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高級型脈沖激光沉積系統(tǒng)

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具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱北京正通遠(yuǎn)恒科技有限公司
品牌其他品牌
型號Pioneer120
所在地國外
廠商性質(zhì)代理商
更新時(shí)間2024/5/9 13:17:45
訪問次數(shù)520

產(chǎn)品標(biāo)簽:

分子束外延系統(tǒng)MBE

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公司介紹主營產(chǎn)品

北京正通遠(yuǎn)恒科技有限公司成立于2001年，是一家經(jīng)營歐美等國*科學(xué)測試儀器和設(shè)備，并將*進(jìn)技術(shù)引入國內(nèi)的科技服務(wù)型企業(yè)。目前，公司在北京、上海、廣州、深圳、合肥均設(shè)有辦事處。

公司用受人尊敬的、專業(yè)的方式來經(jīng)營公司的業(yè)務(wù)（HONOPROF comes from our philosophy---- doing business in an HONOurable and PROFessional way）。

公司的主營儀器包括：分子相互作用分析儀器、機(jī)器視覺儀器、表/界面分析測試儀器、界面/混凝土流變儀、薄膜沉積與表征儀器等。

公司愿景：公司愿意成為深刻了解客戶心理、全面滿足客戶需求，以應(yīng)用為基礎(chǔ)的專業(yè)儀器設(shè)備供應(yīng)商、專有技術(shù)提供商，實(shí)現(xiàn)公司在行業(yè)內(nèi)的超常規(guī)發(fā)展。

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分子相互作用分析儀器，機(jī)器視覺儀器，表/界面分析測試儀器，界面/混凝土流變儀，薄膜沉積與表征儀器等

產(chǎn)品簡介在線詢價(jià)

高級型脈沖激光沉積系統(tǒng):這個脈沖激光沉積系統(tǒng)包括一個自動多目標(biāo)轉(zhuǎn)盤，帶有目標(biāo)旋轉(zhuǎn)、目標(biāo)光柵和軟件控制的多層和超晶格沉積所需的目標(biāo)選擇。閉環(huán)壓力控制提供了使用質(zhì)量流量控制器的精確過程壓力控制。干式泵是由機(jī)械隔膜泵或渦旋泵支持的渦輪分子泵組合而成。該系統(tǒng)軟件（Windows 7, LabView 2013）控制基材加熱器、目標(biāo)轉(zhuǎn)盤、過程壓力、系統(tǒng)泵和激光觸發(fā)。由于襯底可以轉(zhuǎn)移，可進(jìn)行多種選擇。

高級型脈沖激光沉積系統(tǒng) 產(chǎn)品信息

產(chǎn)品簡介

Pioneer 120 Advanced PLD System 是一個用于制備高質(zhì)量的外延薄膜獨(dú)立的系統(tǒng)、多層異質(zhì)結(jié)構(gòu)和各種材料的超晶格。這個PLD系統(tǒng)和the Pioneer 120 PLD System 的主要區(qū)別是襯底加熱階段。先鋒120采用導(dǎo)電加熱階段，而Pioneer 120 Advanced PLD System 采用輻射加熱階段。加熱器可兼容1大氣壓(760托)的氧氣，這是一特性用于制備外延氧化膜，需要(i)沉積在氧氣中，(ii)沉積后退火在氧氣中，以及在接近1大氣壓的氧氣中冷卻。由于基底不與加熱器直接連接，可以連續(xù)旋轉(zhuǎn)360度。襯底也可以負(fù)載鎖定。

這個脈沖激光沉積系統(tǒng)包括一個自動多目標(biāo)轉(zhuǎn)盤，帶有目標(biāo)旋轉(zhuǎn)、目標(biāo)光柵和軟件控制的多層和超晶格沉積所需的目標(biāo)選擇。閉環(huán)壓力控制提供了使用質(zhì)量流量控制器的精確過程壓力控制。干式泵是由機(jī)械隔膜泵或渦旋泵支持的渦輪分子泵組合而成。該系統(tǒng)軟件(Windows 7, LabView 2013) 控制基材加熱器、目標(biāo)轉(zhuǎn)盤、過程壓力、系統(tǒng)泵和激光觸發(fā)。由于襯底可以轉(zhuǎn)移，可進(jìn)行多種選擇。這些包括但不限于將PLD系統(tǒng)與各種其他沉積平臺(如超高真空濺踱系統(tǒng))集成，也與超高真空分析系統(tǒng)(如XPS/ARPES等)集成。

產(chǎn)品特點(diǎn)

獨(dú)立的交鑰匙PLD系統(tǒng)。

外延薄膜、多層異質(zhì)結(jié)構(gòu)和超晶格的沉積。

利用原位RHEED診斷技術(shù)沉積納米級薄膜。

氧化膜沉積的氧相容性。

升級:負(fù)載鎖定，激光加熱器，RF/DC濺射，組合PLD

與超高真空濺踱系統(tǒng)集成。

與XPS /ARPES超高真空集群工具集成。

技術(shù)指標(biāo)

襯底尺寸：10mm x10mm到直徑2英寸

沉積室：直徑12英寸

基地真空：5 x 10^-7 Torr標(biāo)準(zhǔn)；5 x 10^-9 Torr，超高真空升級