用于過程監(jiān)測和優(yōu)化產(chǎn)品品質(zhì)的分析設(shè)備
德國普發(fā)真空pfeiffer vacuum氣體質(zhì)譜儀HiQuad™,QMG 700
普發(fā)真空為真空處理過程中的氣體測定提供了各種不同的分析儀。從質(zhì)譜儀到復(fù)雜的分析系統(tǒng),在我們這里您將會找到從超高真空范圍一直到大氣壓力的氣體分析解決方案。四極桿質(zhì)譜儀 PrismaPlus/PrismaPro 是氣體分析Z基礎(chǔ)的設(shè)備。PrismaPlus/Pro 是一個普遍適用的質(zhì)譜儀,其磁場軸技術(shù)保證了高靈敏度。它還具有高效率以及測量速度快的特點(diǎn)。并且 PrismaPlus/Pro 不僅僅顯示各自的分壓,同樣也可以檢測總壓力。它的界面接口使這款質(zhì)譜儀可以很容易地與氣體色譜儀連接。緊湊的設(shè)計(jì),模塊化結(jié)構(gòu)和用戶友好軟件 使其成為泄漏檢測、半導(dǎo)體制造、玻璃鍍膜、冶金化工的理想設(shè)備。另外,在研發(fā)領(lǐng)域也有無數(shù)的應(yīng)用。普發(fā)真空為其客戶在所有這些領(lǐng)域中提供量身定制的解決方案。當(dāng)然,普發(fā)真空還提供所需的質(zhì)譜儀配件,例如各種離子源陰極。
什么是質(zhì)譜儀
質(zhì)譜測量是一種可以用來測量原子和分子質(zhì)量的方法。通過這種方式測量化學(xué)混合物成分的分壓來分析化合物。待分析的物質(zhì)首先被轉(zhuǎn)化為氣態(tài)的聚合狀態(tài)并且發(fā)生電離。電場使離子加速,使得它們在其各自的質(zhì)荷比基礎(chǔ)上被分類和分離。然后測定氣體各種成分的分壓。每個質(zhì)譜儀包括一個離子源、一個質(zhì)量過濾器和一個檢測器。根據(jù)所采用的質(zhì)量過濾器來區(qū)分不同類型的質(zhì)譜儀 。由于其廣泛的應(yīng)用選項(xiàng),四極桿質(zhì)譜儀具有可靠的測量表現(xiàn)。這些分析設(shè)備也經(jīng)常用于真空技術(shù)。
質(zhì)譜儀及其應(yīng)用
四極桿質(zhì)譜儀具有平行排列的四根電極桿,構(gòu)成了四極場。它們的交點(diǎn)與平面垂直于圓柱體軸線,形成一個場(因此命名為四極)。靜態(tài)電場使離子加速以后,離子飛過四極場。桿之間的四極場每次只會允許給定質(zhì)量的一個粒子通過,。四極桿質(zhì)譜儀提供高分辨率版本以簡易版兩種型號供用戶用作殘余氣體分析。由于其頻率范圍寬,這類質(zhì)譜儀可應(yīng)用于眾多領(lǐng)域,包括從藥理學(xué)到環(huán)境分析領(lǐng)域。
HiQuad™,QMG 700,具有 QMA 430,8 mm 不銹鋼棒系統(tǒng)
具有用戶友好 Quadera®軟件的 HiQuad 質(zhì)譜儀系統(tǒng)。帶 HiQuad 控制器、高頻發(fā)電機(jī)和分析儀 QMA,8-mm 不銹鋼棒系統(tǒng)以及 90°-off-axis 次級電子倍增器的規(guī)格。
產(chǎn)品描述
高靈敏度和大動態(tài)范圍
杰出長期穩(wěn)定性
測量速度
產(chǎn)品
HiQuad™,1-300 amu
HiQuad™,1-300 amu
模塊化結(jié)構(gòu)的 HiQuad 質(zhì)譜儀可適合您的使用。以下離子源可供選擇:軸向離子源,格柵離子源,交叉臂離子源和氣密交叉臂離子源。長絲材料:鎢,釔銥,錸控制輸入/輸出模塊 IO 700,通過模擬式和數(shù)字式輸入端/輸出端的信號交換
產(chǎn)品描述
測量速度
杰出長期穩(wěn)定性
內(nèi)置互聯(lián)網(wǎng)瀏覽器和用于與計(jì)算機(jī)程序通訊的 OPC 服務(wù)器
產(chǎn)品
HiQuad™ 具有 QMA 430,1-300 amu,具有交叉束離子源 (PT Q14 021 110)
HiQuad™ 具有 QMA 430,1-300 amu,具有交叉束離子源
概述
HiQuad 質(zhì)譜儀
測量速度,動態(tài)范圍大,靈敏度和杰出長期穩(wěn)定性
偏置離子源形成的低背景信號,場軸技術(shù)形成的低探測界限
Quadera®軟件用以簡單和明了的操作和顯示
借助集成的矩陣計(jì)算確定氣體濃度
技術(shù)參數(shù)
MID 中的測量通道的數(shù)量 | 128 件 |
供應(yīng): 電壓 | 100 – 240 V AC |
分壓比 帶 SEV | < 1 ppb |
分析儀 | QMA 430 |
分辨率,10% 峰值高度時可調(diào)節(jié) | 0.3 - 7 u |
前置放大器 | EP 422 |
加熱溫度:分析儀 | 400 攝氏度 |
對 Ar 的靈敏度:法拉第 | 2 · 10-4 A/hPa |
峰值比的可再現(xiàn)性 | < 0.1 % |
工作溫度:分析儀 | 150 攝氏度 |
工作溫度:電氣設(shè)備 | 5 – 40 攝氏度 |
探測器 | SEV 217/Faraday |
接口 | 以太網(wǎng) |
Z大工作壓力:SEM | 1 · 10-5 百帕 |
Z大工作壓力:法拉第 | 1 · 10-4 百帕 |
桿系統(tǒng):材料 | 不銹鋼 |
桿系統(tǒng):直徑 | 8 毫米 |
桿系統(tǒng):長度 | 200 毫米 |
檢測限 | 2 · 10-15 百帕 |
測量速度:MID | 0.125 ms - 60 s/amu |
測量速度:掃描條形圖 | 0.125 ms - 60 s/amu |
測量速度:模擬掃描 | 0.125 ms - 60 s/amu |
溫度:儲存 | -20 – 60 攝氏度 |
離子源 | 交叉臂,2 陰極 |
離子源供電 | IS 716 |
質(zhì)量范圍 | 1 – 300 u |
軟件 | Quadera® |
輸入數(shù)字 | RUN-In, TTL, 測量循環(huán)啟動 Ext._Protection, 外部觸點(diǎn) |
輸入模擬 | 2 x ± 10 V |
輸出:數(shù)字 | 2 x TTL-Output SYNC-Out, TTL (Trigger) |
輸出:模擬 | 2 x ± 10 V, 12 位 靜電計(jì)輸出端 (EP) |
連接法蘭(入口) | DN 63 CF-F |
陰極 | 鎢 |
高壓供電 | HV 701 |
高頻發(fā)電機(jī) | QMH 400-5 |
尺寸
A
軸向離子源 = 26 mm 格柵離子源 = 27 mm