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上海伯東多層膜磁控濺鍍設(shè)備

參考價(jià)	￥1000000-￥10000000

參考價(jià)

￥1000000-￥10000000

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱伯東企業(yè)（上海）有限公司
品牌其他品牌
型號
所在地上海市
廠商性質(zhì)代理商
更新時(shí)間2023/4/26 10:01:19
訪問次數(shù)335

產(chǎn)品標(biāo)簽:

電子束蒸鍍設(shè)備蒸發(fā)鍍膜電子束蒸發(fā)蒸鍍系統(tǒng)

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公司介紹主營產(chǎn)品

伯東公司成立于1953 年，范圍內(nèi)有一千七百名員工。伯東企業(yè)(上海)有限公司(www.hakuto-vacuum.cn)主要從事半導(dǎo)體設(shè)備、電子零部件加工、銷售及相關(guān)服務(wù)工作，集團(tuán)年?duì)I業(yè)額約為100億人民幣。伯東公司在國內(nèi)主要城市：北京、蘇州、廣州、深圳、成都及廈門設(shè)有營業(yè)據(jù)點(diǎn)。
上海伯東真空產(chǎn)品事業(yè)部秉承為廣大中國客戶提供進(jìn)口真空產(chǎn)品、推動(dòng)中國真空工藝發(fā)展、承擔(dān)企業(yè)社會責(zé)任為經(jīng)營理念，已累計(jì)為超過10,000家企業(yè)提供真空服務(wù)，覆蓋工業(yè)、半導(dǎo)體、鍍膜、科研和分析行業(yè)。
上海伯東代理品牌包含：德國Pfeiffer 全系列真空產(chǎn)品、美國 KRI 離子源、美國Brooks Polycold 制冷機(jī)，美國HVA 真空閥門，美國 inTEST(Temptronic)高速溫度循環(huán)測試機(jī)，離子蝕刻機(jī)，真空鍍膜系統(tǒng)及配套真空零配件等。
上海伯東作為真空品牌**代理商，全權(quán)負(fù)責(zé)在中國地區(qū)的銷售和維修服務(wù)，* 使用原廠進(jìn)口零部件以及國外受訓(xùn)維修工程師；擁有*的拆解，維修，校正能力并提供24小時(shí)在線服務(wù)。

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德國 Pfeiffer 真空產(chǎn)品, 美國 inTEST 高低溫測試機(jī), 美國 Ambrell 感應(yīng)加熱, 美國 Polycold 冷凍機(jī),美國 HVA 真空閥門

產(chǎn)品簡介在線詢價(jià)

多層膜的結(jié)構(gòu)廣泛用于各個(gè)領(lǐng)域. 在單一材料薄膜無法滿足所需規(guī)格的精密系統(tǒng)中, 高質(zhì)量多層膜的作用至關(guān)重要. 因此, 新材料的開發(fā)和薄膜的準(zhǔn)確控制制程已成為當(dāng)前多層薄膜研究的重要方向.

上海伯東多層膜磁控濺鍍設(shè)備產(chǎn)品信息

多層膜磁控濺鍍設(shè)備 Multilayer Sputter

多層膜磁控濺鍍設(shè)備 Multilayer sputter
多層膜的結(jié)構(gòu)廣泛用于各個(gè)領(lǐng)域. 在單一材料薄膜無法滿足所需規(guī)格的精密系統(tǒng)中, 高質(zhì)量多層膜的作用至關(guān)重要. 因此, 新材料的開發(fā)和薄膜的準(zhǔn)確控制制程已成為當(dāng)前多層薄膜研究的重要方向. 上海伯東代理多層膜磁控濺鍍設(shè)備 Multilayer sputter 擁有基板公自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu), 搭配美國 KRI 離子源可實(shí)現(xiàn)多層膜結(jié)構(gòu)并可以一次批量生產(chǎn), 廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體, 納米科技, 太陽能電池, 科研等行業(yè), 氧化物, 氮化物和金屬材料的研究等.

