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      ASML 步進(jìn)式掃描DUV光刻機(jī) ArF曝光機(jī) NXT1970Ci/1980Di

      參考價(jià)面議
      具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
      • 公司名稱(chēng)青島佳鼎分析儀器有限公司
      • 品       牌
      • 型       號(hào)
      • 所  在  地
      • 廠(chǎng)商性質(zhì)其他
      • 更新時(shí)間2023/9/1 9:06:51
      • 訪(fǎng)問(wèn)次數(shù)730
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      青島佳鼎實(shí)驗(yàn)室,坐落于城之向陽(yáng)地——城陽(yáng)。自2011年成立之初,便誓將科技之光照耀四方。
      十年的時(shí)間里,公司因擴(kuò)展數(shù)度搬遷,最后選擇接受博士創(chuàng)業(yè)園的吸納并安家落戶(hù)。與此名交相輝映的是我們30余人的研發(fā)團(tuán)隊(duì),也是以博士后為主。這就為我們今后的發(fā)展奠定了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ),使我們?cè)谖磥?lái)的發(fā)展中,有底氣的大踏步前進(jìn)。目前,佳鼎實(shí)驗(yàn)室已經(jīng)形成了一站式服務(wù),不僅有實(shí)驗(yàn)室分析儀器設(shè)備的研發(fā)和銷(xiāo)售,更有實(shí)驗(yàn)室的整體交付。做到了初時(shí)毛坯,再見(jiàn)時(shí)嚴(yán)謹(jǐn)整潔,隨時(shí)可以為人類(lèi)健康貢獻(xiàn)自己的力量。
      產(chǎn)品服務(wù)于各行各業(yè),從科研機(jī)構(gòu)到環(huán)境、食品,從醫(yī)藥生物到電子電器。我們從不止步于國(guó)內(nèi),放眼,我們聯(lián)合了包括美國(guó)賽默飛世爾、日本島津、在內(nèi)的多國(guó)實(shí)驗(yàn)室,并且積累了大量的科研資料,在分析設(shè)備的研發(fā)領(lǐng)域做了大量的深度工作。
      佳鼎實(shí)驗(yàn)室堅(jiān)信以質(zhì)量為生命,以客戶(hù)為中心的經(jīng)營(yíng)理念,為打造實(shí)驗(yàn)室建設(shè)規(guī)范化而不斷奮斗。

      ASML 步進(jìn)式掃描DUV光刻機(jī) ArF曝光機(jī) NXT1970Ci/1980Di 產(chǎn)品信息

      主要特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì)

      TWINSCAN NXT:1970Ci步進(jìn)掃描系統(tǒng)是一種高生產(chǎn)率的雙級(jí)浸沒(méi)式光具,專(zhuān)為在成熟節(jié)點(diǎn)批量生產(chǎn) 300 毫米晶圓而設(shè)計(jì)。

      通過(guò)結(jié)合高生產(chǎn)率和出色的圖像分辨率,TWINSCAN NXT: 1970Ci光刻機(jī)可滿(mǎn)足雙重和多重圖案化要求,為我們的客戶(hù)提供具有成本效益的解決方案。

      01. 生產(chǎn)力

      在該系統(tǒng)中,新穎的氣體壽命延長(zhǎng)減少了機(jī)器停機(jī)時(shí)間,并加強(qiáng)了經(jīng)過(guò)驗(yàn)證的 6 kHz ArF 激光技術(shù),以提供高功率以支持高吞吐量。浸沒(méi)罩設(shè)計(jì)改進(jìn)拓寬了使用無(wú)面漆的低接觸角抗蝕劑優(yōu)化缺陷率的窗口。

      與 TWINSCAN NXT:1970Ci光刻機(jī)維護(hù)計(jì)劃程序一起,綜合服務(wù)包通過(guò)利用系統(tǒng)空閑時(shí)間執(zhí)行所需的日常維護(hù)來(lái)優(yōu)化系統(tǒng)可用性。

      TWINSCAN NXT:1970Ci光刻機(jī)平面雙載物臺(tái)的剛度增加,提供了更高的速度和加速度,從而允許更快的步進(jìn)和掃描序列。 

      加上更快的卡盤(pán)更換,新設(shè)計(jì)在生產(chǎn)力方面向前邁出了一大步。此外,對(duì)可維護(hù)性的嚴(yán)格關(guān)注導(dǎo)致設(shè)計(jì)在需要時(shí)易于訪(fǎng)問(wèn)。步進(jìn)式掃描光刻機(jī)NXT:1970Ci

      02. 光學(xué)

      TWINSCAN NXT:1970Ci光刻機(jī)包括一個(gè)1.35NA 193nm折反射投影鏡頭,可實(shí)現(xiàn)低至 40nm(C-quad)和 38 nm(偶極子)的生產(chǎn)分辨率,以及支持全 26x33 mm視場(chǎng)大小、4X減少和與現(xiàn)有設(shè)計(jì)的標(biāo)線(xiàn)兼容性。

      鏡頭元件配備了用于校正光學(xué)像差的操縱器,從而為低 k1 應(yīng)用實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)力。FlexRay Prepared Illuminator通過(guò)擴(kuò)展傳統(tǒng)和離軸照明的范圍來(lái)實(shí)現(xiàn)的靈活性,以實(shí)現(xiàn)用于低 k1 成像的高級(jí)瞳孔整形。

      03. 成像性能

      NXT:1970Ci光刻機(jī)可以實(shí)現(xiàn) ≤ 2.0nm 的單機(jī)(專(zhuān)用卡盤(pán))全晶圓覆蓋覆蓋,以及 ≤ 3.5 nm 的匹配機(jī)(參考晶圓)全晶圓覆蓋覆蓋。 

      該系統(tǒng)的平行 ILIAS (PARIS) 傳感器允許客戶(hù)對(duì)整個(gè)投影狹縫中的光學(xué)像差進(jìn)行平行測(cè)量,從而實(shí)現(xiàn)更準(zhǔn)確的對(duì)準(zhǔn)、改進(jìn)的標(biāo)線(xiàn)加熱校正和動(dòng)態(tài)鏡頭加熱校正。

      關(guān)鍵詞:CAN
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