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      行業(yè)產(chǎn)品
      
							
						
      
						
        
							
      • 行業(yè)產(chǎn)品
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      塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司
                                
                
                
      

							
      
                        			
      
		
      
	
      
	
	
      
		
      
            
      
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      日本DNK科研曝光機(jī)MA-5301ML光刻機(jī)
      
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      參  考  價(jià)面議  
      
					                    
      具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
      
				
      
				
				
      
						
      
							
      產(chǎn)品型號(hào)
      
							
      品       牌
      
		                    
      廠商性質(zhì)其他
      
		                    							
      所  在  地
      
						
      
                        
                    
      
					 							        										
      聯(lián)系方式：黃羅龍查看聯(lián)系方式
      
									                                                 
      
						
      
							
      
								更新時(shí)間：2023-07-22 13:13:15瀏覽次數(shù)：381次
							
      
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                    產(chǎn)品簡介
                
      
				
      
                      
      
                                                                      
      
					
      簡單介紹：                            主要特長搭載本公司開創(chuàng)的鏡面光學(xué)系統(tǒng)爆光燈房（LAMP HOUSE）。從而實(shí)現(xiàn)了照射面內(nèi)的均勻性以及高照度。采用本公司開創(chuàng)的同軸對(duì)位方式和高速圖像處理技術(shù), 從而實(shí)現(xiàn)了高精度對(duì)位。還支持IR方式和背面方式。通過本公司開創(chuàng)的光學(xué)式間隙傳感器，可在非接觸狀態(tài)下高速、精的設(shè)定掩膜和基板間的近接間隙。搭載有掩膜更換機(jī)。*多可自動(dòng)更換20張掩膜。*多可搭載3臺(tái)片倉（Load port）。
      
				
      
				
      
                    詳細(xì)介紹
                
      
			    
      
			        
      
			                     
                   詳情介紹：         
               
                   
       光刻機(jī)介紹 
       
       曝光裝置  MA-1200 基板追大尺寸 200 x 200mm ?4″ ～ ?6″   
       
       光源 超高壓水銀燈 ：500W or 1kW  
       
       曝光裝置 MA-1400  基板追大尺寸400 x 400mm  
       
       光源 超高壓水銀燈 ：2kW or 3.5kW  
       
       LED,LN曝光裝置MA-4000 圓晶尺寸?2～4″或者?4～6″  
       
       光源 超高壓汞燈：500W 或 1kW  
       
       ?200mm/?150 mm 對(duì)應(yīng)曝光裝置MA-4301M   材料SI 玻璃， 對(duì)齊精度自動(dòng)對(duì)齊：+/- 1 μm（
       峰值搜索）        
       
       ?300mm對(duì)應(yīng)曝光裝置MA-5301ML  光源超高壓汞燈：3.5kW  ?200mm規(guī)格也可對(duì)應(yīng)  
       
       マスクレス露光裝置MX-1201 曝光掃描速度43.94mm/s  有效曝光區(qū)域200 x 200 追大曝光量（※3）245/70/245+70
       マスクレス露光裝置MX-1201E  曝光掃描速度22.5mm/s  有效曝光區(qū)域200 x 200 追大曝光量（※3）460/70135        
       
       マスクレス露光裝置MX-1205  曝光掃描速度9/4.5mm/s  有效曝光區(qū)域100 x 100 追大曝光量（※3）100/50  
       
          
       
       
       
       主要規(guī)格 
       
       
        
          MA-5301ML  
               
        Wafer尺寸    ?300ｍｍ  
       
        對(duì)位    非接觸預(yù)對(duì)位～自動(dòng)對(duì)位  
       
        光源    超高壓水銀燈：3.5kW  
       
        本體尺寸    W 2450 × D 2400 × H 2300 mm  
              
       

       
         
       
         
               
           
			        
      
			    
      
                                                				
			
      
			
      
		
      
	
      
	
    
      
		
      
			
      
				
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