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      NE-PE200F真空等離子清洗機(jī)

      參考價(jià)面議
      具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
      • 公司名稱深圳納恩科技有限公司
      • 品       牌
      • 型       號(hào)
      • 所  在  地深圳市
      • 廠商性質(zhì)其他
      • 更新時(shí)間2024/4/2 16:27:38
      • 訪問(wèn)次數(shù)113
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      納恩科技始創(chuàng)于2010年,總部位于深圳市,在香港設(shè)有研發(fā)分公司,是一家專注于等離子材料表面清洗處理、真空鍍膜技術(shù)和智能裝備研發(fā),制造和銷售的高科技公司。目前主要產(chǎn)品包括真空等離子清洗機(jī),磁控濺射鍍膜設(shè)備,離子濺射儀,等離子刻蝕設(shè)備,等離子表面處理設(shè)備,輝光放電儀等。公司核心研發(fā)團(tuán)隊(duì)來(lái)源于香港大學(xué)等離子實(shí)驗(yàn)室,香港理工大學(xué)材料工程學(xué)院和美國(guó)佐治亞理I學(xué)院的微電子學(xué)院。自成立以來(lái),納恩科技圍繞等離子處理系統(tǒng)所需核心電源及底層算法進(jìn)行技術(shù)布局,不斷拓展自主設(shè)計(jì)能力。目前已完成以MCU, ARM為核心的射頻芯片開(kāi)發(fā)平臺(tái),實(shí)現(xiàn)了芯芯的結(jié)構(gòu)化和模塊化開(kāi)發(fā)。具有高精度模擬、網(wǎng)絡(luò)阻抗匹配、功率驅(qū)動(dòng)、功率器件、射頻和底層核心算法的設(shè)計(jì)能力,可針對(duì)不同細(xì)分領(lǐng)域等子處理系統(tǒng)需求,快速做出底層硬件組合,提高等離子系統(tǒng)的穩(wěn)定性和效率。公司著眼于化的戰(zhàn)略布局,目前在北京、上海、 成都,廈門(mén)均設(shè)立辦事處,在新加坡,尼黑設(shè)有辦公聯(lián)絡(luò)處。納恩科技以前沿的創(chuàng)新理念、的核心技術(shù)在我國(guó)制造裝備行業(yè)扮演著關(guān)鍵角色,公司堅(jiān)持負(fù)"推動(dòng)產(chǎn)業(yè)進(jìn)步、保障國(guó)防安全、提升生活品質(zhì)”這一神圣使命,致力成為的等離子技術(shù)處理方案供應(yīng)商,在世界高科技舞臺(tái)的同場(chǎng)競(jìng)技之中,續(xù)寫(xiě)中國(guó)等離子產(chǎn)業(yè)發(fā)展的新傳奇!
      產(chǎn)品型號(hào):NE-PE200F 性能特點(diǎn):等離子清洗具有效率高、成本低、清洗、提高表面浸潤(rùn)性等特點(diǎn) 產(chǎn)品用途:金屬、塑膠、陶瓷、和大多數(shù)高分子材料表面清洗活化改性
      NE-PE200F真空等離子清洗機(jī) 產(chǎn)品信息
      等離子清洗機(jī)可以在真空狀態(tài)下形成等離子體,可以對(duì)I材料表面進(jìn)行物理轟擊和化學(xué)反應(yīng)雙重作用,使基底表面物質(zhì)變成粒子和氣態(tài)物質(zhì),經(jīng)過(guò)抽真空排出,而達(dá)到清洗的目的,它可以達(dá)到常規(guī)清洗方法無(wú)法達(dá)到的效果,不僅可以去除有機(jī)污染物、油污或油脂,還能夠改變ITO的功函數(shù),改善材料表面的浸潤(rùn)能力,有利于后續(xù)工藝的進(jìn)行。
       

      真空等離子清洗機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn):


