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全手動光罩對準曝光機
全手動操作,每一個動作可單獨操作,適合實驗室研究使用或量產前制程開發(fā)使用。
德?lián)P光電有限公司
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更新時間:2023-06-22 19:44:36瀏覽次數(shù):180次
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全手動操作,每一個動作可單獨操作,適合實驗室研究使用或量產前制程開發(fā)使用。
紫外光源機型有功率 : 350W,500W,1000W,2000W 。
曝光光源尺寸 : 4″,6″,8″,10″,12″,圓或方, 波長: NUV(含365nm, 405nm,435nm) 。
光源平行半角 : 1.5~2.5度(依出光口徑) 均勻度: +-3~5%,
高壓汞燈泡及電源供應器。
采用可變倍率鏡頭方便對準操作,標準總倍率50X-300X, CCD攝影機影像系統(tǒng),
19吋 LCD螢幕 打光有LED同軸光或環(huán)形光, 觀測的兩點間距4cm-20cm,
可加裝轉折鏡到更小間距, 可加裝鏡頭掃描臺以快速移動鏡頭, 可選配背面對準影像系統(tǒng)。
光罩真空吸盤 : 上吸式或下吸式 4″,5″, 6″, 7″, 9″ 。
晶圓真空吸盤 : 2″, 4″, 5″, 6″,8″, 圓或方, 具光罩晶圓水平校正功能。
曝光模式有真空接觸式與近接式,可調整真空吸附力大小 X,Y軸調整10mm,調整靈敏度1um, Z軸可調整5mm,
千分表解析度1um, 上光罩以手開啟以取放基板。
全手動操作系統(tǒng),每一動作均需手動操作。
操作流程 : 置基板,手動關下光罩吸盤,鏡頭移入做對準動作,chuck上移至曝光位置,鏡頭移出燈源移入曝光(計時), 燈源移出,光罩吸盤開啟,取出基板, 曝光計時器時間設定:0.1-999秒。
具四個防震氣墊,具調整腳及移動輪, 不銹鋼支架及盤面,鋁合金桌面及肋板,CDA之調整真空之顯示,電源輸出入等。
采真空接觸曝光圖形解析可達1um以內(正光阻厚1um), 采近接式曝光依晶圓與光罩間距設定約在3~5um。
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