NXQ4000系列半自動(dòng)掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光系統(tǒng),融合了du立的模塊化設(shè)計(jì),精準(zhǔn)控制對(duì)準(zhǔn)和曝光等特點(diǎn),自動(dòng)程序控制使得該系統(tǒng)易于操作存儲(chǔ)和使用,適合實(shí)驗(yàn)室多用戶使用。
該系統(tǒng)特點(diǎn):
鍥型誤差補(bǔ)償系統(tǒng)----du特的WEC設(shè)計(jì)
紫外燈源的多樣性選擇
曝光光路的精準(zhǔn)控制
視像分辨技術(shù)------在Video View Microscope 和Quadcam Microscope中快速切換
高效對(duì)準(zhǔn)控制-----可選配IR或OBS雙面對(duì)準(zhǔn)
使用領(lǐng)域(包括但不限于下述領(lǐng)域的光刻工藝)
微電子
LED/HBLED
3D IC /晶圓制造工藝
2.5D Interposer
MEMS
BioMEMS
微流控芯片
化合物半導(dǎo)體
太陽(yáng)能(HCPV)
光電子
型號(hào):
NXQ4006半自動(dòng)型(可處理大6英寸基片)
NXQ4008半自動(dòng)型(可處理大8英寸基片)