陜西愛姆加電子設(shè)備有限公司
詳細摘要： 大尺寸勻膠機，尺寸范圍：500-500，厚度8mm勻膠機主軸速度：3500RPM勻膠機可增加功能有：自動供液系統(tǒng) -自動排風(fēng)系統(tǒng)-自動背洗功能大尺寸勻膠機，尺寸...
產(chǎn)品型號：M+500C所在地：西安市更新時間：2025-02-28 在線留言
詳細摘要： 產(chǎn)品特點：方形基片的邊緣清洗邊緣區(qū)域：1-20mm基片厚度要求：0.5-20mm自動對準邊緣尺寸液體噴嘴數(shù)量可選可增配
產(chǎn)品型號：M+450-EBR所在地：西安市更新時間：2024-12-11 在線留言
詳細摘要： 設(shè)備實現(xiàn)2“-12“晶圓兼容涂膠、顯影模塊自帶暫停/恢復(fù)功能同片盒內(nèi)每個硅片可分別制定工藝運行設(shè)備和各工位全封閉設(shè)計，不受外環(huán)境干擾可獨立增加層流罩，提升小環(huán)境...
產(chǎn)品型號：M+100CD所在地：西安市更新時間：2024-08-16 在線留言
詳細摘要： 超大尺寸勻膠設(shè)備 M+/1500-Ｃ，主要用于完成基片光阻涂布工藝。設(shè)備可分別配置主軸旋轉(zhuǎn)裝置、 光阻供液系統(tǒng)（腔體清洗液）、排風(fēng)系統(tǒng)、上料裝置、控制部份等；設(shè)...
產(chǎn)品型號：M+1200所在地：西安市更新時間：2024-07-22 在線留言
詳細摘要： 一、產(chǎn)品使用范圍： ? 彎月牙涂膠基板尺寸：1400 mm×420 mm×200 mm)；? 液體膠刀的有效尺寸
產(chǎn)品型號：M+4500所在地：西安市更新時間：2024-03-01 在線留言
詳細摘要： 勻膠機-針對實驗室使用勻膠機是在高速旋轉(zhuǎn)的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上的設(shè)備，膜的厚度取決于勻膠機的轉(zhuǎn)速和溶膠的黏度
產(chǎn)品型號：M+150-M所在地：西安市更新時間：2024-01-22 在線留言
詳細摘要： 半自動涂膠顯影機 型號：M+200Ｄ適用用圓片尺寸: 2"、3"、4"；以及5x5,10x10,25x25方片工藝工步：放置圓片（可輔助定中心）啟動防濺罩到上...
產(chǎn)品型號：M+100C-M所在地：西安市更新時間：2024-01-19 在線留言
詳細摘要： 量子點是一種通常僅由幾千個原子組成的晶體，就大小而言，它與足球的比例就相當(dāng)于足球與地球的比例。這么小的粒子，我們?nèi)庋凼强床灰姷?，但它們卻有著非常特殊的性質(zhì)。
產(chǎn)品型號：M+S200-S所在地：西安市更新時間：2024-01-19 在線留言
詳細摘要： 自動勻膠顯影機使用范圍：pumping封裝、3D-TSV、MEMS、OLED等領(lǐng)域PR工藝涂膠膠顯影；產(chǎn)能：預(yù)估100wafer/H;產(chǎn)品種類：晶片如硅、玻璃片...
產(chǎn)品型號：M+300所在地：西安市更新時間：2023-12-29 在線留言
詳細摘要： 方形基片勻膠機，型號M+/C450-40，主要用于完成方形基片（全息光柵涂膠機）、大尺寸玻璃片勻膠機、方形基片顯影機等勻膠、顯影、清洗工藝玻璃片尺寸wafer ...
產(chǎn)品型號：M+D450所在地：西安市更新時間：2023-12-28 在線留言
詳細摘要： 桌面式自動批量晶片轉(zhuǎn)移器是為批量晶圓轉(zhuǎn)移設(shè)計的自動晶圓轉(zhuǎn)移設(shè)備,實現(xiàn)批量晶片在兩個晶片盒之間水平“滑動傳送"?！ 〈蠖鄶?shù)與高剖面和低剖面晶圓片盒框架盒兼容。晶圓...
產(chǎn)品型號：M+S200所在地：西安市更新時間：2023-12-28 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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