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      伯東企業(yè)(上海)有限公司

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      上海伯東美國進口考夫曼離子源 KDC 系列
      參考價: 840000
      訂貨量: 1
      具體成交價以合同協(xié)議為準
      • 產(chǎn)品型號
      • 其他品牌 品牌
      • 代理商 廠商性質(zhì)
      • 上海市 所在地

      訪問次數(shù):399更新時間:2023-04-11 11:53:55

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      產(chǎn)品簡介
      上海伯東美國進口考夫曼離子源 KDC 系列, 加熱燈絲產(chǎn)生電子, 是典型的考夫曼型離子源, 增強設(shè)計輸出高質(zhì)量, 穩(wěn)定的電子流.
      產(chǎn)品介紹
      KRi 考夫曼離子源 KDC 系列

      美國 KRI 考夫曼離子源 Gridded KDC 系列
      上海伯東美國進口考夫曼離子源 KDC 系列, 加熱燈絲產(chǎn)生電子, 是典型的考夫曼型離子源, 增強設(shè)計輸出高質(zhì)量, 穩(wěn)定的電子流.
      美國 KRI 考夫曼公司新升級 Gridded KDC 系列離子源, 新的特性包含自對準離子光學(xué)和開關(guān)式電源控制. 考夫曼離子源 KDC 系列包含多種不同尺寸的離子源滿足各類應(yīng)用. 考夫曼離子源 KDC 提供一套完整的方案包含考夫曼離子源, 電子中和器, 電源供應(yīng)器等等可以直接整合在各類真空設(shè)備中, 例如實驗室小型研發(fā), 鍍膜機, load lock, 磁控濺射系統(tǒng), 卷繞鍍膜機和線性鍍膜.

      美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 特性:
      通過加熱燈絲產(chǎn)生電子
      低電流高能量寬束型離子源

      美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 應(yīng)用:
      輔助鍍膜(光學(xué)鍍膜) IBAD
      濺鍍&蒸鍍 PC
      表面改性, 激活 SM
      沉積 DD
      離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD
      離子蝕刻 IBE
       

      美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 技術(shù)參數(shù):

      型號

      KDC 10

      KDC 40

      KDC 75

      KDC 100

      KDC 160

      Discharge 陽極

      DC 電流

      DC 電流

      DC 電流

      DC 電流

      DC 電流

      離子束流

      >10 mA

      >100 mA

      >250 mA

      >400 mA

      >650 mA

      離子動能

      100-1200 V

      100-1200 V

      100-1200 V

      100-1200 V

      100-1200 V

      柵極直徑

      1 cm Φ

      4 cm Φ

      7.5 cm Φ

      12 cm Φ

      16 cm Φ

      離子束

      聚焦, 平行, 散射


      流量

      1-5 sccm

      2-10 sccm

      2-15 sccm

      2-20 sccm

      2-30 sccm

      通氣

      Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

      典型壓力

      < 0.5m Torr

      < 0.5m Torr

      < 0.5m Torr

      < 0.5m Torr

      < 0.5m Torr

      長度

      11.5 cm

      17.1 cm

      20.1 cm

      23.5 cm

      25.2 cm

      直徑

      4 cm

      9 cm

      14 cm

      19.4 cm

      23.2 cm

      中和器

      燈絲


      1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項專li. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.

      若您需要進一步的了解考夫曼離子源, 請參考以下聯(lián)絡(luò)方式
      上海伯東: 羅先生




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