主要特點(diǎn)及參數(shù)

● 高效率：采用的光學(xué)技術(shù)，縮短了生產(chǎn)周期，提高了生產(chǎn)效率

● 高精度：通過對(duì)光學(xué)系統(tǒng)的精細(xì)調(diào)整，保證圖像的精確性

● 易操作：系統(tǒng)控制簡單方便，易于生產(chǎn)操作

● 設(shè)備安全：系統(tǒng)采用安全設(shè)計(jì)，確保生產(chǎn)過程中的人員和設(shè)備安全

● 技術(shù)支持：提供專業(yè)的技術(shù)支持和售后服務(wù)，保證系統(tǒng)的正常使用

● 光刻材料：支持多種光刻材料，包括硅片、玻璃片、聚碳酸酯等

● 半導(dǎo)體工藝：支持常用的半導(dǎo)體工藝，如薄膜沉積、光刻、蝕刻等

● 光刻工具：支持常用的光刻工具，如光刻掩膜、光刻模板等

● 分辨率：可達(dá)到 100 nm

● 工作面積：620 mm × 620 mm

● 光源：KrF 激光

● 光路系統(tǒng)：F-Theta 鏡

EVG 620NT 光刻機(jī)的工藝過程大致如下：

1. 材料準(zhǔn)備：選擇適當(dāng)?shù)墓饪滩牧?，如硅片、玻璃片等，進(jìn)行表面處理

2. 掩膜制作：根據(jù)生產(chǎn)要求，制作光刻掩膜，并確保掩膜的精確性

3. 樣品處理：將樣品固定在工作臺(tái)上，并確保樣品的穩(wěn)定性

4. 光刻操作：打開光刻機(jī)，根據(jù)生產(chǎn)要求，對(duì)樣品進(jìn)行光刻處理

5. 樣品檢查：檢查樣品的質(zhì)量，確保其符合生產(chǎn)要求