Hiden HPR30過程氣體分析質(zhì)譜儀技術參數(shù)：
HPR-30真空過程氣體分析系統(tǒng)(Process Gas Analyser)，適用于監(jiān)測分析殘余氣體和真空工藝過程中的氣體組成及變化。

應用：
   · CVD / PECVD / RIE / LPCVD / MOCVD 
   · 真空涂覆/ 等離子刻蝕
   · 沉積濺射
   · 污染物研究
   · 基本壓力辨別
   · 泄漏探測/ 實質(zhì)泄漏/脫附分析
   · 除氣/烘烤/泵效能
   · 反應室/過程氣體污染物

Hiden HPR30過程氣體分析質(zhì)譜儀 特點：
   · 簡潔的桌上型，移動推車或控制臺架結構
   · Direct re-entrant流孔板，差式泵，以達到適宜的靈敏度
   · 連續(xù)取樣從10-4mbar至1mbar. 
   · 高靈敏度（可至5ppb），質(zhì)量數(shù)可選至1000amu
   · 軟離子化技術，分析復雜有機物，或表觀MS研究
   · 穩(wěn)定性好(24h之上，峰高變化小于±0.5%) 
   · MASsoft軟件控制，或由局域網(wǎng)進行多個系統(tǒng)控制
   · 氣動閥自動控制；出現(xiàn)電力不足或壓力過大等不安全狀況時可啟用手動隔離裝置
   · 自動、同時數(shù)據(jù)取得、分析，實時顯示、報警