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三河建華高科有限責任公司
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更新時間:2023-07-10 09:40:59瀏覽次數(shù):337次
聯(lián)系我時,請告知來自 智能制造網主要用于中小規(guī)模集成電路和半導體元器件制造工藝中的對準及曝光
主要用于中小規(guī)模集成電路和半導體元器件制造工藝中的對準及曝光。本產品采用LED光源,操作方便、穩(wěn)定性高、重復性好,并具有較高的性能價格比,可廣泛應用于科研和生產。
主要技術特點
對準工作臺
對準精度搞,漂移小,精密楔形誤差補償機構實現(xiàn)三點找平,找平力小,延長掩摸版使用壽命
曝光系統(tǒng)
紫外光曝光系統(tǒng)采用了柱體蠅眼透鏡和多點UVLED燈,光能利用率高,光強分布均勻。
分離視場顯微鏡
在X、Y方面進行大范圍掃描觀察,可進行單視場或雙視場切換,提高對準效率和套準精度,同時兼容CCD成像顯示功能。
控制系統(tǒng)
電氣控制采用可編程序控制器(PLC)、LCD顯示器,操作方便,汞燈電源易于觸發(fā),可靠性高。該設備的關鍵件采用進口或專業(yè)廠家制造,氣動元件采用SMC產品,提高了設備的穩(wěn)定性、可靠性,同時提供個性化服務。
主要技術指標
性能名稱 | 技術指標 | |
適用基片尺寸 | Max. φ4″(φ100mm) | |
適用掩模版尺寸 | Max. 5″(125mm×125mm) | |
工作臺行程 | X向 | ±5mm |
Y向 | ±5mm | |
Z向 | 3mm | |
θ向 | ±12° | |
基片與掩模版分離間隙 | 0~0.05mm | |
對準精度 | ±1μm | |
分離視場顯微鏡 | 目鏡 | 10× |
物鏡 | 10× | |
物鏡分離距離 | 28~90mm | |
掃描范圍 | 50mm×50mm | |
調焦范圍 | 8mm | |
曝光光源 | 250W進口超高壓汞燈 | |
光強 | ≥15mW/cm2 | |
曝光面積 | φ108mm | |
曝光分辨率 | 1.5μm(真空接觸) | |
曝光不均勻性 | ±3% | |
曝光時間 | 0~999s | |
整機功率 | 1000W | |
外型尺寸(長×寬×高) | 740mm×830mm×1300mm |
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