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大尺寸脈沖激光沉積系統(tǒng)

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面議

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱北京正通遠(yuǎn)恒科技有限公司
品牌其他品牌
型號Large-Area
所在地北京市
廠商性質(zhì)代理商
更新時間2024/5/9 13:03:22
訪問次數(shù)403

產(chǎn)品標(biāo)簽:

PLD 薄膜沉積分子束外延分析系統(tǒng)

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公司介紹主營產(chǎn)品

北京正通遠(yuǎn)恒科技有限公司成立于2001年，是一家經(jīng)營歐美等國*科學(xué)測試儀器和設(shè)備，并將*進(jìn)技術(shù)引入國內(nèi)的科技服務(wù)型企業(yè)。目前，公司在北京、上海、廣州、深圳、合肥均設(shè)有辦事處。

公司用受人尊敬的、專業(yè)的方式來經(jīng)營公司的業(yè)務(wù)（HONOPROF comes from our philosophy---- doing business in an HONOurable and PROFessional way）。

公司的主營儀器包括：分子相互作用分析儀器、機(jī)器視覺儀器、表/界面分析測試儀器、界面/混凝土流變儀、薄膜沉積與表征儀器等。

公司愿景：公司愿意成為深刻了解客戶心理、全面滿足客戶需求，以應(yīng)用為基礎(chǔ)的專業(yè)儀器設(shè)備供應(yīng)商、專有技術(shù)提供商，實(shí)現(xiàn)公司在行業(yè)內(nèi)的超常規(guī)發(fā)展。

展開顯示更多內(nèi)容

分子相互作用分析儀器，機(jī)器視覺儀器，表/界面分析測試儀器，界面/混凝土流變儀，薄膜沉積與表征儀器等

產(chǎn)品簡介在線詢價

大尺寸脈沖激光沉積系統(tǒng)：
?全自動大尺寸PLD系統(tǒng)
?晶圓尺寸:4 “（100毫米），6 “（150毫米）和8 “（200毫米）直徑
?外延薄膜、多層異質(zhì)結(jié)構(gòu)和超晶格的沉積
?高溫下氧化膜沉積的氧相容性
?自動激光掃描厚度均勻性

大尺寸脈沖激光沉積系統(tǒng) 產(chǎn)品信息

產(chǎn)品簡介

Neocera大尺寸PLD系統(tǒng)用于在各種襯底上沉積各種高質(zhì)量的薄膜，晶圓（wafer）直徑可達(dá)8 "(200毫米)?；D(zhuǎn)結(jié)合激光掃描提供整個晶圓區(qū)域的厚度均勻性。激光束掃描附件采用了獨(dú)\特的Neocera設(shè)計(jì)，當(dāng)激光束掃描時，可以在目標(biāo)上產(chǎn)生固定的激光通量(J/cm2)。當(dāng)激光束通過目標(biāo)表面掃描時，激光束掃描使用獨(dú)\特的掃描程序。激光位置在目標(biāo)上的停留時間遵循逆速度程序，促進(jìn)了薄膜厚度的良好控制。用戶可以控制掃描參數(shù)的必要改變，厚度輪廓取決于沉積壓力。

產(chǎn)品特點(diǎn)

•全自動大尺寸PLD系統(tǒng)

•晶圓尺寸:4 "(100毫米)，6 "(150毫米)和8 "(200毫米)直徑

•外延薄膜、多層異質(zhì)結(jié)構(gòu)和超晶格的沉積

•高溫下氧化膜沉積的氧相容性

•自動激光掃描厚度均勻性

技術(shù)參數(shù)

1.襯底尺寸:(直徑)4 " (100mm)，6 " (150mm)和8 " (200mn)

2.PLD腔室尺寸:18英寸直徑球體或圓柱體。

3.襯底加熱:850 ℃(4 "wafers))，750℃(6 "wafers)，700℃(8" wafers)

4.目標(biāo)旋轉(zhuǎn): 直徑4 × 2"

5.厚度均勻性: ±5%或更好。