上海伯東多層膜磁控濺鍍設(shè)備配置和優(yōu)點(diǎn)
客制化基板尺寸, 直徑可達(dá) 12寸晶圓
薄膜均勻度小于 ±3％
磁控濺鍍源（最多6個(gè)源）, 靶材尺寸多種可選
射頻, 直流或脈沖直流, 分別用于非導(dǎo)電, 導(dǎo)電靶材
具有順序操作或共沉積的多個(gè)濺鍍源
流量控制器（最多4條氣體管線）
基板可加熱到 600°C
基材到靶材的間距可調(diào)節(jié)
每個(gè)濺鍍源和基板均安裝遮板
多層膜磁控濺鍍設(shè)備
載臺可公自轉(zhuǎn)或定在靶材位置自轉(zhuǎn)

磁控濺鍍設(shè)備基本參數(shù)

系統(tǒng)類型	Real 超高真空	超高真空	高真空	緊湊型高真空
極限真空	5X10-10 Torr	5X10-9 Torr	3X10-7 Torr	5X10-7 Torr
腔室密封	全部 CF(烘烤)	一些密封圈(烘烤)	全部密封圈	全部密封圈
電子槍	3-4, 2-3 英寸	3-4, 2-4 英寸	3-4, 2-4 英寸	3-4, 2-3 英寸
電源	DC / DC pulse / RF	DC / DC pulse / RF	DC / DC pulse / RF	DC / DC pulse / RF
Load-lock	標(biāo)準(zhǔn)(HV)	標(biāo)準(zhǔn)(HV)	標(biāo)準(zhǔn)(HV)/可選	標(biāo)準(zhǔn)(HV)/可選
基板	4-6 英寸加熱至 800°C或水冷	4-8 英寸加熱至 800°C或水冷	4-8 英寸加熱至 800°C	4-6 英寸加熱至 800°C
真空泵	低溫泵	低溫泵 / 分子泵	分子泵	分子泵
監(jiān)控	真空規(guī)和Baratron	真空規(guī)和Baratron	真空規(guī)和Baratron	真空規(guī)和Baratron
工藝控制	部分 / 3位 /手動(dòng)閘閥	部分 / 3位 /手動(dòng)閘閥	部分 / 3位 /手動(dòng)閘閥	部分 / 3位 /手動(dòng)閘閥
氣體	氬氣, 氮?dú)? 氧氣(load-lock可選)	氬氣, 氮?dú)? 氧氣(load-lock可選)	氬氣, 氮?dú)? 氧氣	氬氣, 氮?dú)? 氧氣
射頻偏壓清潔	300W RF(清潔和蝕刻)	300W RF(清潔和蝕刻)	可選	可選
離子源	100 KRi 離子源	100 KRi 離子源	可選	可選
薄膜	鈦氮化鈮NbTiN, 鈮 Nb, 鈀Pd等	鈦氮化鈮NbTiN, 鈮 Nb, 鈀Pd等	二氧化硅 SiO2, 氮化硅 Si3N4, 氧化鋁Al2O3 等	二氧化硅 SiO2, 氮化硅 Si3N4, 氧化鋁Al2O3 等

磁控濺鍍設(shè)備 Sputter

腔體
客制化的腔體尺寸取決于基板尺寸和其應(yīng)用
寬大的前開式門, 并有兩個(gè)窗口和窗口遮版用于觀察基材和濺鍍源
具有顯示功能的全量程真空計(jì)和用于壓力控制的 Baratron 真空計(jì)
腔體的極限真空度約 10-8 Torr

選件
可以與傳送腔, 機(jī)械手臂和手套箱整合在一起
結(jié)合離子源, 熱蒸發(fā)源, 電子束...
基板可用射頻或直流偏壓
膜厚監(jiān)測儀
射頻等離子清潔用于基材
OES, RGA 或制程監(jiān)控的額外備用端口

應(yīng)用領(lǐng)域
半導(dǎo)體類, 納米科技
產(chǎn)品質(zhì)量控制和質(zhì)量檢查
氧化物, 氮化物和金屬材料的研究
太陽能電池
光學(xué)研究, 材料研究

若您需要進(jìn)一步的了解上海伯東磁控濺射鍍膜機(jī), 請參考以下聯(lián)絡(luò)方式
上海伯東: 羅先生