1、加工面積大：樣品尺寸：0~?25mm；

    2、樣品表面更均勻；

    3、加工時(shí)樣品表面能量低，特別對(duì)于薄膜、高分子樣品（對(duì)溫度敏感性高的樣品）損傷小；   
    4、控制精度高，實(shí)驗(yàn)結(jié)果精準(zhǔn)可控重復(fù)性高；

    5、配備專用截面樣品臺(tái)；

    6、可實(shí)現(xiàn)多種功能：離子減薄、等離子清洗、截面樣品拋光、離子刻蝕、EBSD樣品制備；

    7、專用擋板；   

    8、制備單個(gè)樣品可實(shí)現(xiàn)不同能量自動(dòng)調(diào)整；

    9、數(shù)字化自動(dòng)控制系統(tǒng)。

    1、真空度：極限真空度5*10-3Pa （不通氬氣）；

    2、*高壓：（1）200~10000V；

    3、樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)；

    4、具有自保護(hù)功能；

    5、雙離子槍可獨(dú)立控制;

    6、樣品冷卻：半導(dǎo)體冷卻（ 選配件）;

    7、支持手套箱。