Polytec近紅外光譜煙草分析儀 技術(shù)規(guī)格
1) 集成 20W 鎢鹵素光源用于樣品照射
2) SMA 905 光纖連接
3) 工業(yè)防護(hù)等級(jí) IP64
4) 帶藍(lán)寶石窗的不銹鋼外殼(僅接觸式探頭)
5) 配置可滿(mǎn)足食品行業(yè)通行法規(guī)或防爆認(rèn)證(僅接觸式探頭)
6) 適用的測(cè)量距離從 150 毫米到 600 毫米不等(非接觸式探頭)
7) 通過(guò)光源和傳感器單元的組合,適用的測(cè)量距離從0 到 50毫米不等(接觸式探頭)
技術(shù)特點(diǎn)
1) 近紅外光譜儀是過(guò)程分析中重要和廣泛使用的方法之一。無(wú)損,*,無(wú)需樣品制備,不產(chǎn)生浪費(fèi)
2) 采用二極管陣列技術(shù),即使在高測(cè)量速率下也能提供穩(wěn)定可靠的測(cè)量結(jié)果
3) 創(chuàng)新的透射光柵的設(shè)計(jì),能夠?qū)崿F(xiàn)大的靈敏度和極低的散射光( 對(duì)比度 > 1:50,000 ),同時(shí)保證*穩(wěn)定性
4) 全自動(dòng)的系統(tǒng)校準(zhǔn),可調(diào)整的測(cè)量光斑大小
5) 標(biāo)準(zhǔn)化的光譜范圍,極低的散射光水平,*的測(cè)量速率,接近理論極限的均勻的光學(xué)分辨率
6) 接觸式和非接觸式探頭專(zhuān)為工業(yè)應(yīng)用而設(shè)計(jì),可滿(mǎn)足苛刻的現(xiàn)場(chǎng)要求,無(wú)懼灰塵、濕氣、壓力和溫度等種種因素的影響,符合通用的生產(chǎn)和安全規(guī)定,例如可以用于食品工業(yè)或防爆區(qū)
7) 可通過(guò)多探頭光學(xué)切換模塊實(shí)現(xiàn)一臺(tái)設(shè)備配套多個(gè)探頭的應(yīng)用,實(shí)現(xiàn)多條生產(chǎn)線(xiàn)互不干擾的實(shí)時(shí)過(guò)程監(jiān)控和控制
8) 提供標(biāo)準(zhǔn)模塊化的設(shè)備和軟件,高度的靈活性,易于集成,簡(jiǎn)化操作
客戶(hù)價(jià)值
1) 從原材料的實(shí)時(shí)檢測(cè)到終產(chǎn)品的質(zhì)量控制的生產(chǎn)全過(guò)程,通過(guò)減少?gòu)U品率來(lái)提高效率和降低成本
2) 對(duì)整個(gè)生產(chǎn)過(guò)程的自動(dòng)實(shí)時(shí)控制,確保產(chǎn)品的質(zhì)量穩(wěn)定性,對(duì)生產(chǎn)工藝過(guò)程實(shí)現(xiàn)全程監(jiān)測(cè)并進(jìn)行優(yōu)化
3) 一臺(tái)儀器可以測(cè)量多個(gè)參數(shù),降低客戶(hù)設(shè)備投資成本
4) 無(wú)需樣品制備過(guò)程,加快檢測(cè)通量
5) 對(duì)待測(cè)樣品絲毫不產(chǎn)生破壞,非侵入性測(cè)量,也不存在樣品消耗
6) 為每位客戶(hù)制定詳細(xì)的年度維護(hù)及預(yù)防性維修方案,保證設(shè)備*連續(xù)可靠運(yùn)行,真正實(shí)現(xiàn)極低的使用和維護(hù)成本
7) 便捷的操作和維護(hù)
Polytec近紅外光譜煙草分析儀應(yīng)用
1) 固體(如散裝貨物 ,粉末 ,紙張或紡織品)
2) 流體(例如液體 ,懸浮液 ,擴(kuò)散和粘性介質(zhì))
3) 氣體(如氣溶膠或煙霧)
4) 非接觸式探頭用于遠(yuǎn)距離測(cè)量的反射探頭( 傳送帶、網(wǎng)狀應(yīng)用等等 )
5) 接觸式探頭用于近距離或與樣品直接接觸( 管道,滑槽,漏斗等 )測(cè)量
6) 青貯玉米檢測(cè)
7) 飼料檢測(cè)
8) 食品
9) 制藥
10) 工業(yè)在線(xiàn)質(zhì)控
11) 產(chǎn)品篩選(例如按照顆粒大小分類(lèi),或按照成分不同進(jìn)行分類(lèi))
12) 膜層厚度測(cè)量
可選配置
型號(hào):PSS 1720
光譜范圍:850 – 1650 nm
檢測(cè)器:InGaAs
像素:256
分辨率:<6.4 nm或<9.5 nm
型號(hào):PSS 1750
光譜范圍:850 – 1650 nm
檢測(cè)器:InGaAs
像素:512
分辨率:<3.2 nm或<4.8 nm
型號(hào):PSS 2120
光譜范圍:1100 – 2100 nm
檢測(cè)器:InGaAs
像素:256
分辨率:<7.9 nm或<11.9 nm
型號(hào):PSS 2220
光譜范圍:1200 – 2200 nm
檢測(cè)器:InGaAs
像素:256
分辨率:256 <7.9 nm或<11.9 nm
配套附件
1) 多探頭光學(xué)切換模塊
2) 直線(xiàn)型單光纖光纜
3) 探頭電源和控制電纜
4) 探頭支架
5) 旋轉(zhuǎn)臺(tái)
技術(shù)原理
與常用的化學(xué)分析方法不同,近紅外光譜分析法是一種間接分析技術(shù),是用統(tǒng)計(jì)的方法在樣品待測(cè)屬性值與近紅外光譜數(shù)據(jù)之間建立一個(gè)關(guān)聯(lián)模型(或稱(chēng)校正模型,Calibration Model)。近紅外光譜法是利用含有氫基團(tuán)(X-H,X為:C,O,N,S 等)化學(xué)鍵(X-H)伸縮振動(dòng)倍頻和合頻,在近紅外區(qū)的吸收光譜,通過(guò)選擇適當(dāng)?shù)幕瘜W(xué)計(jì)量學(xué)多元校正方法,把校正樣品的近紅外吸收光譜與其成分濃度或性質(zhì)數(shù)據(jù)進(jìn)行關(guān)聯(lián),建立校正樣品吸收光譜與其成分濃度或性質(zhì)之間的關(guān)系(校正模型)。在進(jìn)行未知樣品預(yù)測(cè)時(shí),應(yīng)用已建好的校正模型和未知樣品的吸收光譜,就可定量預(yù)測(cè)其成分濃度或性質(zhì)。