱法常見.這些蒸發(fā)源的優(yōu)點(diǎn)為它們可以提供一種簡(jiǎn)單的薄膜沉積方法,以電流通過其容納材料的舟為方式,從而加熱材料.當(dāng)沉積材料的蒸氣壓超過真空室的溫度時(shí),材料將開始蒸發(fā)并沉積到基板上并且在于熱蒸發(fā)時(shí)可以精準(zhǔn)的控制蒸發(fā)速度,且薄膜的厚度和均勻度小于+/-3%.上海伯東美國KRI考夫曼離子源可用于基板清潔和加速材料
      • KRi 射頻離子源應(yīng)用于車載攝像頭鏡片鍍膜工藝

        KRi射頻離子源應(yīng)用于車載攝像頭鏡片鍍膜工藝,實(shí)現(xiàn)車載鏡頭減反,塑膠鏡片增透車載鏡頭的鍍膜非常重要,鍍膜的核心用途就是增加透光率.xian進(jìn)的鍍膜技術(shù)可以大限度地減少反光,通過減少光在折射界面的反射而增加光線的透過率,保證通光率,從而保證鏡頭的佳畫質(zhì).在車載攝像頭鏡片加工鍍膜環(huán)節(jié),鍍膜機(jī)通過加裝上海伯東美國KRi射頻離子源對(duì)于加強(qiáng)膜層致密性,實(shí)現(xiàn)車載鏡頭減反,塑膠鏡片增透,明顯提升工藝效果.KRi離子源原子水平上在材料表面沉積薄膜KRi離子源安裝于精密光學(xué)鍍膜機(jī)對(duì)智能型手機(jī)鏡頭,車用鏡頭,VR虛
      • KRi 大尺寸射頻離子源樹脂鏡片高性能 AR 工藝

        KRi大尺寸射頻離子源樹脂鏡片高性能AR工藝樹脂為手機(jī)行業(yè)目前常用的鏡片基材,為了減少鏡片反射,提升透過率,會(huì)在鏡片表面鍍AR增透膜(減反膜),它是一種硬質(zhì)耐熱氧化膜,可在特定波長范圍內(nèi)將元器件表面的反射率最小化.ARcoating可以顯著提高樹脂基材的透過率.光線在透過不同介質(zhì)時(shí)會(huì)產(chǎn)生折射和反射,當(dāng)加上單面ARcoating后,濾光片會(huì)提升3~5%的透光率,讓圖像更清晰且讓鏡片不容易起霧.手機(jī)鏡頭等上游供應(yīng)商在生產(chǎn)工藝中通常使用離子源進(jìn)行輔助沉積,由此改善由手機(jī)攝像頭內(nèi)樹脂鏡片非有效徑區(qū)域透光
      • HVA 真空閥門(真空閘閥)成功用于激光真空系統(tǒng)

        HVA真空閥門(真空閘閥)成功用于激光真空系統(tǒng)激光是一種很奇妙的”物質(zhì)”,是人類繼原子能、計(jì)算機(jī)和半導(dǎo)體之后人類的又一偉大發(fā)現(xiàn).人們都知道,激光亮度高,可以達(dá)到太陽亮度的10億倍甚至更高.激光純凈無比,單色性好;激光具有無比的準(zhǔn)直性(直線傳播);而且,激光的能量強(qiáng)大,瞬間爆發(fā)的能量,即使最堅(jiān)硬的物體也能夠被穿透、熔化.因此,激光在生產(chǎn)、生活和科研中的應(yīng)用十分廣泛.因此激光真空系統(tǒng)具有特殊性,對(duì)使用的真空閥門有特殊要求.HVA真空閥門(真空閘閥)成功用于激光真空系統(tǒng)激光真空系統(tǒng)特殊性,美國HVA真
      • HVA 真空閥門 11000 用在 OLED 鍍膜機(jī)

        國內(nèi)某OLED鍍膜機(jī)廠家配置伯東美國HVA真空閥門11000系列,尺寸以4”,6”,8”閥門口徑為主的標(biāo)準(zhǔn)不銹鋼氣動(dòng)高真空閘閥,HVA不銹鋼真空閘閥11000系列標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)規(guī)格:閥門材質(zhì):-閥門主體304不銹鋼-焊接波紋管軸封AM-350閥門密封方式-高真空氟橡膠-超高真空銅墊圈/氟橡膠真空:-壓力范圍高真空1x10-9mbar,超高真空1x10-10mbar-漏率-差壓關(guān)閉1bar(任意位置)-開啟前zui大壓力≤30mbar烘烤溫度(不含電磁閥):-彈性體密封閥蓋150°C-金屬密封閥蓋-開啟
      • HVA 真空閥門用在氣體管路系統(tǒng)

        某半導(dǎo)體工廠在生產(chǎn)線上氣體輸送環(huán)節(jié)的氣體管路系統(tǒng)采用伯東HVA不銹鋼真空閘閥11000,作為真空隔離密封.HVA不銹鋼真空閘閥11000系列標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)規(guī)格:閥門材質(zhì):-閥門主體304不銹鋼-焊接波紋管軸封AM-350閥門密封方式-高真空氟橡膠-超高真空銅墊圈/氟橡膠真空:-壓力范圍高真空1x10-9mbar,超高真空1x10-10mbar-漏率-差壓關(guān)閉1bar(任意位置)-開啟前zui大壓力≤30mbar烘烤溫度(不含電磁閥):-彈性體密封閥蓋150°C-金屬密封閥蓋-開啟溫度:200°C-關(guān)閉
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