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上海伯東考夫曼離子源

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具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱伯東企業(yè)（上海）有限公司
品牌
型號(hào)
所在地上海市
廠商性質(zhì)代理商
更新時(shí)間2019/8/20 16:28:33
訪問次數(shù)574

產(chǎn)品標(biāo)簽:

離子源離子輔助鍍膜離子刻蝕考夫曼源進(jìn)口考夫曼離子源

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公司介紹主營(yíng)產(chǎn)品

~伯東公司成立于1953 年，范圍內(nèi)有一千七百名員工。伯東企業(yè)(上海)有限公司主要從事半導(dǎo)體設(shè)備、電子零部件加工、銷售及相關(guān)服務(wù)工作，集團(tuán)年?duì)I業(yè)額約為100億人民幣。伯東公司在國(guó)內(nèi)主要城市：北京、蘇州、廣州、深圳、成都及廈門設(shè)有營(yíng)業(yè)據(jù)點(diǎn)。
上海伯東真空產(chǎn)品事業(yè)部秉承為廣大中國(guó)客戶提供*的真空產(chǎn)品、推動(dòng)中國(guó)真空工藝發(fā)展、承擔(dān)企業(yè)社會(huì)責(zé)任為經(jīng)營(yíng)理念，已累計(jì)為超過10,000家企業(yè)提供真空服務(wù)，覆蓋工業(yè)、半導(dǎo)體、鍍膜、科研和分析行業(yè)。

上海伯東代理品牌包含：德國(guó)Pfeiffer 全系列真空產(chǎn)品、美國(guó) KRI 離子源、美國(guó)Brooks Polycold 制冷機(jī)，美國(guó)HVA 真空閥門，美國(guó) inTEST(Temptronic)高速溫度循環(huán)測(cè)試機(jī)，離子蝕刻機(jī)，真空鍍膜系統(tǒng)及配套真空零配件等。

上海伯東作為真空品牌**代理商，全權(quán)負(fù)責(zé)在中國(guó)地區(qū)的銷售和維修服務(wù)，* 使用原廠進(jìn)口零部件以及國(guó)外受訓(xùn)維修工程師；擁有*的拆解，維修，校正能力并提供24小時(shí)在線服務(wù)。

展開顯示更多內(nèi)容

原子力顯微鏡,高低溫沖擊試驗(yàn)箱，振動(dòng)樣品磁強(qiáng)計(jì),霍爾效應(yīng)測(cè)量系統(tǒng),冷凍機(jī)

產(chǎn)品簡(jiǎn)介在線詢價(jià)

上海伯東代理美國(guó)* KRI 考夫曼離子源 KDC 75:緊湊柵極離子源,離子束直徑 14 cm ,可安裝在 8“CF法蘭. 適用于中小型腔內(nèi), 考夫曼離子源 KDC 75 包含2個(gè)陰極燈絲, 其中一個(gè)作為備用,KDC 75 提供緊密聚焦的電子束特別適合濺射鍍膜. 標(biāo)準(zhǔn)配置下離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過 250 mA.

上海伯東考夫曼離子源產(chǎn)品信息

價(jià)格電議

KRI 考夫曼離子源 KDC 75
上海伯東代理美國(guó)* KRI 考夫曼離子源 KDC 75:緊湊柵極離子源,離子束直徑 14 cm ,可安裝在 8“CF法蘭. 適用于中小型腔內(nèi), 考夫曼離子源 KDC 75 包含2個(gè)陰極燈絲, 其中一個(gè)作為備用,KDC 75 提供緊密聚焦的電子束特別適合濺射鍍膜. 標(biāo)準(zhǔn)配置下離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過 250 mA.

KRI 考夫曼離子源 KDC 75 技術(shù)參數(shù)

型號(hào)	KDC 75 / KDC 75L(低電流輸出)
供電	DC magnetic confinement
- 陰極燈絲	2
- 陽極電壓	0-100V DC
電子束	OptiBeam™
- 柵極	, 自對(duì)準(zhǔn)
-柵極直徑	7.5 cm
中和器	燈絲
電源控制	KSC 1212 或 KSC 1202
配置	-
- 陰極中和器	Filament, Sidewinder Filament 或LFN 2000
- 安裝	移動(dòng)或快速法蘭
- 高度	7.9'
- 直徑	5.5'
- 離子束	聚焦平行散設(shè)
-加工材料	金屬電介質(zhì) 半導(dǎo)體
-工藝氣體	惰性活性混合
-安裝距離	6-24”
- 自動(dòng)控制	控制4種氣體

* 可選: 一個(gè)陰極燈絲; 可調(diào)角度的支架

KRI 考夫曼離子源 KDC 75 應(yīng)用領(lǐng)域
濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC
輔助鍍膜(光學(xué)鍍膜)IBAD
表面改性, 激活 SM
離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD
離子蝕刻 IBE

客戶案例: 超高真空離子刻蝕機(jī) IBE, 真空度 5E-10 torr, 系統(tǒng)配置
美國(guó) KRI 考夫曼離子源 KDC 75