大尺寸勻膠機，尺寸范圍：500-500，厚度8mm

勻膠機主軸速度：3500RPM

勻膠機可增加功能有：自動供液系統(tǒng) -自動排風系統(tǒng)-自動背洗功能
大尺寸勻膠機，尺寸范圍：500-500，厚度8mm

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勻膠機可增

詳細介紹

大尺寸勻膠機，尺寸范圍：500-500，厚度8mm
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從勻膠到軟烘，光刻膠中的溶劑是在不斷減少的，那么請問溶劑是如何變化的，涉及到哪些原理。
光刻膠中的溶劑的種類及作用？

丙二醇甲醚醋酸酯（PGMEA），乙二醇甲醚醋酸酯（EGMEA），1-甲氧基-2-丙酯等。溶劑的首要作用是溶解光刻膠中的聚合物、感光劑和其他添加劑。使光刻膠形成均勻的液相狀態(tài)。其次是可以調(diào)節(jié)光刻膠的粘度。

光刻膠溶劑如何變化？
在旋轉(zhuǎn)涂膠前，光刻膠通常包含65%到85%的溶劑。旋轉(zhuǎn)膠后，溶劑減少到10%到20%，但是膠膜仍處于半液半固體狀態(tài)。軟烘后溶劑的理想量約為4%到7%。由于溶劑在軟烘過程中減少，光刻膠膜的厚度也在不斷減薄。

光刻膠溶劑為什么會變少？
旋涂過程中，會在晶圓表面和周圍產(chǎn)生空氣流動，形成層流或湍流。溶劑會不斷揮發(fā)，導致溶劑量減少。離心力旋涂過程中，由于晶圓的高速旋轉(zhuǎn)，離心力將光刻膠甩向晶圓邊緣，同時多余的溶劑被甩出，導致溶劑量減少。烘烤
加熱過程中，光刻膠層中的溶劑吸收熱能，其分子運動加劇，蒸汽壓升高。當蒸汽壓超過大氣壓時，溶劑分子從液態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)闅鈶B(tài)并蒸發(fā)。

勻膠顯影問題

影響勻膠顯影技術(shù)工藝的因素涂/噴膠異常：
1、晶圓上的膠膜出現(xiàn)細微氣泡，一種集中分布在晶圓中心附近分布，一種在晶圓表面雜亂分布。工藝過程中氣體混入光刻膠是引起此現(xiàn)象的主要原因。首先，采用手動涂膠方式，檢查原始光刻膠中是否存在細微氣泡；其次，檢查整個膠路，重點檢查膠瓶罐、緩存罐、過濾器、膠泵以及噴頭的連接處是否存在光刻膠泄漏情況。打膠時，過濾器、膠路內(nèi)是否有氣泡產(chǎn)生，如有氣泡找到產(chǎn)生原因。涂膠工藝需要通過調(diào)節(jié)回吸閥把回吸降為零，減緩回吸閥的導通和關(guān)斷速度，降低膠泵打膠和回膠速度等方式進行排查驗證。除此之外，可選擇動態(tài)旋涂方式，并且改變滴膠過程中晶圓的轉(zhuǎn)速，來避免涂膠工藝中出現(xiàn)氣泡。噴膠工藝還需檢查膠路單向閥性能是否完好，如出現(xiàn)氣體回吸情況，需清理單向閥。
2、晶圓的膠模上存在針孔或細微雜質(zhì)，非氣泡形貌。主要是由于涂膠或噴膠工藝中由環(huán)境的中的微粒污染物引起的。檢查設(shè)備的除塵排風功能是否完好，定期需要更換空氣過濾裝置和光刻膠過濾器。
3、顯影異常：顯影針對正光刻膠和負光刻膠不同的顯影特性，采用不同的顯影液和沖洗液進行顯影處理。顯影工藝中，軟烘時間與溫度、顯影液濃度、時間、溫度以及顯影方法都對顯影結(jié)果產(chǎn)生一定的影響。需要所有的參數(shù)進行測試后，選擇工藝參數(shù)。
常見的顯影異常為：
（1）顯影不全。顯影不夠深導致晶圓表面還殘留需清除的光刻膠，由于顯影液不足造成；
（2）顯影不充分，顯影的側(cè)壁不垂直，開孔的側(cè)面出現(xiàn)內(nèi)凹，主要由于顯影時間不足造成；
（3）過顯影問題，靠近表面的光刻膠被顯影液過度溶解，形成臺階，顯影時間太長導致。顯影時間過長或者顯影液過多容易使得周圍光刻膠太薄，導致刻蝕中的斷裂或翹起。另外，維修過程中，一定注意非黃光的使用。避免因不正確的照射引起工藝問題。
4、熱烘異常：軟烘的主要參數(shù)是時間和溫度，二者會影響圖形定義好壞和刻蝕工藝中光刻膠與晶圓表面黏結(jié)性的質(zhì)量。軟烘時間或溫度異常，可能會導致膠膜出現(xiàn)龜裂；軟烘腔體內(nèi)的排氣不暢，會影響膠膜厚度的均勻性。烘烤不足，會減弱光刻膠的強度，降低針孔填充能力，降低與基底的黏附能力。烘烤過度則引起光刻膠的流動，使圖形精度降低，分辨率變差。

光刻膠涂布工藝

光刻膠需要在晶圓上形成均勻厚度的一層薄膜。薄膜形成使用的是對晶圓一片一片處理的單片式設(shè)備。旋轉(zhuǎn)涂膠設(shè)備將真空用真空吸盤固定，表面向上，再滴入一定量的光刻膠，然后高速旋轉(zhuǎn)晶圓，直至薄膜厚度均勻。

根據(jù)轉(zhuǎn)速和光刻膠黏度可以調(diào)整光刻膠薄膜厚度，一般來說，轉(zhuǎn)速越高薄膜厚度越薄，光刻膠黏度越高薄膜厚度越厚。

光刻膠涂布的實際情況

由于光刻膠在空氣中放置會干燥并變成固體，因此在晶圓上涂膠前，要從噴嘴中丟棄少量光刻膠，保證一直能滴落新鮮的光刻膠。

在晶圓上均勻地涂上光刻膠膜是必要的，晶圓邊緣會出現(xiàn)膜稍微變厚的部分，稱為邊緣堆積。為了減少這種情況，要進行邊緣沖洗，還要設(shè)置背面沖洗功能，以防止光刻膠倒流到晶圓背面。沖洗功能如下圖：

500*500方片玻璃片勻膠機