另外,根據(jù)需要,我們還能夠在測(cè)量區(qū)域下安裝攪拌裝置stirrer,提供力學(xué)激勵(lì)振動(dòng)。
我們還特意為該薄膜溶解測(cè)量?jī)x提供垂直的樣品夾具,以固定小尺寸的硅樣品或3'',4''直徑的Si 晶圓。
薄膜溶解測(cè)量?jī)x根據(jù)溶解過程的不同,如溶解速度的不同,該薄膜溶解測(cè)試儀能夠以實(shí)時(shí)或離線的方式測(cè)量,反射率數(shù)據(jù)都能夠存儲(chǔ)下來以便后續(xù)處理使用。
這套薄膜溶解測(cè)量?jī)x,還能夠測(cè)量幾十個(gè)納米厚度的光致抗蝕劑和聚合物薄膜堆的溶解過程。薄膜溶解測(cè)試儀而且還可以測(cè)量薄膜的膨脹等特殊現(xiàn)象。
對(duì)于薄膜厚度的測(cè)量,薄膜溶解測(cè)厚儀需要光滑,具有反射性的襯底,對(duì)于光學(xué)常數(shù)測(cè)量,平整的反射襯底即可滿足測(cè)量需要。如果襯底是透明的,襯底的背面不能具有反射性。該薄膜溶解分析儀能夠給出兩個(gè)參數(shù):例如兩個(gè)薄膜的厚度或一個(gè)薄膜的厚度和光學(xué)常量。
這套薄膜溶解測(cè)厚儀已經(jīng)成功應(yīng)用于測(cè)量反射襯底(Si晶圓)上各種光滑,透明或輕度吸收薄膜的溶解過程,可研究的薄膜包括SiO2薄膜,SiNx薄膜,光致抗蝕劑薄膜,聚合物薄膜層等。
薄膜溶解測(cè)厚儀標(biāo)準(zhǔn)參數(shù)
可測(cè)膜厚: 5nm-150微米;
波長(zhǎng)范圍:200-1100nm
精度:0.5%
分辨率:0.02nm
測(cè)量點(diǎn)光斑大?。?.5mm
可測(cè)樣品大?。?0-100mm
計(jì)算機(jī)要求:Windows XP, vista, Win7均可,USB接口;
尺寸:360x400x180mm
重量:15kg
電力要求:110/230VAC
薄膜溶解測(cè)厚儀應(yīng)用:
聚合物薄膜
光致抗蝕劑薄膜測(cè)量
化學(xué)和生物薄膜測(cè)量,傳感測(cè)量
光電子薄膜結(jié)構(gòu)測(cè)量
在線測(cè)量
光學(xué)鍍膜測(cè)量
能夠以實(shí)時(shí)或離線的方式測(cè)量,反射率數(shù)據(jù)都能夠存儲(chǔ)下來以便后續(xù)處理使用。
這款薄膜溶解測(cè)量?jī)x用于實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)薄膜在液體中的薄膜厚度和光學(xué)常量(n, k)的變化,是測(cè)量薄膜溶解速度的薄膜溶解分析儀.