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      上海艾時微技術(shù)開發(fā)有限公司


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      納米紅外成像系統(tǒng)Vista-IR

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      聯(lián)系方式:王先生查看聯(lián)系方式

      更新時間:2023-04-04 10:32:43瀏覽次數(shù):382次

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      經(jīng)營模式:其他

      商鋪產(chǎn)品:1條

      所在地區(qū):

      聯(lián)系人:王先生

      產(chǎn)品簡介

      Molecular Vista的納米紅外成像與光譜采集系統(tǒng),依靠其的光誘導(dǎo)力顯微鏡技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)10 nm空間分辨的紅外成像與光譜采集。

      詳細(xì)介紹

      Vista-IR納米紅外介紹:

      傅立葉變化紅外光譜(Fourier Transform infrared spectroscopy, FTIR)廣泛應(yīng)用于各種化學(xué)分析,尤其是聚合物和有機(jī)化合物分析,為現(xiàn)代化學(xué)提供了重要的分析手段。然而常規(guī)的傅立葉紅外光譜由于受到光學(xué)衍射極限的限制,其空間分辨率也越來越無法滿足科研人員在納米尺度下對于樣品進(jìn)行化學(xué)分析及成分鑒定。在這一背景下,Molecular Vista應(yīng)運(yùn)而生,推出了全新一代納米紅外成像與光譜采集系統(tǒng)Vista-IR!

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      Vista-IR納米紅外聯(lián)合波長可調(diào)的紅外光源,利用的光誘導(dǎo)力顯微鏡Photo-induced Force Microscope, PiFM技術(shù),可以在掃描形貌的同時實(shí)現(xiàn)10nm空間分辨的紅外成像與光譜采集,無需遠(yuǎn)場光學(xué)探測器及干涉儀。

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      10 nm空間分辨的紅外光譜成像與光譜采集或紅外高光譜成像

      嵌段共聚物相分離研究(PS-b-PMMA):半截距為~10 nm的嵌段共聚物紅外成像,截面結(jié)果顯示光誘導(dǎo)力顯微鏡實(shí)現(xiàn)了~5 nm的橫向空間分辨!

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      多層聚合物界面研究(Epoxy-pDEGDA-SDIB):以10 nm間隔以及0.2秒/譜的采集速度沿聚合物界面采集了30條紅外光譜,從1~30位置處光譜中強(qiáng)度梯度變換可以確定聚合物界面的位置以及寬度。

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      二維有機(jī)半導(dǎo)體晶體生長研究(C6-DPA)厚度為~2 nm的有機(jī)半導(dǎo)體晶體紅外成像,截面結(jié)果顯示光誘導(dǎo)力顯微鏡實(shí)現(xiàn)了單層的縱向分辨率!

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      光誘導(dǎo)力顯微鏡采集的紅外光譜與標(biāo)準(zhǔn)FTIR光譜高度吻合:科研人員可以將PiFM紅外光譜與FTIR紅外光譜圖庫中的數(shù)據(jù)進(jìn)行對比分析。

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      ZSM-5沸石分子篩:光誘導(dǎo)力顯微鏡不僅適合有機(jī)物的表征也適合無機(jī)物的表征。以下為不同Si/Al的ZSM-5晶體的紅外骨架振動峰在1100 cm-1處的紅移及劈裂情況,以及在1480 cm-1處的C=C伸縮振動峰的紅外成像來反映其參與甲醇制碳?xì)浠衔铮∕TH)催化反應(yīng)后的結(jié)焦分布。

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      晶圓缺陷與污染物:光誘導(dǎo)力顯微鏡可以對納米級缺陷的尺寸和化學(xué)成分進(jìn)行測量與分類。示例形貌圖顯示缺陷的大小約為100 nm,厚度約為3 nm。缺陷上的PiF-IR光譜與Teflon的FTIR光譜很好地匹配,使我們能夠?qū)⒃撊毕葑R別為Teflon。

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      Vista One Platform:

      Visible ~ IR chemical imaging and spectroscopy, E-field imaging, photovoltage/current imaging with sub-10 nm spatial resolution.

      Also being combined with Confocal Raman, PL imaging and other kinds of far field spectroscopy and optical microscopy.


      關(guān)鍵詞:顯微鏡 探測器
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