智能制造網(wǎng)>產(chǎn)品庫>儀器儀表>行業(yè)專用儀器>其它行業(yè)儀器>>上海伯東代理磁控共濺鍍設(shè)備 Co-Sputter

上海伯東代理磁控共濺鍍設(shè)備 Co-Sputter

參考價	￥1000000-￥10000000

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱伯東企業(yè)（上海）有限公司
品牌其他品牌
型號
所在地上海市
廠商性質(zhì)代理商
更新時間2023/4/26 9:58:04
訪問次數(shù)307

產(chǎn)品標(biāo)簽:

電子束蒸鍍設(shè)備蒸發(fā)鍍膜電子束蒸發(fā)蒸鍍系統(tǒng)

在線詢價收藏產(chǎn)品點擊查看電話

聯(lián)系我們時請說明是智能制造網(wǎng) 上看到的信息，謝謝!

索取相關(guān)資料

公司介紹主營產(chǎn)品

伯東公司成立于1953 年，范圍內(nèi)有一千七百名員工。伯東企業(yè)(上海)有限公司(www.hakuto-vacuum.cn)主要從事半導(dǎo)體設(shè)備、電子零部件加工、銷售及相關(guān)服務(wù)工作，集團年營業(yè)額約為100億人民幣。伯東公司在國內(nèi)主要城市：北京、蘇州、廣州、深圳、成都及廈門設(shè)有營業(yè)據(jù)點。
上海伯東真空產(chǎn)品事業(yè)部秉承為廣大中國客戶提供進口真空產(chǎn)品、推動中國真空工藝發(fā)展、承擔(dān)企業(yè)社會責(zé)任為經(jīng)營理念，已累計為超過10,000家企業(yè)提供真空服務(wù)，覆蓋工業(yè)、半導(dǎo)體、鍍膜、科研和分析行業(yè)。
上海伯東代理品牌包含：德國Pfeiffer 全系列真空產(chǎn)品、美國 KRI 離子源、美國Brooks Polycold 制冷機，美國HVA 真空閥門，美國 inTEST(Temptronic)高速溫度循環(huán)測試機，離子蝕刻機，真空鍍膜系統(tǒng)及配套真空零配件等。
上海伯東作為真空品牌**代理商，全權(quán)負責(zé)在中國地區(qū)的銷售和維修服務(wù)，* 使用原廠進口零部件以及國外受訓(xùn)維修工程師；擁有*的拆解，維修，校正能力并提供24小時在線服務(wù)。

展開顯示更多內(nèi)容

德國 Pfeiffer 真空產(chǎn)品, 美國 inTEST 高低溫測試機, 美國 Ambrell 感應(yīng)加熱, 美國 Polycold 冷凍機,美國 HVA 真空閥門

產(chǎn)品簡介在線詢價

磁控共濺鍍是指同時有兩個或多個磁控濺鍍槍, 濺鍍于被鍍物上. 磁控共濺鍍主要用于復(fù)合金屬或復(fù)合材料, 通過分別優(yōu)化每一支磁控濺鍍槍 (靶材) 的功率來控制薄膜質(zhì)量, 其薄膜厚度取決于濺鍍時間.

上海伯東代理磁控共濺鍍設(shè)備 Co-Sputter 產(chǎn)品信息

磁控共濺鍍設(shè)備 Co-Sputter

磁控共濺鍍設(shè)備 Co-Sputter
磁控共濺鍍是指同時有兩個或多個磁控濺鍍槍, 濺鍍于被鍍物上. 磁控共濺鍍主要用于復(fù)合金屬或復(fù)合材料, 通過分別優(yōu)化每一支磁控濺鍍槍 (靶材) 的功率來控制薄膜質(zhì)量, 其薄膜厚度取決于濺鍍時間.

上海伯東代理的磁控共濺鍍腔提供了準(zhǔn)確控制多個磁控濺鍍的制程條件, 加裝美國 KRi 離子源為客戶提供更好質(zhì)量的復(fù)合式薄膜.單片和多片式的loading chamber, 可節(jié)省其制程腔體的抽氣時間, 進而節(jié)省整體實驗時間. 廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體, 納米科技, 太陽能電池等行業(yè)以及氧化物, 氮化物和金屬材料的研究等.