      射頻電源功率選擇為0到1000W可調(diào),頻率選擇為13.56MHz,同時(shí)采用電源匹配系統(tǒng)來(lái)調(diào)節(jié)負(fù)載阻抗,以保證的等離子密度和可重復(fù)性。
      電極板主體由不銹鋼材料制成,通過(guò)電極接頭可選擇的與電源正極或負(fù)極連通,電極板由兩側(cè)的絕緣塊固定在真空腔體中,整個(gè)電極系統(tǒng)可跟據(jù)不同需求選擇電極板的極性與間距,以獲得最合適的等離子體。
      平行平板型的電極結(jié)構(gòu),使得在所有樣品表面都得到了均勻的等離子體,并且也能提供的樣品裝載能力,因此滿足均勻性和生產(chǎn)能力的要求。
      供氣系統(tǒng)采用高精度流量計(jì)來(lái)精確調(diào)節(jié)工作氣體的流量,同時(shí)采用高穩(wěn)定性的真空泵來(lái)實(shí)現(xiàn)廢氣的均衡排放。
      高可靠性和穩(wěn)定性、高效的功率輸出、緊湊的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、占地面積小、重量輕、完善的保護(hù)功能等特點(diǎn)。
      前設(shè)開(kāi)門(mén),后方開(kāi)排氣孔、電源線孔,側(cè)面開(kāi)進(jìn)氣孔,以便于形成動(dòng)態(tài)循環(huán)、均勻進(jìn)氣提高清洗的效果。
      兩路獨(dú)立的氣路控制便于探索不同氣體配比對(duì)清洗效果的影響。
      真空室材料選用材料為316不銹鋼作為放電腔體,耐腐蝕性能好、耐熱性強(qiáng)、低溫情況下的強(qiáng)度好,沖壓彎曲等熱加工性好,無(wú)磁性。
      用PLC控制,工藝過(guò)程全自動(dòng)完成,具有良好的互鎖和報(bào)警功能。


      真空等離子清洗機(jī)常見(jiàn)應(yīng)用:


      平板顯示
      1 、ITO面板的清潔活化; 2 、光刻膠的去除、 3 邦定點(diǎn)的清潔(COG);

      半導(dǎo)體行業(yè)
      1、 晶圓制造: 光刻膠的去除; 2 微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS): SU-8膠的去除 ;3 芯片封裝: a) 引線焊盤(pán)的清潔 b) 倒裝芯片底部填充 c) 改善封膠的粘合效果;

      印刷電路板(PCB)
      1、 特氟隆具有低傳導(dǎo)性,是保證信號(hào)快速傳輸、絕緣性好的很好的材料。但這些特性又使特氟隆很難進(jìn)行電鍍。因此在鍍銅之前必須先用等離子活化特氟隆的表面。

      2、去除碳化物 ,激光鉆孔時(shí)產(chǎn)生的碳化物會(huì)影響孔內(nèi)鍍銅的效果??梢杂玫入x子清洗來(lái)去除孔內(nèi)的碳化物。針對(duì)FPC而言,在經(jīng)壓制,絲印等高污染工序后同樣會(huì)有細(xì)小殘膠留于銅面,在后續(xù)表面處理時(shí)造成漏鍍,異色等問(wèn)題。

      等離子清洗機(jī)( plasma cleaner)也叫等離子表面處理機(jī)。等離子體是物質(zhì)的第四態(tài),不同于物質(zhì)的固液汽三態(tài),等離子體包括離子、電子、原子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素 ( 亞穩(wěn) 態(tài) )、光子等。等離子清洗即是利用這些活性組分來(lái)處理清 洗物表面,實(shí)現(xiàn)清潔、涂覆、改性、光刻膠灰化的目的。其工作原理是在真空腔室中,射頻電源在壓力下起輝產(chǎn)生無(wú)序的高能量等離子體轟擊被清洗物體表面。
      項(xiàng)目 型號(hào)規(guī)格 參數(shù)
      等離子體發(fā)生器 功率 0-1000W可調(diào)
      頻率 40KHz/13.56MHz 
      抗輻射干擾高頻匹配器 自動(dòng)抗阻匹配,遠(yuǎn)程通信控制
      真空反應(yīng)腔室 腔體內(nèi)部尺寸 600*600*600(寬高深)
      材質(zhì) 不銹鋼/鋁合金
      電極層數(shù) 9層
      腔體容積 200L
      工作托盤(pán) 標(biāo)配一套,材質(zhì)可選(鋁絲,鋼絲網(wǎng))
      電極板分布方式 平板電極,可靈活抽取
      控制系統(tǒng) 系統(tǒng)控制 PLC
      觸摸屏 七寸觸摸屏
      氣體系統(tǒng) 氣體通道 標(biāo)配兩路可增加(氧氣、氬氣、氮?dú)獾龋?/span>
      氣體流量控制 MFC氣體質(zhì)量流量計(jì)
      外觀參數(shù) 外形尺寸 1350*1750*1200(寬*高*深)

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