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      行業(yè)產(chǎn)品
      
							
						
      
						
        
							
      • 行業(yè)產(chǎn)品
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      塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司
                                
                
                
      

							
      
                        			
      
		
      
	
      
	
	
      
		
      
            
      
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      日本DNK科研曝光機(jī)MA-4000光刻機(jī)
      
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      參  考  價(jià)面議  
      
					                    
      具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
      
				
      
				
				
      
						
      
							
      產(chǎn)品型號(hào)
      
							
      品       牌
      
		                    
      廠商性質(zhì)其他
      
		                    							
      所  在  地
      
						
      
                        
                    
      
					 							        										
      聯(lián)系方式：黃羅龍查看聯(lián)系方式
      
									                                                 
      
						
      
							
      
								更新時(shí)間：2023-07-24 15:50:12瀏覽次數(shù)：580次
							
      
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                    產(chǎn)品簡(jiǎn)介
                
      
				
      
                      
      
                                                                      
      
					
      簡(jiǎn)單介紹：                            主要特長采用獨(dú)自的平行調(diào)整機(jī)構(gòu),能夠高精度地設(shè)定掩膜與Wafer間的近接間隙。利用獨(dú)自的高速圖像處理技術(shù),實(shí)現(xiàn)高精度的對(duì)位。利用圖像處理技術(shù),使預(yù)對(duì)位可對(duì)應(yīng)薄型基板或翹曲基板及水晶等易碎Wafer(選購項(xiàng))。利用獨(dú)自的接觸壓力精密控制機(jī)構(gòu),能夠使Wafer與掩膜高精度地接觸。通過Wafer的背面真空吸著方式,實(shí)現(xiàn)高速度和高精度以及穩(wěn)定的自動(dòng)搬送
      
				
      
				
      
                    詳細(xì)介紹
                
      
			    
      
			        
      
			                     
                   詳情介紹：         
               
                   
       光刻機(jī)介紹 
       
       曝光裝置  MA-1200 基板追大尺寸 200 x 200mm ?4″ ～ ?6″   
       
       光源 超高壓水銀燈 ：500W or 1kW  
       
       曝光裝置 MA-1400  基板追大尺寸400 x 400mm  
       
       光源 超高壓水銀燈 ：2kW or 3.5kW  
       
       LED,LN曝光裝置MA-4000 圓晶尺寸?2～4″或者?4～6″  
       
       光源 超高壓汞燈：500W 或 1kW  
       
       ?200mm/?150 mm 對(duì)應(yīng)曝光裝置MA-4301M   材料SI 玻璃， 對(duì)齊精度自動(dòng)對(duì)齊：+/- 1 μm（
       峰值搜索）        
       
       ?300mm對(duì)應(yīng)曝光裝置MA-5301ML  光源超高壓汞燈：3.5kW  ?200mm規(guī)格也可對(duì)應(yīng)  
       
       マスクレス露光裝置MX-1201 曝光掃描速度43.94mm/s  有效曝光區(qū)域200 x 200 追大曝光量（※3）245/70/245+70
       マスクレス露光裝置MX-1201E  曝光掃描速度22.5mm/s  有效曝光區(qū)域200 x 200 追大曝光量（※3）460/70135        
       
       マスクレス露光裝置MX-1205  曝光掃描速度9/4.5mm/s  有效曝光區(qū)域100 x 100 追大曝光量（※3）100/50  
       
          
       
       
       主要規(guī)格 
       
       
        
          MA-4000  
               
        Wafer尺寸   ?2～4″   ?4～6″  
       
        掩膜尺寸   □5″   □7″  
       
        光源   超高壓水銀燈：500W or 1kW  
       
        外觀尺寸及重量   本體尺寸   W1340 x D1430 x H1900mm  
       
        本體重量   1120kg  
       
        選購項(xiàng)   生產(chǎn)管理系統(tǒng)(D-Net)、背面對(duì)位、○□基板兼用  
              
       
       
       ※基板尺寸和水銀燈瓦數(shù)及特殊規(guī)格可商洽 
       
        
         
       
         
               
           
			        
      
			    
      
                			    
                                                				
			
      
			
      
		
      
	
      
	
    
      
		
      
			
      
				
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