檢測基體:鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基。
全新立式全譜光譜采用標準的設計和制造工藝技術,采用全數(shù)字技術,替代龐大的光電倍增管(PMT)模擬技術,采用真空光學室設計及全數(shù)字激發(fā)光源、CCD檢測器,高速數(shù)據(jù)讀出系統(tǒng),使儀器具有較高的性能、較低的檢出線、長期的穩(wěn)定性和重復性。適用于金屬制造業(yè)、加工業(yè)及金屬冶煉業(yè)用于質量監(jiān)控、材料牌號識別、材料研究和開發(fā)的主要設備之一
主要特點:
1、快捷的分析性能(僅15-30秒);
2、動態(tài)范圍:從ppm—% ;
3、開闊的火花臺以及特殊的小樣品夾具,保證儀器適用于各種形狀的金屬樣品分析;
4、準確:優(yōu)于1%的偏差 ;
5、優(yōu)異的氮、氧元素分析性能;
6、高穩(wěn)定性,高可靠性;
7、可選配多塊高性能CCD檢測器系統(tǒng),根據(jù)應用需要多達16塊CCD檢測器,增加儀器基體及元素分析升級的靈活性;
8、高等級標樣標定;
9、PC控制的變頻高能預火花(HEPS);
10、高精度的溫度與壓力控制;
11、G級軟件功能,操作便捷,易于掌握;
12、適用于各種金屬材料分析;
光學系統(tǒng):
1、巴邢-龍格架法,焦距:500 mm;
2、高性能全息衍射光柵,光柵刻線2700條/mm和3600條/mm ;
3、每塊CCD 3,648 像素,大58,368 像素的分辨率(16 *3,648 像素) ;
4、譜線波長:130 - 800 nm由衍射光柵的選擇決定。光柵的選擇由制造商根據(jù)分析元素和分析程序來決定;
5、密閉的真空光學室可以避免灰塵、光線的干擾;