- 用途:接觸式曝光指掩膜板直接與基板的光刻膠層接觸。曝光出來的圖形與掩膜板上的圖形分辨率準(zhǔn)確度高,設(shè)備簡單;
1.半導(dǎo)體制造;
2.光電電子、平板;
3.射頻微波,衍射光學(xué);
4.微機(jī)電系統(tǒng);
5.凹凸或覆晶設(shè)備等。 - 主要規(guī)格:線寬可達(dá)800nm;可以配合使用多種型號的正光阻和負(fù)光阻;
- 適用晶片尺寸:樣品尺寸不能大于6英寸。
- 產(chǎn)品特點(diǎn):
1.分辨率準(zhǔn)確;
2.更廣范圍的紫外光波長選擇;
3.支持恒定光強(qiáng)或恒定功率模式;
4.廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)域。
- 儀器詳細(xì)參數(shù):
- 尺寸:170 cm*130 cm*180 cm