智能制造網>產品庫>儀器儀表>儀表>其它儀表及相關>>脈沖電子束沉積系統(tǒng)

脈沖電子束沉積系統(tǒng)

參考價	面議

參考價

面議

具體成交價以合同協議為準

公司名稱北京正通遠恒科技有限公司
品牌其他品牌
型號Pioneer180
所在地北京市
廠商性質代理商
更新時間2024/4/23 14:47:35
訪問次數639

產品標簽:

MBE PED 脈沖電子束激光分子束

在線詢價收藏產品點擊查看電話

聯系我們時請說明是智能制造網上看到的信息，謝謝!

索取相關資料

公司介紹主營產品

北京正通遠恒科技有限公司成立于2001年，是一家經營歐美等國*科學測試儀器和設備，并將*進技術引入國內的科技服務型企業(yè)。目前，公司在北京、上海、廣州、深圳、合肥均設有辦事處。

公司用受人尊敬的、專業(yè)的方式來經營公司的業(yè)務（HONOPROF comes from our philosophy---- doing business in an HONOurable and PROFessional way）。

公司的主營儀器包括：分子相互作用分析儀器、機器視覺儀器、表/界面分析測試儀器、界面/混凝土流變儀、薄膜沉積與表征儀器等。

公司愿景：公司愿意成為深刻了解客戶心理、全面滿足客戶需求，以應用為基礎的專業(yè)儀器設備供應商、專有技術提供商，實現公司在行業(yè)內的超常規(guī)發(fā)展。

展開顯示更多內容

分子相互作用分析儀器，機器視覺儀器，表/界面分析測試儀器，界面/混凝土流變儀，薄膜沉積與表征儀器等

產品簡介在線詢價

脈沖電子束沉積系統(tǒng)是高能脈沖（100ns）電子束（約1000 A,15 keV）在靶材上穿透將近1 um，使靶材快速蒸發(fā)形成等離子體。對靶材的非平衡提?。疲┦沟入x子體的組成與靶材的化學計量組成*。在一定條件下，靶材的化學計量與沉積薄膜的保持*。所有的固態(tài)材料如金屬、半導體和絕緣體等都可以用PED 技術沉積各自的薄膜。

脈沖電子束沉積系統(tǒng) 產品信息

產品簡介

脈沖電子束沉積（Pulsed Electron Deposition）系統(tǒng)能發(fā)射高能脈沖(100ns) 電子束( 約1000 A,15 keV) 在靶材上穿透將近1 um，使靶材快速蒸發(fā)形成等離子體。在靶材上的非平衡提?。疲┠苁沟入x子體的組成與靶材的化學計量組成一致。在最\佳條件下，靶材的化學計量與沉積薄膜可以保持一致。所有的固態(tài)材料如金屬、半導體和絕緣體等都可以用PED 技術沉積各自的薄膜。

產品特點

* 獨立的交鑰匙脈沖電子束沉積系統(tǒng)PED
* 外延薄膜沉積，多層異質結構（heterostructures）與超晶格
* 氧化物薄膜沉積時氧氣兼容
* 升級選項：離子輔助PED, 連續(xù)組份沉積PED, 進樣系統(tǒng)load-lock
* 可附加的沉積源：脈沖激光與射頻/ 直流濺射
* 集成XPS/ARPES UHV 集群系統(tǒng)，原位高真空基片傳送系統(tǒng)

脈沖電子束沉積系統(tǒng)PED沉積的代表性材料示例
* 高溫超導(HTS) YBCO( 和GdBCO) 薄膜
* 順電(Ba-SrTiO₃) 薄膜
* 金屬氧化物(SrRuO₃) 薄膜
* 隔熱/ 音玻璃(SiO₂) 膜和Al₂O₃ 膜
* 聚四氟乙烯(PTFE) 薄膜

技術指標

真空腔	18" 直徑的球形腔體 8"CF 窗口 6.75"CF PED 源窗口 3 個6"CF 窗額外的2.75" 與1.33"CF 窗口	PED源	電子槍能量：8-20 keV 脈沖能量：大能量800 mJ 小能量100 mJ 工藝氣體壓強: 3-20 mTorr 工藝氣體: 氧氣，氮氣，氬氣脈沖能量變化: ±10% 脈沖寬度: 100 ns 大重復率: 10Hz at 15kV,5Hz at 20kV 小束截面: 8 x10-2 cm2 大能量密度 :1.3 x 108 W/cm2 Z 向對準范圍: 50 mm XY 向對準范偉: +/- 20 mm 火花塞壽命 ~3x107 脈沖
基片加熱器	大直徑2"，小10x10mm2 大溫度：850 ℃ 基片旋轉：1-30 RPM（360° 旋轉）基片加熱器：兼容1 個大氣壓的氧壓加熱器溫度通過可編程的PID 控制
多靶材旋轉臺	6 個1" 的靶材或3 個2" 的靶材靶材旋轉：360° 連續(xù)旋轉(1-20 RPM) 靶材柵格式掃描 *的靶材柵格化燒蝕方案靶材索引，鍍多層薄膜靶材高度可調靶材擋板避免靶材間的交叉污染提供連續(xù)組成擴展/ 組合PED 的能力	PED系統(tǒng)軟件	Windows 7, LabVIEW 2013 控制基片加熱臺控制靶材公轉臺控制真空泵控制質量流量計? 外部的PED 源觸發(fā)器可選的工藝自動化選項
真空泵	干泵，渦輪分子泵本底真空壓強：標準配置8 x 10-8 Torr 渦輪分子泵轉速由軟件控制