富士變頻器驅(qū)動板EP-3957E-C3,EP-3959E-C5
EP-3957C-C6 ¥3000PLC 工控機 嵌入式系統(tǒng) 人機界面 工業(yè)以太網(wǎng) 現(xiàn)場總線 變頻器 機器視覺 DCS PAC/PLMC SCADA 工業(yè)軟件 ICS信息安全 應(yīng)用方案 無線通訊
陜西愛姆加電子設(shè)備有限公司
M+500C
其他品牌
生產(chǎn)商
西安市
聯(lián)系方式:王強查看聯(lián)系方式
更新時間:2025-02-28 15:33:16瀏覽次數(shù):455次
聯(lián)系我時,請告知來自 智能制造網(wǎng)依據(jù)配置定價 | 面?儀 |
---|
大尺寸勻膠機,尺寸范圍:500-500,厚度8mm
勻膠機主軸速度:3500RPM
勻膠機可增加功能有:自動供液系統(tǒng) -自動排風系統(tǒng)-自動背洗功能
大尺寸勻膠機,尺寸范圍:500-500,厚度8mm
勻膠機主軸速度:3500RPM
勻膠機可增加功能有:自動供液系統(tǒng) -自動排風系統(tǒng)-自動背洗功能大尺寸勻膠機,尺寸范圍:500-500,厚度8mm
勻膠機主軸速度:3500RPM
勻膠機可增
大尺寸勻膠機,尺寸范圍:500-500,厚度8mm
勻膠機主軸速度:3500RPM
勻膠機可增加功能有:自動供液系統(tǒng) -自動排風系統(tǒng)-自動背洗功能
大尺寸勻膠機,尺寸范圍:500-500,厚度8mm
勻膠機主軸速度:3500RPM
勻膠機可增加功能有:自動供液系統(tǒng) -自動排風系統(tǒng)-自動背洗功能
大尺寸勻膠機,尺寸范圍:500-500,厚度8mm
勻膠機主軸速度:3500RPM
勻膠機可增加功能有:自動供液系統(tǒng) -自動排風系統(tǒng)-自動背洗功能
大尺寸勻膠機,尺寸范圍:500-500,厚度8mm
勻膠機主軸速度:3500RPM
勻膠機可增加功能有:自動供液系統(tǒng) -自動排風系統(tǒng)-自動背洗功能
大尺寸勻膠機,尺寸范圍:500-500,厚度8mm
勻膠機主軸速度:3500RPM
勻膠機可增加功能有:自動供液系統(tǒng) -自動排風系統(tǒng)-自動背洗功能
大尺寸勻膠機,尺寸范圍:500-500,厚度8mm
勻膠機主軸速度:3500RPM
勻膠機可增加功能有:自動供液系統(tǒng) -自動排風系統(tǒng)-自動背洗功能
從勻膠到軟烘,光刻膠中的溶劑是在不斷減少的,那么請問溶劑是如何變化的,涉及到哪些原理。
光刻膠中的溶劑的種類及作用?
丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA),乙二醇甲醚醋酸酯(EGMEA),1-甲氧基-2-丙酯等。溶劑的首要作用是溶解光刻膠中的聚合物、感光劑和其他添加劑。使光刻膠形成均勻的液相狀態(tài)。其次是可以調(diào)節(jié)光刻膠的粘度。
光刻膠溶劑如何變化?
在旋轉(zhuǎn)涂膠前,光刻膠通常包含65%到85%的溶劑。旋轉(zhuǎn)膠后,溶劑減少到10%到20%,但是膠膜仍處于半液半固體狀態(tài)。軟烘后溶劑的理想量約為4%到7%。由于溶劑在軟烘過程中減少,光刻膠膜的厚度也在不斷減薄。
光刻膠溶劑為什么會變少?
