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      行業(yè)產(chǎn)品

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      廣州智匯科學儀器有限公司


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      GVC-2000磁控離子濺射儀

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      參  考  價面議
      具體成交價以合同協(xié)議為準

      產(chǎn)品型號

      品       牌

      廠商性質(zhì)其他

      所  在  地

      聯(lián)系方式:查看聯(lián)系方式

      更新時間:2022-10-14 13:06:59瀏覽次數(shù):222次

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      經(jīng)營模式:其他

      商鋪產(chǎn)品:15條

      所在地區(qū):

      產(chǎn)品簡介

      GVC-2000磁控離子濺射儀 全自動控制,無需調(diào)整針閥鍍膜顆粒小,無熱損傷靶材更換非常簡單特殊密封結構,玻璃不易損壞內(nèi)置操作向?qū)?,無需培訓即可熟練操作

      詳細介紹


      主要參數(shù)

      外形尺寸

      424(L)×345(D)×420(H)

      輸入電源

      220V/800W

      可用靶材

      所有金屬、部分化合物

      靶材尺寸

      φ57mm

      真空室

      高硅硼玻璃 φ200×130mm

      工作介質(zhì)

      高純氬氣(≥4N)

      低真空泵

      旋片泵

      抽速

      1.1L/s

      高真空泵

      進口渦輪分子泵

      抽速

      90L/s

      極限真空

      ≤5×10-3Pa

      工作真空

      0.1-3Pa

      濺射電流

      5-200mA 可調(diào)

      濺射時間

      1-999s 可調(diào)

      樣品臺

      φ125mm

      樣品臺轉(zhuǎn)速

      4-20rpm 可調(diào)

      顯示屏

      7 英寸  TFT 彩色觸摸屏

      抽氣節(jié)拍

      ≤5 分鐘

      進氣

      全自動

      放氣

      全自動

      預濺射

      具備預濺射擋板,全自動控制

      保護功能

      過流保護、真空保護、分子泵過熱保護等

      膜厚儀

      (選配)

      可實時顯示鍍膜厚度,并通過設定來控制鍍膜過程,測量精度

      0.1nm,單次鍍膜設定范圍 1-999nm,測量范圍 10μm

      其它

      可根據(jù)用戶需要,提供定制化產(chǎn)品


      若需了解更多資料,請致電聯(lián)系!




      關鍵詞:觸摸屏
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