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      TS系列 低壓化學(xué)氣相沉積LPCVD

      參考價面議
      具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
      • 公司名稱上海德竹芯源科技有限公司
      • 品       牌
      • 型       號TS系列LPCV
      • 所  在  地上海
      • 廠商性質(zhì)其他
      • 更新時間2024/5/15 9:15:55
      • 訪問次數(shù)62
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      上海德竹芯源科技有限公司是一家專注于功率器件、光電器件、射頻器件、量子器件、MEMS傳感器領(lǐng)域的設(shè)備銷售、系統(tǒng)集成、設(shè)備國產(chǎn)化的公司。主要為高校、研究所、中試量產(chǎn)線及晶圓FAB廠提供半導(dǎo)體工藝設(shè)備、檢測設(shè)備、封裝設(shè)備、測試設(shè)備。目前公司已成為國內(nèi)少數(shù)幾家專業(yè)提供半導(dǎo)體工藝、檢測、封裝、測試整體解決方案的企業(yè)。公司主要成員為復(fù)旦大學(xué)、上海微系統(tǒng)所等半導(dǎo)體相關(guān)專業(yè)博士,擁有一支經(jīng)驗(yàn)豐富、技術(shù)過硬的團(tuán)隊(duì)。能夠出色地完成售前售中、售后的服務(wù)。目前公司已與眾多國際半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)建立了良好的合作關(guān)系(如:EVG、SAWNATEC、SENTECH、PICOSUN、SYSKEY、 Mavemn Panalyrical、PHL-CHINA、TEMPRESS,ROHDE&SCHWARZ、MPI等),致力于根據(jù)用戶的科研方向和量產(chǎn)的器件類別提供相應(yīng)的全套設(shè)備選型和工藝整體解決方案。
      無線電綜合測試儀
      低壓化學(xué)氣相淀積(LPCVD)是在低壓條件下通過氣體混合的化學(xué)反應(yīng)在硅片表面淀積一層固體膜的工藝。例如:氮化硅薄膜淀積、多晶硅薄膜淀積、非晶硅薄膜淀積、二氧化硅薄膜淀積等。
      TS系列 低壓化學(xué)氣相沉積LPCVD 產(chǎn)品信息

      適用于氮化硅工藝 – 標(biāo)準(zhǔn)和低應(yīng)力工藝

      適用于摻雜、非摻雜多晶硅工藝

      適用于摻雜、非摻雜 TEOS 工藝

      適用于摻雜、非摻雜 LTO/ HTO

      支持 6 ~ 12 寸的晶圓

      有保證的工藝指標(biāo)

      可提供所有標(biāo)準(zhǔn)工藝和定制化工藝


      主要系統(tǒng)特性

      在一個系統(tǒng)中進(jìn)行原位氧化和多晶沉積

      提供固有和原位摻雜聚工藝

      高批量負(fù)載

      高達(dá) 210mm 的晶圓尺寸


      客戶利益

      的鈍化 iVoc > 整個負(fù)載下 730 mW

      通過高系統(tǒng)吞吐量實(shí)現(xiàn)低的 CoO

      在大批量生產(chǎn)中久經(jīng)考驗(yàn)的 TOPCon 生產(chǎn)解決方案

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