工業(yè)超純水設(shè)備多晶硅超純水設(shè)備。EDI電滲析系統(tǒng)根據(jù)不同的源水水質(zhì)采用不同的工藝。一般自來(lái)水經(jīng)一級(jí)反滲透系統(tǒng)處理后，產(chǎn)水電導(dǎo)率＜10μS/cm，經(jīng)二級(jí)反滲透系統(tǒng)后產(chǎn)水電導(dǎo)率＜5μS/cm甚到更低，在反滲透系統(tǒng)后輔以離子交換設(shè)備或EDI超純水設(shè)備可以制備超純水，使電阻率達(dá)到18兆歐姆(電導(dǎo)率=1/電阻率)。

一、多晶硅超純水設(shè)備技術(shù)工藝分析 ：

1、采用RO反滲透+EDI離子交換系統(tǒng)相結(jié)合的成熟工藝，具有運(yùn)行可靠、操作維護(hù)方便；

2、與傳統(tǒng)工藝相比具有運(yùn)行穩(wěn)定優(yōu)點(diǎn)（離子交換器的再生周期大大延長(zhǎng)），與新工藝相比無(wú)須再生，耗材；

3、前置RO反滲透工藝技術(shù)*，可靠。并運(yùn)用成熟的EDI工藝，使水質(zhì)出水更趨于穩(wěn)定安 全；

二、系統(tǒng)工藝流程

預(yù)處理系統(tǒng)－反滲透系統(tǒng)－中間水箱－粗混合床－精混合床－純水箱－純水泵－紫外線(xiàn)殺 菌器－拋光混床－精密過(guò)濾器－用水對(duì)象（≥18MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)

三、工藝出水標(biāo)準(zhǔn)

超純化水標(biāo)準(zhǔn)、醫(yī)療生物水標(biāo)準(zhǔn)、顯像管、液晶顯示器用純水水質(zhì)（經(jīng)驗(yàn)數(shù)據(jù)）集成電路PCB用純水水質(zhì)、光電技術(shù)、航空技術(shù)、半導(dǎo)體高晶硅制取及化合物提取國(guó) 家電子級(jí)純水標(biāo)準(zhǔn)美國(guó)SEMI協(xié)會(huì)標(biāo)準(zhǔn)

四、設(shè)備特點(diǎn)

南京萊弗特環(huán)?？萍加邢薰緸闈M(mǎn)足用戶(hù)需要，達(dá)到符合標(biāo)準(zhǔn)的水質(zhì)，盡可能地減少各級(jí)的污染，延長(zhǎng)設(shè)備的使用壽命、降低操作人員的維護(hù)工作量.在工藝設(shè)計(jì)上，取達(dá)國(guó) 家自來(lái)水標(biāo)準(zhǔn)的水為源水，再設(shè)有介質(zhì)過(guò)濾器，活性碳過(guò)濾器，鈉離子軟化器、精密過(guò)濾器等預(yù)處理系統(tǒng)、RO反滲透主機(jī)系統(tǒng)、離子交換混床（EDI電除鹽系統(tǒng)）系統(tǒng)等。 系統(tǒng)中水箱均設(shè)有液位控制系統(tǒng)、水泵均設(shè)有壓力保護(hù)裝置、在線(xiàn)水質(zhì)檢測(cè)控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無(wú)人職守，同時(shí)在工藝選材上采用推 薦和客戶(hù)要求相統(tǒng)一的方法，使設(shè)備與其它同類(lèi)產(chǎn)品相比較，具有更高的性?xún)r(jià)比和設(shè)備可靠性。