三河建華高科有限責(zé)任公司
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詳細(xì)摘要： 主要用于中小規(guī)模集成電路和半導(dǎo)體元器件制造工藝中的對(duì)準(zhǔn)及曝光
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-07-14 在線留言
詳細(xì)摘要： BG-406系列曝光機(jī)主要用于中小規(guī)模集成電路、二極管、三極管、GPP器件、LED、電力電子器件、MEMS和其它半導(dǎo)體器件制造工藝中的對(duì)準(zhǔn)和曝光
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-07-13 在線留言
詳細(xì)摘要： 該設(shè)備主要用于半導(dǎo)體光電器件、功率器件、傳感器、混合電路、微波器件及微電子機(jī)械系統(tǒng)（MEMS）等領(lǐng)域的雙面對(duì)準(zhǔn)和曝光
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-07-12 在線留言
詳細(xì)摘要： 該設(shè)備主要用于半導(dǎo)體光電器件、功率器件、傳感器、混合電路、微波器件及微電子機(jī)械系統(tǒng)（MEMS）等領(lǐng)域的雙面對(duì)準(zhǔn)和曝光
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-07-11 在線留言
詳細(xì)摘要： 主要用于中小規(guī)模集成電路和半導(dǎo)體元器件制造工藝中的對(duì)準(zhǔn)及曝光
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-07-10 在線留言
詳細(xì)摘要： 主要用于中小規(guī)模集成電路和半導(dǎo)體元器件制造工藝中的對(duì)準(zhǔn)及曝光
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-07-09 在線留言
詳細(xì)摘要： 該設(shè)備為全自動(dòng)曝光設(shè)備，主要用于中小規(guī)模集成電路和半導(dǎo)體元器件制造工藝中的對(duì)準(zhǔn)及曝光
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-07-08 在線留言
詳細(xì)摘要： 該設(shè)備主要用于LED、MEMS、IC等行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)晶圓勻膠、、顯影、預(yù)烘工藝
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-06-16 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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