上海伯東磁控共濺鍍設(shè)備配置和優(yōu)點
客制化基板尺寸, 直徑可達 12寸晶圓
薄膜均勻度小于 ±3％
磁控濺鍍源 (最多8個源), 具有多種可選的靶材尺寸
具有順序操作或共沉積的多個濺鍍源
射頻, 直流或脈沖直流, 分別用于非導(dǎo)電與導(dǎo)電靶材
精準(zhǔn)流量控制器（最多4條氣體管線）
基板可加熱到 1000°C
基材到靶材之間距為可調(diào)節(jié)的
每個濺鍍源和基板均安裝遮板

磁控共濺鍍設(shè)備 Co-sputter

濺鍍腔中, 在載臺部分可獨立施打偏壓, 對其基板進行清潔與增加材料的附著性等功能.

安裝美國 KRi 離子源: 上海伯東代理美國 KRi 離子源可用于基板清潔和加速鍍膜材料的濺射速率, 并且離子源在材料沉積過程中可幫助沉積并使沉積后的薄膜更為致密.

磁控共濺鍍設(shè)備 Co-sputter

磁控濺鍍設(shè)備基本參數(shù)

系統(tǒng)類型	Real 超高真空	超高真空	高真空	緊湊型高真空
極限真空	5X10-10 Torr	5X10-9 Torr	3X10-7 Torr	5X10-7 Torr
腔室密封	全部 CF(烘烤)	一些密封圈(烘烤)	全部密封圈	全部密封圈
電子槍	3-4, 2-3 英寸	3-4, 2-4 英寸	3-4, 2-4 英寸	3-4, 2-3 英寸
電源	DC / DC pulse / RF	DC / DC pulse / RF	DC / DC pulse / RF	DC / DC pulse / RF
Load-lock	標(biāo)準(zhǔn)(HV)	標(biāo)準(zhǔn)(HV)	標(biāo)準(zhǔn)(HV)/可選	標(biāo)準(zhǔn)(HV)/可選
基板	4-6 英寸加熱至 800°C或水冷	4-8 英寸加熱至 800°C或水冷	4-8 英寸加熱至 800°C	4-6 英寸加熱至 800°C
真空泵	低溫泵	低溫泵 / 分子泵	分子泵	分子泵
監(jiān)控	真空規(guī)和Baratron	真空規(guī)和Baratron	真空規(guī)和Baratron	真空規(guī)和Baratron
工藝控制	部分 / 3位 /手動閘閥	部分 / 3位 /手動閘閥	部分 / 3位 /手動閘閥	部分 / 3位 /手動閘閥
氣體	氬氣, 氮氣, 氧氣(load-lock可選)	氬氣, 氮氣, 氧氣(load-lock可選)	氬氣, 氮氣, 氧氣	氬氣, 氮氣, 氧氣
射頻偏壓清潔	300W RF(清潔和蝕刻)	300W RF(清潔和蝕刻)	可選	可選
離子源	100 KRi 離子源	100 KRi 離子源	可選	可選
薄膜	鈦氮化鈮NbTiN, 鈮 Nb, 鈀Pd等	鈦氮化鈮NbTiN, 鈮 Nb, 鈀Pd等	二氧化硅 SiO2, 氮化硅 Si3N4, 氧化鋁Al2O3 等	二氧化硅 SiO2, 氮化硅 Si3N4, 氧化鋁Al2O3 等

磁控濺鍍設(shè)備Sputter

腔體
客制化的腔體尺寸取決于基板尺寸和其應(yīng)用
寬大的前開式門, 并有兩個窗口和窗口遮版, 用于觀察基材和濺鍍源
具有顯示功能的全量程真空計和用于壓力控制的 Baratron 真空計
腔體的極限真空度約 10-8 Torr

選件
可以與傳送腔, 機械手臂和手套箱整合在一起
結(jié)合離子源, 熱蒸發(fā)源, 電子束...等等
基板射頻或直流偏壓
膜厚監(jiān)測儀
射頻等離子清潔用于基材
OES, RGA 或制程監(jiān)控的額外備用端口

應(yīng)用領(lǐng)域
半導(dǎo)體類, 納米科技
產(chǎn)品質(zhì)量控制和質(zhì)量檢查
氧化物, 氮化物和金屬材料的研究
太陽能電池
光學(xué)研究, 材料研究

若您需要進一步的了解上海伯東磁控共濺鍍設(shè)備, 請參考以下聯(lián)絡(luò)方式
上海伯東: 羅先生