隨著半導(dǎo)體、電子行業(yè)的技術(shù)發(fā)展,對水處理設(shè)備的需求也越來越廣泛,國內(nèi)外超純水設(shè)備的技術(shù)也獲得了飛速的發(fā)展和廣泛的應(yīng)用,涌現(xiàn)出一大批超純水處理方面領(lǐng)域的公司企業(yè),。目前國內(nèi)的超純水制備行業(yè)正處于快速的發(fā)展階段,但是相比國外的發(fā)展水平仍有很大的差距。隨著國內(nèi)半導(dǎo)體生產(chǎn)線的普及,超純水制備設(shè)備的需求越來越大,目前國內(nèi)的現(xiàn)代超純水水質(zhì)以電阻率、TOC(總有機(jī)碳)、細(xì)菌、微粒、DO(溶解氧)、可溶硅、離子和金屬雜質(zhì)等參數(shù)來表征,它們對器件影響大。因此,這就需要設(shè)計一臺能夠制備滿足指標(biāo)要求的浸沒液超純水處理系統(tǒng),以保證光刻機(jī)的正常運(yùn)行。超純水處理系統(tǒng)是制備超純水的自動控制系統(tǒng),在光刻機(jī)中它作為浸沒控制系統(tǒng)中的子模塊,主要負(fù)責(zé)對超純水的制備,對超純水污染物質(zhì)進(jìn)行處理,并達(dá)到浸沒供給液各項(xiàng)指標(biāo)要求。
超純水設(shè)備
EDI超純水設(shè)備工作原理:
EDI工作原理如圖所示。EDI膜塊中將一定數(shù)量的EDI單元用格板隔開,形成濃水室和淡水室。又在單元兩端設(shè)置陰/陽電極。在直流電的推動下,通過淡水室水流中的陰陽離子分別透過陰陽離子交換膜遷移到濃水室而在淡水室中去除。如下圖:
電場使進(jìn)水中的水分子在離子交換樹脂界面離解成H+及OH-,并不斷地再生淡水室中陰、陽離子交換樹脂。離子交換樹脂中的陰、陽離子在再生過程中受到相應(yīng)正負(fù)電極的吸引,透過陽、陰離子交換樹脂向所對應(yīng)的離子膜的方向遷移。當(dāng)這些離子透過交換膜進(jìn)入濃室后,H+及OH-重新結(jié)合成水。這種H+及OH-的產(chǎn)生、湮滅及陰、陽離子遷移正是離子交換樹脂得以實(shí)現(xiàn)連續(xù)再生的機(jī)理。
EDI超純水設(shè)備組成部分:
1、淡水室將離子交換樹脂填充在陰、陽離子交換膜之間形成淡水室
2、濃水室在相鄰淡水單元的陰陽離子交換膜之間添加樹脂,形成濃水室;
3、極水室在電極板與相鄰離子交換膜中間添加樹脂,形成極水室。
一個膜塊中有正、負(fù)兩個極水室;
4、絕緣板和壓緊板
5、電源及水路連接
參數(shù):
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