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      德?lián)P光電有限公司
                                
                
                
      

							
      
                        			
      
		
      
	
      
	
	
      
		
      
            
      
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      全手動光罩對準曝光機
      
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								更新時間：2023-06-22 19:44:36瀏覽次數(shù)：180次
							
      
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      經營模式：其他
      
						
      商鋪產品：6條
      
						
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                    產品簡介
                
      
				
      
                      
      
                                                                      
      
					
      產品簡介： 全手動操作，每一個動作可單獨操作，適合實驗室研究使用或量產前制程開發(fā)使用。
      
				
      
				
      
                    詳細介紹
                
      
			    
      
			        
      
			                  
               
                           
                                    
                
                    
       
      全手動光罩對準曝光機
        
      適合研究單位使用 
        
      產品簡介： 
      全手動操作，每一個動作可單獨操作，適合實驗室研究使用或量產前制程開發(fā)使用。
       
              
           
            
               
      曝光燈源
       
      紫外光源機型有功率 : 350W，500W，1000W，2000W 。
       
      曝光光源尺寸 : 4″，6″，8″，10″，12″，圓或方， 波長: NUV(含365nm， 405nm，435nm) 。
       
      光源平行半角 : 1.5~2.5度(依出光口徑) 均勻度: +-3~5%，
       
      高壓汞燈泡及電源供應器。
       
       
      影像系統(tǒng)
       
      采用可變倍率鏡頭方便對準操作，標準總倍率50X-300X， CCD攝影機影像系統(tǒng)，
       
      19吋 LCD螢幕 打光有LED同軸光或環(huán)形光， 觀測的兩點間距4cm-20cm，
       
      可加裝轉折鏡到更小間距， 可加裝鏡頭掃描臺以快速移動鏡頭， 可選配背面對準影像系統(tǒng)。
       
       
      曝光臺
       
      光罩真空吸盤 : 上吸式或下吸式 4″，5″， 6″， 7″， 9″ 。
       
      晶圓真空吸盤 : 2″， 4″， 5″， 6″，8″， 圓或方， 具光罩晶圓水平校正功能。
       
      曝光模式有真空接觸式與近接式，可調整真空吸附力大小 X，Y軸調整10mm，調整靈敏度1um， Z軸可調整5mm，
       
      千分表解析度1um， 上光罩以手開啟以取放基板。
       
       
      操作系統(tǒng)
       
      全手動操作系統(tǒng)，每一動作均需手動操作。
       
      操作流程 : 置基板，手動關下光罩吸盤，鏡頭移入做對準動作，chuck上移至曝光位置，鏡頭移出燈源移入曝光(計時)， 燈源移出，光罩吸盤開啟，取出基板， 曝光計時器時間設定:0.1-999秒。
       
       
      機座
       
      具四個防震氣墊，具調整腳及移動輪， 不銹鋼支架及盤面，鋁合金桌面及肋板，CDA之調整真空之顯示，電源輸出入等。
       
       
      性能
       
      采真空接觸曝光圖形解析可達1um以內(正光阻厚1um)， 采近接式曝光依晶圓與光罩間距設定約在3~5um。
       
           
            
                   
        
			        
      
			    
      
                			    
                                                				
      
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