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上海伯東代理美國進口 KRI 線性離子源

參考價	￥300000-￥600000

具體成交價以合同協(xié)議為準

公司名稱伯東企業(yè)（上海）有限公司
品牌其他品牌
型號
所在地上海市
廠商性質代理商
更新時間2023/4/6 10:45:00
訪問次數(shù)167

產(chǎn)品標簽:

離子槍線性霍爾離子源離子源 eH Linear KRI 霍爾離子源線性離子源

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公司介紹主營產(chǎn)品

伯東公司成立于1953 年，范圍內有一千七百名員工。伯東企業(yè)(上海)有限公司(www.hakuto-vacuum.cn)主要從事半導體設備、電子零部件加工、銷售及相關服務工作，集團年營業(yè)額約為100億人民幣。伯東公司在國內主要城市：北京、蘇州、廣州、深圳、成都及廈門設有營業(yè)據(jù)點。
上海伯東真空產(chǎn)品事業(yè)部秉承為廣大中國客戶提供進口真空產(chǎn)品、推動中國真空工藝發(fā)展、承擔企業(yè)社會責任為經(jīng)營理念，已累計為超過10,000家企業(yè)提供真空服務，覆蓋工業(yè)、半導體、鍍膜、科研和分析行業(yè)。
上海伯東代理品牌包含：德國Pfeiffer 全系列真空產(chǎn)品、美國 KRI 離子源、美國Brooks Polycold 制冷機，美國HVA 真空閥門，美國 inTEST(Temptronic)高速溫度循環(huán)測試機，離子蝕刻機，真空鍍膜系統(tǒng)及配套真空零配件等。
上海伯東作為真空品牌**代理商，全權負責在中國地區(qū)的銷售和維修服務，* 使用原廠進口零部件以及國外受訓維修工程師；擁有*的拆解，維修，校正能力并提供24小時在線服務。

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德國 Pfeiffer 真空產(chǎn)品, 美國 inTEST 高低溫測試機, 美國 Ambrell 感應加熱, 美國 Polycold 冷凍機,美國 HVA 真空閥門

產(chǎn)品簡介在線詢價

上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 線性離子源使用 eH 400 做為模組, 能應用于寬范圍的襯底, 離子源長度高達 1 米, 通過嚴格調整模組間的距離可以實現(xiàn)均勻性和離子流. 由于模組是平行放置, 大大簡化了氣體, 功率和電子三者的分布.

上海伯東代理美國進口 KRI 線性離子源產(chǎn)品信息

KRI 線性霍爾離子源 eH Linear
上海伯東代理美國進口 KRI 線性離子源使用 eH 400 做為模組, 能應用于寬范圍的襯底, 離子源長度高達 1 米, 通過嚴格調整模組間的距離可以實現(xiàn)更佳的均勻性和離子流. 由于模組是平行放置, 大大簡化了氣體, 功率和電子三者的分布. KRI 線性離子源使用標準的端部霍爾模組并使設備的需求簡化, 一個低成本, 高電流和低能量的離子束可以很好的使用于 web 涂層, in-line 沉積和圓柱旋轉濺射系統(tǒng).

霍爾離子源 eH 400 尺寸
尺寸: 直徑= 3.7“ 高= 3”
放電電壓 / 電流: 50-300eV / 5A
操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機前體

KRI 霍爾離子源 eH Linear 技術參數(shù)

型號	eHL400-2/ eHL400-3/ eHL400-4/ eHL400-5
供電	DC magnetic confinement
- 電壓	40-200V VDC
- 陽極結構	模塊化
電源控制	eHL-30010A
配置	-
- 陰極中和器	Filamentless
- 離子束發(fā)散角度	> 45° (hwhm)
- 陽極	標準或 Grooved
- 底座	移動或快接法蘭
- 高度	10 cm
寬度	10 cm
- 長度	~ 100cm
-工藝氣體	Ar, Xe, Kr, O2, N2, Others

Model	eHL 200-3	eHL 200-5
Height (nominal)	2.9” (7.4cm)	2.9” (7.4cm)
Width (nominal)	3.3” (8.4cm)	3.3” (8.4cm)
Length (nominal)	Determined by number of modules & application	Determined by number of modules & application
Cathode/Neutralizer	Yes	Yes
Anode module	Yes	Yes
Filamentless	Yes	Yes
Orientation	Vertical / Horizontal	Vertical / Horizontal
Process gases	Inert, reactive, & organic	Inert, reactive, & organic
Power controller	eH Plasma Power Pack	eH Plasma Power Pack

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項專li. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.

若您需要進一步的了解 KRI 霍爾離子源, 請參考以下聯(lián)絡方式
上海伯東: 羅先生