LAB火花直讀光譜儀

UV-PLUS光學(xué)系統(tǒng)是純凈的，同時(shí)具有杰出的*穩(wěn)定性。系統(tǒng)在120-180nm波段透光效率，運(yùn)行成本很低。

   的光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)與UV-PLUS概念相結(jié)合，M11能夠同時(shí)以高達(dá)9pm的光譜分辨率記錄120-800nm波段的全部一級(jí)光譜圖。這一核心技術(shù)奠定了SPECTROLAB杰出分析性能的重要基礎(chǔ)。

等離子發(fā)生器光源：

   新一代等離子發(fā)生器是至今堅(jiān)固的激發(fā)光源。超穩(wěn)定的能量釋放在氬氣環(huán)境中激發(fā)樣品。全數(shù)字信號(hào)發(fā)生配合全數(shù)字能量輸出，確保激發(fā)區(qū)等離子體能量超高分辨率和高保真輸出。 在標(biāo)準(zhǔn)分析應(yīng)用中18秒內(nèi)可以獲得分析數(shù)據(jù)，提高了樣品輸出量和過(guò)程控制效率。
火花臺(tái)：

   M12的火花臺(tái)直接將激發(fā)光導(dǎo)入光學(xué)系統(tǒng)?；鸹ㄅ_(tái)內(nèi)部體積進(jìn)一步縮小，優(yōu)化氬氣流
向設(shè)計(jì)使得氬氣消耗更低，同時(shí)有效移除殘留粉塵。尾氣經(jīng)兩級(jí)過(guò)濾系統(tǒng)排出。火花臺(tái)工作維護(hù)量極低。*壓桿可以左右移動(dòng)，接駁安全電路?？梢钥焖俑鼡Q樣品。

   LAB火花直讀光譜儀適用分析大尺寸異型樣品。特殊設(shè)計(jì)的樣品夾可用于分析棒材、線材和薄片。小樣品分析程序提高了 分析精度和準(zhǔn)確性。

分析測(cè)試：

   M12的精致設(shè)計(jì)使用日常維護(hù)和校工作量降到低，儀器操作變得非常簡(jiǎn)單。日常分析按一個(gè)鍵就可以完成。配合自動(dòng)制樣設(shè)備，可以實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)大樣品量輸出。集成于Spark Analyzer Vision 軟件包的硬件診斷系統(tǒng)，實(shí)時(shí)監(jiān)控和存檔儀器的運(yùn)行狀態(tài)。對(duì)于儀器參數(shù)設(shè)置，數(shù)據(jù)管理，聯(lián)網(wǎng)傳輸，打印和材料牌號(hào)判定等功能，軟件設(shè)計(jì)了簡(jiǎn)單直觀，易懂的操作界面。SQL數(shù)據(jù)庫(kù)格式是數(shù)據(jù)管理軟件的基礎(chǔ)。

   基于用戶的分析需求，儀器可以定制成十種標(biāo)準(zhǔn)基體的任意組合。

   CCD光學(xué)系統(tǒng)可以自由選擇120-800nm范圍內(nèi)的任意譜線用于分析線或參比線。光電管光學(xué)系統(tǒng)多可設(shè)置108個(gè)高性能光電倍增管。每個(gè)光電管通道都有是一個(gè)微積分器，具有TRS（時(shí)間分解光譜技術(shù)）分析痕量元素和SSE（單火花評(píng)估技術(shù)）分析元素相態(tài)。事實(shí)上，所有分析要求都可以在M11中無(wú)折衷地實(shí)現(xiàn)。

   配備現(xiàn)代光譜技術(shù)和高質(zhì)量的元器件，SPECTROLABM11設(shè)計(jì)應(yīng)用于解決各種分析要求。憑借其杰出的性能表現(xiàn)和靈活性，適用于過(guò)程控制，質(zhì)量監(jiān)控，材料牌號(hào)判定，材料研究和開(kāi)發(fā)，以及金屬冶煉，加工和回收工業(yè)中的各種分析應(yīng)用。