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      行業(yè)產(chǎn)品
      
							
						
      
						
        
							
      • 行業(yè)產(chǎn)品
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      塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司
                                
                
                
      

							
      
                        			
      
		
      
	
      
	
	
      
		
      
            
      
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      日本DNK科研曝光機(jī)MX-1201E光刻機(jī)
      
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      參  考  價(jià)面議  
      
					                    
      具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
      
				
      
				
				
      
						
      
							
      產(chǎn)品型號(hào)
      
							
      品       牌
      
		                    
      廠商性質(zhì)其他
      
		                    							
      所  在  地
      
						
      
                        
                    
      
					 							        										
      聯(lián)系方式：黃羅龍查看聯(lián)系方式
      
									                                                 
      
						
      
							
      
								更新時(shí)間：2023-07-20 18:07:01瀏覽次數(shù)：213次
							
      
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                    產(chǎn)品簡介
                
      
				
      
                      
      
                                                                      
      
					
      簡單介紹：                            主要特長能夠用于研究開發(fā)、試作、小批量生產(chǎn)等的直描曝光。能夠?qū)?yīng)半導(dǎo)體、電子零件、優(yōu)異PCB、高密度封裝件、MEMS、FPD等的曝光。由于在光刻工藝中不需要掩膜，因而可以*大限度地降低開發(fā)成本和縮短市場(chǎng)供應(yīng)時(shí)間。此外,還可以根據(jù)客戶需求,提供相應(yīng)的裝置構(gòu)造。
      
				
      
				
      
                    詳細(xì)介紹
                
      
			    
      
			        
      
			                     
                   詳情介紹：         
               
                   
       光刻機(jī)介紹 
       
       曝光裝置  MA-1200 基板追大尺寸 200 x 200mm ?4″ ～ ?6″   
       
       光源 超高壓水銀燈 ：500W or 1kW  
       
       曝光裝置 MA-1400  基板追大尺寸400 x 400mm  
       
       光源 超高壓水銀燈 ：2kW or 3.5kW  
       
       LED,LN曝光裝置MA-4000 圓晶尺寸?2～4″或者?4～6″  
       
       光源 超高壓汞燈：500W 或 1kW  
       
       ?200mm/?150 mm 對(duì)應(yīng)曝光裝置MA-4301M   材料SI 玻璃， 對(duì)齊精度自動(dòng)對(duì)齊：+/- 1 μm（
       峰值搜索）        
       
       ?300mm對(duì)應(yīng)曝光裝置MA-5301ML  光源超高壓汞燈：3.5kW  ?200mm規(guī)格也可對(duì)應(yīng)  
       
       マスクレス露光裝置MX-1201 曝光掃描速度43.94mm/s  有效曝光區(qū)域200 x 200 追大曝光量（※3）245/70/245+70
       マスクレス露光裝置MX-1201E  曝光掃描速度22.5mm/s  有效曝光區(qū)域200 x 200 追大曝光量（※3）460/70135        
       
       マスクレス露光裝置MX-1205  曝光掃描速度9/4.5mm/s  有效曝光區(qū)域100 x 100 追大曝光量（※3）100/50  
       
          
       
       
       
       
       
       主要規(guī)格 
       
       
        
        型式   MX-1201   MX-1201E   MX-1205  
               
        *小線幅 (※1)   [μm]   5   3   2   1  
       
        數(shù)據(jù)分辨率   [μm]   0.488   0.25   0.1   0.05  
       
        *大基板尺寸   [mm]   200 x 200   200 x 200   100 x 100  
       
        有效曝光范圍   [mm]   200 x 200   200 x 200   100 x 100  
       
        激光主波長   [nm]   405   375   405 + 375   405   375   375  
       
        曝光掃描速度   [mm/s]   43.94   22.5   9   4.5  
       
        節(jié)拍時(shí)間   [s,min]   180 [s]   320 [s]   16 [min]   27 [min]  
       
        *大曝光量   [mJ/c㎡]   245   70   245 + 70   460   135   50   100  
              
       

       
         
       
         
               
           
			        
      
			    
      
                                                				
			
      
			
      
		
      
	
      
	
    
      
		
      
			
      
				
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