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激光分子束外延分析系統(tǒng)

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具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱北京正通遠(yuǎn)恒科技有限公司
品牌其他品牌
型號(hào)180LaserMB
所在地北京市
廠商性質(zhì)代理商
更新時(shí)間2024/5/9 13:14:06
訪問(wèn)次數(shù)367

產(chǎn)品標(biāo)簽:

PLD 薄膜沉積靶材

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公司介紹主營(yíng)產(chǎn)品

北京正通遠(yuǎn)恒科技有限公司成立于2001年，是一家經(jīng)營(yíng)歐美等國(guó)*科學(xué)測(cè)試儀器和設(shè)備，并將*進(jìn)技術(shù)引入國(guó)內(nèi)的科技服務(wù)型企業(yè)。目前，公司在北京、上海、廣州、深圳、合肥均設(shè)有辦事處。

公司用受人尊敬的、專業(yè)的方式來(lái)經(jīng)營(yíng)公司的業(yè)務(wù)（HONOPROF comes from our philosophy---- doing business in an HONOurable and PROFessional way）。

公司的主營(yíng)儀器包括：分子相互作用分析儀器、機(jī)器視覺(jué)儀器、表/界面分析測(cè)試儀器、界面/混凝土流變儀、薄膜沉積與表征儀器等。

公司愿景：公司愿意成為深刻了解客戶心理、全面滿足客戶需求，以應(yīng)用為基礎(chǔ)的專業(yè)儀器設(shè)備供應(yīng)商、專有技術(shù)提供商，實(shí)現(xiàn)公司在行業(yè)內(nèi)的超常規(guī)發(fā)展。

展開(kāi)顯示更多內(nèi)容

分子相互作用分析儀器，機(jī)器視覺(jué)儀器，表/界面分析測(cè)試儀器，界面/混凝土流變儀，薄膜沉積與表征儀器等

產(chǎn)品簡(jiǎn)介在線詢價(jià)

激光分子束外延分析系統(tǒng)180 Laser MBE/PLD：
獨(dú)立的MAPLE PLD系統(tǒng)
有機(jī)和聚合物薄膜的沉積
在同一室的附加沉積源（可選）: 脈沖電子沉積（PED），射頻/直流濺射和直流離子源
Load-lockable襯底階段
與XPS分析系統(tǒng)集成，直接將晶片從PLD系統(tǒng)轉(zhuǎn)移到分析系統(tǒng)

激光分子束外延分析系統(tǒng) 產(chǎn)品信息

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

激光 MBE 是普遍采用的術(shù)語(yǔ)，該法是一種納米尺度薄膜合成的理想方法，高真空下的 PLD 與在線工藝監(jiān)測(cè)的反射高能電子衍射（RHEED）的聯(lián)合應(yīng)用，用戶提供了類似于 MBE 的薄膜生長(zhǎng)的單分子水平控制。正確的設(shè)計(jì)是成功使用 RHEED 和 PLD 的重要因數(shù) RHEED 通常在高真空（<10 ^-6 torr）環(huán)境下使用。然而，因?yàn)樵谀承┨厥馇闆r下，PLD 采用較高的壓力，差動(dòng)抽氣是必要的，維持 RHEED 電子槍的工作壓力，同時(shí)保持 500 mTorr 的 PLD 工藝壓力。同時(shí)，設(shè)計(jì)完整的系統(tǒng)消除磁場(chǎng)對(duì)電子束的影響是至關(guān)重要的。Neocera 激光 MBE 系統(tǒng)可以添加客戶定制系統(tǒng)，比如超高真空激光襯底加熱器，用于集成原位分析系統(tǒng)（XPS/ARPERS 等）。樣品可以簡(jiǎn)單地從激光 MBE/PLD 系統(tǒng)傳送到超高真空 XPS/ARPERS等）。樣品可以簡(jiǎn)單地從激光 MBE/PLD 系統(tǒng)傳送到超高真空 XPS/ARPERS 系統(tǒng)。

我們會(huì)根據(jù)客戶需求提供優(yōu)質(zhì)的脈沖激光沉積方案和專業(yè)的技術(shù)服務(wù)。

產(chǎn)品特點(diǎn)

獨(dú)立的MAPLE PLD系統(tǒng)
有機(jī)和聚合物薄膜的沉積
在同一室的附加沉積源(可選): 脈沖電子沉積(PED)，射頻/直流濺射和直流離子源
Load-lockable襯底階段
與XPS分析系統(tǒng)集成，直接將晶片從PLD系統(tǒng)轉(zhuǎn)移到分析系統(tǒng)

技術(shù)參數(shù)

1.PLD腔尺寸:12 " /18 "直徑(Pioneer 120-Advanced/ Pioneer 180型號(hào))

2.襯底尺寸:1厘米× 1厘米(激光加熱器) ; 直徑2”(輻射加熱器)

3.襯底加熱:1000 ℃(激光加熱器)；850℃(輻射加熱器)

4. 目標(biāo)旋轉(zhuǎn)：直徑 6 x 1 "或3 x 2 "

5.工業(yè)氣體:氧氣和氮?dú)?00 SCCM的mfc

6. 軟件:Windows 7/Labview 2013

7. RHEED電子槍與軟件:a.射柱電壓：30keV；b.運(yùn)行壓力:500 mTorr/氧；c. RHEED屏幕/快門。d. CCD攝像機(jī)和數(shù)據(jù)采集軟件