一、等離子清洗的作用原理

（A）對(duì)材料表面的刻蝕作用--物理作用

等離子體中的大量離子、激發(fā)態(tài)分子、自由基等多種活性粒子，作用到固體樣品表面，不但清除了表面原有的污染物和雜質(zhì)，而且會(huì)產(chǎn)生刻蝕作用，將樣品表面變粗糙，形成許多微細(xì)坑洼，增大了樣品的比表面。提高固體表面的潤(rùn)濕性能。

（B）***鍵能，交聯(lián)作用

等離子體中的粒子能量在0~20eV，而聚合物中大部分的鍵能在0~10eV，因此等離子體作用到固體表面后，可以將固體表面的原有的化學(xué)鍵產(chǎn)生斷裂，等離子體中的自由基與這些鍵形成網(wǎng)狀的交聯(lián)結(jié)構(gòu)，******了表面活性。

（C）形成新的官能團(tuán)--化學(xué)作用

如果放電氣體中引入反應(yīng)性氣體，那么在活化的材料表面會(huì)發(fā)生復(fù)雜的化學(xué)反應(yīng)，引入新的官能團(tuán)，如烴基、氨基、羧基等，這些官能團(tuán)都是活性基團(tuán)，能明顯提高材料表面活性。

二、真空等離子清洗的優(yōu)勢(shì)

等離子清洗作為重要的材料表面改性方法，

已經(jīng)在眾多領(lǐng)域***使用、與傳統(tǒng)的一些清洗方法，

如超聲波清洗、UV清洗等。

具有以下優(yōu)點(diǎn)：

（A）處理溫度低

處理溫度可以低至80℃、50℃以下，低的處理溫度可以確保對(duì)樣品表面不造成熱影響。

（B）處理全程***

等離子清洗機(jī)本身是很環(huán)保的設(shè)備，不產(chǎn)生任何污染，處理過(guò)程也不產(chǎn)生任何污染。

（C）處理效果穩(wěn)定

等離子清洗的處理效果非常均勻穩(wěn)定，常規(guī)樣品處理后較長(zhǎng)時(shí)間內(nèi)保持效果良好。

（D）可以處理各種形狀的樣品

對(duì)于復(fù)雜形狀的樣品，等離子清洗都能找到合適的解決方案。

真空等離子清洗更可實(shí)現(xiàn)對(duì)固體樣品內(nèi)部位置進(jìn)行清洗。

三、半導(dǎo)體封裝應(yīng)用

隨著封裝尺寸減小和***材料的使用增加，難以實(shí)現(xiàn)***集成電路制造中的高可靠性和良率。通過(guò)使用合適的等離子體處理可以改善或克服許多制造挑戰(zhàn)，包括改善管芯附著，增加引線(xiàn)鍵合強(qiáng)度，消除倒裝芯片底部填充空隙，以及減少封裝分層。

芯片粘接-基板的等離子清潔通過(guò)表面活化改善了芯片粘接環(huán)氧樹(shù)脂的粘附性，從而改善了芯片與基板之間的粘合，更好的粘合可以改善散熱。此外，等離子體處理去除金屬表面的氧化，以確保無(wú)空隙的芯片附著。當(dāng)共晶焊料用作芯片鍵合的粘合材料時(shí)，氧化會(huì)對(duì)芯片附著產(chǎn)生不利影響。

引線(xiàn)鍵合 -等離子技術(shù)可在引線(xiàn)鍵合之前用于等離子清潔焊盤(pán)，以提高鍵合強(qiáng)度和產(chǎn)量。粘合強(qiáng)度差和產(chǎn)量低通常是由于上游污染源或***包裝材料的選擇。

底部填充 -底部填充工藝之前的等離子體表面處理已經(jīng)證明可以提高底部填充芯吸速度，增加圓角高度和均勻性，限度地減少空洞，并改善底部填充粘合。這些改進(jìn)的機(jī)制包括表面能和表面化學(xué)成分變化。

封裝和成型 -等離子處理通過(guò)增加基板表面能量來(lái)改善模塑化合物的附著力。改善的粘合性提高了封裝的可靠性。