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      日本DNK科研曝光機(jī)MA-4301M光刻機(jī)

      參考價(jià)面議
      具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
      • 公司名稱塔瑪薩崎電子(蘇州)有限公司
      • 品       牌
      • 型       號(hào)
      • 所  在  地
      • 廠商性質(zhì)其他
      • 更新時(shí)間2023/7/23 13:44:12
      • 訪問次數(shù)288
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      經(jīng)營理念 堅(jiān)持以人為本,與員工共進(jìn)步,與客戶共攜手,與社會(huì)共生存,以實(shí)現(xiàn)“共存”為**目標(biāo)。 服務(wù)理念:熱情、專注 社長致詞 玉崎株式會(huì)社創(chuàng)立于平成15年,專業(yè)從事光學(xué)設(shè)備銷售,經(jīng)過幾年發(fā)展,項(xiàng)目也在不斷增加,公司開始進(jìn)駐海外市場,深圳市京都玉崎電子有限公司,是玉崎株式會(huì)社全資設(shè)立的中國子公司,專業(yè)從事國內(nèi)貿(mào)易/國際貿(mào)易業(yè)務(wù),主要經(jīng)營光學(xué)設(shè)備、電子計(jì)測儀器、科學(xué)儀器、機(jī)械加工設(shè)備、環(huán)境試驗(yàn)設(shè)備、PC周邊用品、作業(yè)工具用品、電源、化學(xué)用品、FA自動(dòng)化類上萬種產(chǎn)品的銷售。公司憑借雄厚的總公司資本實(shí)力,熟練的運(yùn)營能力,完善的供應(yīng)鏈及電子商務(wù)的銷售模式,為客戶搭建一個(gè)產(chǎn)品上等、種類齊全、價(jià)格實(shí)惠的銷售平臺(tái)。 公司擁有專業(yè)的銷售團(tuán)隊(duì)、技術(shù)團(tuán)隊(duì)、開發(fā)團(tuán)隊(duì)、**的管理團(tuán)隊(duì),通過全員上下不懈地努力,憑借在工業(yè)品領(lǐng)域的專業(yè)水平和成熟技術(shù),公司在消費(fèi)電子、半導(dǎo)體、汽車行業(yè)迅速崛起,目前已在深圳、北京、上海、蘇州、重慶、成都等地設(shè)立了6家分公司。中國其他省市的分公司已在積極籌建之中。 目前已與海外廠商建立了長期穩(wěn)定的合作關(guān)系,已獲取認(rèn)證的品牌有代理日本品牌:OTSUKA大塚電子(薄膜測厚儀、偏光片檢測、納米粒度分析儀、ZATA電位儀、相位差膜·光學(xué)材料檢查設(shè)備、液晶層間隙量測設(shè)備等)、東機(jī)產(chǎn)業(yè)(粘度計(jì))、CCS(視檢查光源)、Aitec(視檢查光源)、REVOX萊寶克斯(視檢查光源)、EYE巖崎(UV汞燈)、索尼克(風(fēng)速計(jì)、流量計(jì)等)、坂口電熱(加熱器、制冷片)、NEWKON新光(針孔機(jī))、富士端子(各種形狀端子,料多可定制)、NS精密科學(xué)(柱塞泵、高壓耐腐蝕防爆泵)。憑借專業(yè)銷售代理的經(jīng)驗(yàn),成熟的產(chǎn)品,贏得了廣大客戶的信任。并將的信息技術(shù)、高科技產(chǎn)品,快速、高效的供應(yīng)給客戶,為中國各地企業(yè)、工廠、以及個(gè)人用戶提供上等的產(chǎn)品和上等的服務(wù)。 京都玉崎公司恪守“誠信、品質(zhì)、快速、貼心”的服務(wù)宗旨,建立了完善的運(yùn)營管理體系和*的IT基礎(chǔ)設(shè)施,在滿足不斷增長的服務(wù)需求的同時(shí),通過減少中間環(huán)節(jié),并提供便利的配送服務(wù),將實(shí)惠和安心送到每個(gè)客戶手中。
      簡單介紹: 主要特長利用本公司開創(chuàng)的高速圖像處理技術(shù), 實(shí)現(xiàn)了Wafer與掩膜的高精度對(duì)位。裝載機(jī)側(cè)和卸載機(jī)側(cè)*多可設(shè)置兩個(gè)籃具(選購項(xiàng))。備有冷卻機(jī)構(gòu),可進(jìn)行基板臺(tái)與掩膜的溫度管理(選購項(xiàng))。搭載本公司開創(chuàng)的鏡面光學(xué)系統(tǒng)爆光燈房(LAMP HOUSE)。從而實(shí)現(xiàn)了照射面內(nèi)的均勻性以及高照度。搭載非接觸預(yù)對(duì)位系統(tǒng)(PREALIGNER)。從而實(shí)現(xiàn)了高精度進(jìn)給且保證基板不受任何損傷。搭載有自動(dòng)掩膜更換機(jī)。并可支持掩膜存放庫。
      日本DNK科研曝光機(jī)MA-4301M光刻機(jī) 產(chǎn)品信息
      詳情介紹:

      光刻機(jī)介紹

      曝光裝置  MA-1200 基板追大尺寸 200 x 200mm ?4″ ~ ?6″ 

      光源 超高壓水銀燈 :500W or 1kW

      曝光裝置 MA-1400  基板追大尺寸400 x 400mm

      光源 超高壓水銀燈 :2kW or 3.5kW

      LED,LN曝光裝置MA-4000 圓晶尺寸?2~4″或者?4~6″

      光源 超高壓汞燈:500W 或 1kW

      ?200mm/?150 mm 對(duì)應(yīng)曝光裝置MA-4301M   材料SI 玻璃, 對(duì)齊精度自動(dòng)對(duì)齊:+/- 1 μm(
      峰值搜索)

      ?300mm對(duì)應(yīng)曝光裝置MA-5301ML  光源超高壓汞燈:3.5kW  ?200mm規(guī)格也可對(duì)應(yīng)

      マスクレス露光裝置MX-1201 曝光掃描速度43.94mm/s  有效曝光區(qū)域200 x 200 追大曝光量(※3)245/70/245+70
      マスクレス露光裝置MX-1201E  曝光掃描速度22.5mm/s  有效曝光區(qū)域200 x 200 追大曝光量(※3)460/70135

      マスクレス露光裝置MX-1205  曝光掃描速度9/4.5mm/s  有效曝光區(qū)域100 x 100 追大曝光量(※3)100/50

      主要規(guī)格

        MA-4301M
      Wafer尺寸 材料 Si,Glass
      尺寸 Φ6″ x t0.625 mm(6″ = Φ150 mm) +/- 0.2 mm
      Φ8″ x t0.725 mm(8″ = Φ200 mm) +/- 0.2 mm
      節(jié)拍時(shí)間 Proximity exposure:19 s/wafer
      (One parallelism compensation per lot)
      對(duì)位精度 自動(dòng)對(duì)位:+/- 1 μm
      (Peak search)
      間隙 1 to 200 μm Servo motor
      Setup resolution:1 μm
      曝光方式 Soft contact exposure
      Hard contact exposure
      Proximity exposure
      尺寸?重量 本體尺寸:W 1800 x D 1650 x H 2015 mm
      總重量(including lamp house):1400 kg

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