1、面積大:0~?25毫米、0~?50毫米;
2、濺射樣品表面膜層更均勻;
3、顆粒度更小(3nm左右);
4、濺射到樣品表面能量低,對樣品損傷??;(適用溫度敏感性高的樣品)5、可以濺射各種固體靶材(如各種金屬、陶瓷、碳等);
6、控制精度高,實(shí)驗(yàn)結(jié)果精準(zhǔn)可控重復(fù)性高;
7、在同一真空腔內(nèi),可實(shí)現(xiàn)清洗和鍍膜,降低污染樣品造成的數(shù)據(jù)偏差 ;8、加入特殊氣體,可進(jìn)行反應(yīng)離子束刻蝕;
9、可實(shí)現(xiàn)的功能有:等離子清洗、鍍膜等;
10、數(shù)字化自動(dòng)控制系統(tǒng)。
二、技術(shù)參數(shù):
1、真空度:極限真空度5*10-3Pa(不通氬氣);
2、*高壓:(1)200~6000V;
3、樣品臺可旋轉(zhuǎn);
4、具有自保護(hù)功能;
5、單離子槍;
6、樣品冷卻:半導(dǎo)體冷卻( 選配件)。