旋涂過程中,會在晶圓表面和周圍產(chǎn)生空氣流動,形成層流或湍流。溶劑會不斷揮發(fā),導致溶劑量減少。離心力旋涂過程中,由于晶圓的高速旋轉(zhuǎn),離心力將光刻膠甩向晶圓邊緣,同時多余的溶劑被甩出,導致溶劑量減少。烘烤
加熱過程中,光刻膠層中的溶劑吸收熱能,其分子運動加劇,蒸汽壓升高。當蒸汽壓超過大氣壓時,溶劑分子從液態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)闅鈶B(tài)并蒸發(fā)。
勻膠顯影問題
影響勻膠顯影技術(shù)工藝的因素涂/噴膠異常:
1、晶圓上的膠膜出現(xiàn)細微氣泡,一種集中分布在晶圓中心附近分布,一種在晶圓表面雜亂分布。工藝過程中氣體混入光刻膠是引起此現(xiàn)象的主要原因。首先,采用手動涂膠方式,檢查原始光刻膠中是否存在細微氣泡;其次,檢查整個膠路,重點檢查膠瓶罐、緩存罐、過濾器、膠泵以及噴頭的連接處是否存在光刻膠泄漏情況。打膠時,過濾器、膠路內(nèi)是否有氣泡產(chǎn)生,如有氣泡找到產(chǎn)生原因。涂膠工藝需要通過調(diào)節(jié)回吸閥把回吸降為零,減緩回吸閥的導通和關(guān)斷速度,降低膠泵打膠和回膠速度等方式進行排查驗證。除此之外,可選擇動態(tài)旋涂方式,并且改變滴膠過程中晶圓的轉(zhuǎn)速,來避免涂膠工藝中出現(xiàn)氣泡。噴膠工藝還需檢查膠路單向閥性能是否完好,如出現(xiàn)氣體回吸情況,需清理單向閥。
2、晶圓的膠模上存在針孔或細微雜質(zhì),非氣泡形貌。主要是由于涂膠或噴膠工藝中由環(huán)境的中的微粒污染物引起的。檢查設(shè)備的除塵排風功能是否完好,定期需要更換空氣過濾裝置和光刻膠過濾器。
3、顯影異常:顯影針對正光刻膠和負光刻膠不同的顯影特性,采用不同的顯影液和沖洗液進行顯影處理。顯影工藝中,軟烘時間與溫度、顯影液濃度、時間、溫度以及顯影方法都對顯影結(jié)果產(chǎn)生一定的影響。需要所有的參數(shù)進行測試后,選擇工藝參數(shù)。
常見的顯影異常為:
(1)顯影不全。顯影不夠深導致晶圓表面還殘留需清除的光刻膠,由于顯影液不足造成;
(2)顯影不充分,顯影的側(cè)壁不垂直,開孔的側(cè)面出現(xiàn)內(nèi)凹,主要由于顯影時間不足造成;
(3)過顯影問題,靠近表面的光刻膠被顯影液過度溶解,形成臺階,顯影時間太長導致。顯影時間過長或者顯影液過多容易使得周圍光刻膠太薄,導致刻蝕中的斷裂或翹起。另外,維修過程中,一定注意非黃光的使用。避免因不正確的照射引起工藝問題。
4、熱烘異常:軟烘的主要參數(shù)是時間和溫度,二者會影響圖形定義好壞和刻蝕工藝中光刻膠與晶圓表面黏結(jié)性的質(zhì)量。軟烘時間或溫度異常,可能會導致膠膜出現(xiàn)龜裂;軟烘腔體內(nèi)的排氣不暢,會影響膠膜厚度的均勻性。烘烤不足,會減弱光刻膠的強度,降低針孔填充能力,降低與基底的黏附能力。烘烤過度則引起光刻膠的流動,使圖形精度降低,分辨率變差。
光刻膠涂布工藝
光刻膠需要在晶圓上形成均勻厚度的一層薄膜。薄膜形成使用的是對晶圓一片一片處理的單片式設(shè)備。旋轉(zhuǎn)涂膠設(shè)備將真空用真空吸盤固定,表面向上,再滴入一定量的光刻膠,然后高速旋轉(zhuǎn)晶圓,直至薄膜厚度均勻。
根據(jù)轉(zhuǎn)速和光刻膠黏度可以調(diào)整光刻膠薄膜厚度,一般來說,轉(zhuǎn)速越高薄膜厚度越薄,光刻膠黏度越高薄膜厚度越厚。
光刻膠涂布的實際情況
由于光刻膠在空氣中放置會干燥并變成固體,因此在晶圓上涂膠前,要從噴嘴中丟棄少量光刻膠,保證一直能滴落新鮮的光刻膠。
在晶圓上均勻地涂上光刻膠膜是必要的,晶圓邊緣會出現(xiàn)膜稍微變厚的部分,稱為邊緣堆積。為了減少這種情況,要進行邊緣沖洗,還要設(shè)置背面沖洗功能,以防止光刻膠倒流到晶圓背面。沖洗功能如下圖:
晶圓表面一般親水性高,特別是正性光刻膠有時無法很好的涂布。此時,為了使晶圓表面具有疏水性,用一種名為HMDS(六甲基二硅氮烷)的有機溶劑進行處理。涂布光刻膠后,要進行預(yù)烘焙處理(也稱軟烘)來去除溶劑,
故進行熱處理的烘焙系統(tǒng)(如熱板)與旋轉(zhuǎn)涂膠機在生產(chǎn)線上都是按照連續(xù)化(In-Line)布置。
您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
富士變頻器驅(qū)動板EP-3957E-C3,EP-3959E-C5
EP-3957C-C6 ¥3000西門子變頻器驅(qū)動板6SE7041-2WL84-1JC1
IGD觸發(fā)板 ¥5000富士變頻器驅(qū)動板SA536804-05,SA536804-02
EP-3957C-C5 ¥3000智能制造網(wǎng) 設(shè)計制作,未經(jīng)允許翻錄必究 .? ? ?
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗證碼
請輸入你感興趣的產(chǎn)品
請簡單描述您的需求
請選擇省份
聯(lián)系方式
陜西愛姆加電子設(shè)備有限公司