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      行業(yè)產(chǎn)品
      
							
						
      
						
        
							
      • 行業(yè)產(chǎn)品
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      富泰微科學(xué)儀器（上海）有限公司
                                
                
                
      

							
      
                        			
      
		
      
	
      
	
	
      
		
      
            
      
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      日立 離子研磨儀 IM4000II
      
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      具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
      
				
      
				
				
      
						
      
							
      產(chǎn)品型號
      
							
      品       牌
      
		                    
      廠商性質(zhì)其他
      
		                    							
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      聯(lián)系方式：李經(jīng)理查看聯(lián)系方式
      
									                                                 
      
						
      
							
      
								更新時間：2024-06-17 12:07:12瀏覽次數(shù)：251次
							
      
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      經(jīng)營模式：其他
      
						
      商鋪產(chǎn)品：27條
      
						
      所在地區(qū)：
      
						
      聯(lián)系人：李經(jīng)理
      												
					
      
				
      
			
      			
      
                                
      
                    產(chǎn)品簡介
                
      
				
      
                      
      
                                                                      
      
					
      產(chǎn)品介紹 日立離子研磨儀標(biāo)準(zhǔn)機(jī)型IM4000Ⅱ能夠進(jìn)行截面研磨和平面研磨。還可通過低溫控制及真空轉(zhuǎn)移等各種選配功能，針對不同樣品進(jìn)行截面研磨。
      
				
      
				
      
                    詳細(xì)介紹
                
      
			    
      
			        
      
			            
      離子研磨儀 IM4000II.jpg


      高效率的截面研磨

      IM4000II配備截面研磨能力達(dá)到500 µm/h*1以上的高效率離子槍。因此，即使是硬質(zhì)材料，也可以高效地制備出截面樣品。

      *1   在加速電壓6 kV下，將Si片從遮擋板邊緣突出100 µm并加工1小時的深度

       
      樣品：Si片（2 mm厚）
      加速電壓：6.0 kV
      擺動角度：±30°
      研磨時間：1小時

      截面研磨時如果擺動的角度發(fā)生變化，加工的寬度和深度也會發(fā)生變化。下圖為Si片在擺動角度為±15°下進(jìn)行截面研磨后的結(jié)果。除擺動角度以外，其他條件與上述加工條件一致。通過與上面結(jié)果進(jìn)行對比后，可發(fā)現(xiàn)加工的深度變深。

      對于觀察目標(biāo)位于深處的樣品來說，能夠?qū)悠愤M(jìn)行更快速的截面研磨。

       
      樣品：Si片（2 mm厚）
      加速電壓：6.0 kV
      擺動角度：±15°
      研磨時間：1小時


      復(fù)合型研磨儀

      截面研磨

      • 1、即使是由不同硬度以及研磨速度材質(zhì)所構(gòu)成的復(fù)合材料，也可以通過IM4000Ⅱ制備出平滑的研磨面

      • 2、優(yōu)化加工條件，降低因離子束所致樣品的損傷

      • 3、可裝載20 mm(W) × 12 mm(D) × 7 mm(H)的樣品
       

      平面研磨
      • 直徑約為5mm范圍內(nèi)的均勻加工
      • 應(yīng)用領(lǐng)域廣泛
      • 可裝載直徑50 mm × 高度25 mm的樣品
      • 可選擇旋轉(zhuǎn)和擺動（±60度，±90度的擺動）2種加工方法
      平面研磨的主要用途
      • 去除機(jī)械研磨中難以消除的細(xì)小劃痕和形變
      • 去除樣品表層部分
      • 消除因FIB加工所致的損傷層
       


      產(chǎn)品選配項：

      低溫控制功能*1
      將液氮裝入杜瓦罐中，以此作為冷卻源間接冷卻樣品。IM4000Ⅱ配有溫度調(diào)節(jié)控制功能，以防止樹脂和橡膠樣品過冷。

      • *1 需與主機(jī)同時訂購。
       

       

      真空轉(zhuǎn)移功能
      離子研磨加工后的樣品可以在不接觸空氣的狀態(tài)下直接轉(zhuǎn)移到SEM*1、AFM*2上。真空轉(zhuǎn)移功能與低溫控制功能可同時使用。（平面研磨真空轉(zhuǎn)移功能不適用低溫控制功能）。
      • *1 僅支持帶有真空轉(zhuǎn)移交換倉的日立FE-SEM
      • *2 僅支持真空型日立AFM。
       

      觀察加工過程的體式顯微鏡
      右圖為用于觀察樣品加工過程的體式顯微鏡。搭載了CCD相機(jī)的三目型顯微鏡能夠在顯示器上進(jìn)行觀察。也可配置雙目型體式顯微鏡。

       

      產(chǎn)品規(guī)格：

      主要內(nèi)容
      使用氣體氬氣
      氬氣流量控制方式質(zhì)量流量控制
      加速電壓0.0 ～ 6.0 kV
      尺寸616(W) × 736(D) × 312(H) mm
      重量主機(jī)53 kg＋機(jī)械泵30 kg
      截面研磨
      研磨速度（Si材料）500 µm/h*1以上
      樣品尺寸20(W）×12(D）×7（H）mm
      樣品移動范圍X±7 mm、Y 0 ～+3 mm
      離子束間歇加工功能 
      開啟/關(guān)閉 時間設(shè)定范圍
      		1秒 ～ 59分59秒
      擺動角度±15°、±30°、±40°
      廣域截面研磨功能-
      平面研磨
      加工范圍φ32 mm
      樣品尺寸Φ50 X 25 (H) mm
      樣品移動范圍X 0～＋5 mm
      離子束間歇加工功能 
      開啟/關(guān)閉 時間設(shè)定范圍
      		1秒 ～ 59分59秒
      旋轉(zhuǎn)速度1 rpm、25 rpm
      擺動角度±60°、± 90°
      傾斜角度0 ～ 90°

      *1 將Si片從遮擋板邊緣突出100 µm并加工1小時的深度。

      選配項

      項目內(nèi)容
      低溫控制功能*2通過液氮間接冷卻樣品，溫度設(shè)定范圍：0°C ～ －100°C
      超硬遮擋板使用時間約為標(biāo)準(zhǔn)遮擋板的2倍（不含鈷）
      加工過程觀察用顯微鏡放大倍數(shù) 15× ～ 100×　雙目型、三目型（可裝CCD）

      *2  需與主機(jī)同時訂購。冷卻溫度控制功能在使用時，部分功能可能使用有限。

      
			        
      
			    
      
                			    
                                                				
      
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