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上海伯東美國進(jìn)口考夫曼離子源 KDC 系列

參考價	￥ 840000
訂貨量	≥1臺

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱伯東企業(yè)（上海）有限公司
品牌其他品牌
型號
所在地上海市
廠商性質(zhì)代理商
更新時間2023/4/11 11:53:55
訪問次數(shù)405

產(chǎn)品標(biāo)簽:

考夫曼離子源離子源 KDC 聚焦型考夫曼離子源 KRI 離子源 KRI 考夫曼離子源

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公司介紹主營產(chǎn)品

伯東公司成立于1953 年，范圍內(nèi)有一千七百名員工。伯東企業(yè)(上海)有限公司(www.hakuto-vacuum.cn)主要從事半導(dǎo)體設(shè)備、電子零部件加工、銷售及相關(guān)服務(wù)工作，集團(tuán)年?duì)I業(yè)額約為100億人民幣。伯東公司在國內(nèi)主要城市：北京、蘇州、廣州、深圳、成都及廈門設(shè)有營業(yè)據(jù)點(diǎn)。
上海伯東真空產(chǎn)品事業(yè)部秉承為廣大中國客戶提供進(jìn)口真空產(chǎn)品、推動中國真空工藝發(fā)展、承擔(dān)企業(yè)社會責(zé)任為經(jīng)營理念，已累計為超過10,000家企業(yè)提供真空服務(wù)，覆蓋工業(yè)、半導(dǎo)體、鍍膜、科研和分析行業(yè)。
上海伯東代理品牌包含：德國Pfeiffer 全系列真空產(chǎn)品、美國 KRI 離子源、美國Brooks Polycold 制冷機(jī)，美國HVA 真空閥門，美國 inTEST(Temptronic)高速溫度循環(huán)測試機(jī)，離子蝕刻機(jī)，真空鍍膜系統(tǒng)及配套真空零配件等。
上海伯東作為真空品牌**代理商，全權(quán)負(fù)責(zé)在中國地區(qū)的銷售和維修服務(wù)，* 使用原廠進(jìn)口零部件以及國外受訓(xùn)維修工程師；擁有*的拆解，維修，校正能力并提供24小時在線服務(wù)。

展開顯示更多內(nèi)容

德國 Pfeiffer 真空產(chǎn)品, 美國 inTEST 高低溫測試機(jī), 美國 Ambrell 感應(yīng)加熱, 美國 Polycold 冷凍機(jī),美國 HVA 真空閥門

產(chǎn)品簡介在線詢價

上海伯東美國進(jìn)口考夫曼離子源 KDC 系列, 加熱燈絲產(chǎn)生電子, 是典型的考夫曼型離子源, 增強(qiáng)設(shè)計輸出高質(zhì)量, 穩(wěn)定的電子流.

上海伯東美國進(jìn)口考夫曼離子源 KDC 系列產(chǎn)品信息

美國 KRI 考夫曼離子源 Gridded KDC 系列
上海伯東美國進(jìn)口考夫曼離子源 KDC 系列, 加熱燈絲產(chǎn)生電子, 是典型的考夫曼型離子源, 增強(qiáng)設(shè)計輸出高質(zhì)量, 穩(wěn)定的電子流.
美國 KRI 考夫曼公司新升級 Gridded KDC 系列離子源, 新的特性包含自對準(zhǔn)離子光學(xué)和開關(guān)式電源控制. 考夫曼離子源 KDC 系列包含多種不同尺寸的離子源滿足各類應(yīng)用. 考夫曼離子源 KDC 提供一套完整的方案包含考夫曼離子源, 電子中和器, 電源供應(yīng)器等等可以直接整合在各類真空設(shè)備中, 例如實(shí)驗(yàn)室小型研發(fā), 鍍膜機(jī), load lock, 磁控濺射系統(tǒng), 卷繞鍍膜機(jī)和線性鍍膜.

美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 特性：
通過加熱燈絲產(chǎn)生電子
低電流高能量寬束型離子源

美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 應(yīng)用：
輔助鍍膜(光學(xué)鍍膜) IBAD
濺鍍&蒸鍍 PC
表面改性, 激活 SM
沉積 DD
離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD
離子蝕刻 IBE

美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 技術(shù)參數(shù)：

型號	KDC 10	KDC 40	KDC 75	KDC 100	KDC 160
Discharge 陽極	DC 電流	DC 電流	DC 電流	DC 電流	DC 電流
離子束流	>10 mA	>100 mA	>250 mA	>400 mA	>650 mA
離子動能	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V
柵極直徑	1 cm Φ	4 cm Φ	7.5 cm Φ	12 cm Φ	16 cm Φ
離子束	聚焦, 平行, 散射
流量	1-5 sccm	2-10 sccm	2-15 sccm	2-20 sccm	2-30 sccm
通氣	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型壓力	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr
長度	11.5 cm	17.1 cm	20.1 cm	23.5 cm	25.2 cm
直徑	4 cm	9 cm	14 cm	19.4 cm	23.2 cm
中和器	燈絲

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng)專li. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.

若您需要進(jìn)一步的了解考夫曼離子源, 請參考以下聯(lián)絡(luò)方式
上海伯東: 羅先生