光刻機介紹
曝光裝置 MA-1200 基板追大尺寸 200 x 200mm ?4″ ~ ?6″
光源 超高壓水銀燈 :500W or 1kW
曝光裝置 MA-1400 基板追大尺寸400 x 400mm
光源 超高壓水銀燈 :2kW or 3.5kW
LED,LN曝光裝置MA-4000 圓晶尺寸?2~4″或者?4~6″
光源 超高壓汞燈:500W 或 1kW
?200mm/?150 mm 對應曝光裝置MA-4301M 材料SI 玻璃, 對齊精度自動對齊:+/- 1 μm(
峰值搜索)
?300mm對應曝光裝置MA-5301ML 光源超高壓汞燈:3.5kW ?200mm規(guī)格也可對應
マスクレス露光裝置MX-1201 曝光掃描速度43.94mm/s 有效曝光區(qū)域200 x 200 追大曝光量(※3)245/70/245+70
マスクレス露光裝置MX-1201E 曝光掃描速度22.5mm/s 有效曝光區(qū)域200 x 200 追大曝光量(※3)460/70135
マスクレス露光裝置MX-1205 曝光掃描速度9/4.5mm/s 有效曝光區(qū)域100 x 100 追大曝光量(※3)100/50
主要用途
- 觸摸屏、電子紙、光學膠片(3D等)、有機EL、鋰離子電池、太陽能電池、印刷線路板
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適合觸摸屏、電子紙、光學膠片(3D等)、有機EL用掩膜等膠片形狀基材的曝光機。對應Roll to Roll,可實現(xiàn)軟性、薄型、輕量基材的大量生產(chǎn)。