德國(guó)*膠體磨，工業(yè)化高速膠體磨，工業(yè)化納米膠體磨,14000轉(zhuǎn)膠體磨，納米實(shí)驗(yàn)室膠體磨,納米膠體磨,實(shí)驗(yàn)室膠體磨,高速膠體磨 高轉(zhuǎn)速實(shí)驗(yàn)室膠體磨，此款實(shí)驗(yàn)室膠體磨比普通的膠體磨的速度達(dá)到4-5倍以上，研磨效果非常好，zui高轉(zhuǎn)速可以達(dá)到21000RPM。

納米實(shí)驗(yàn)室膠體磨的研磨效果
詳情請(qǐng)接洽上海依肯,段，手機(jī) ，公司有樣機(jī)供客戶實(shí)驗(yàn) 

響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)

2膠體磨磨頭頭的剪切速率（越大，效果越好）

3膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細(xì)齒，超細(xì)齒，約細(xì)齒效果越好）

4物料在研磨腔體的停留時(shí)間，研磨粉碎時(shí)間（可以看作同等的電機(jī)，流量越小，效果越好）

5循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好）

線速度的計(jì)算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。

剪切速率(s-1)= v速率(m/s)
g定-轉(zhuǎn)子間距(m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子間距。
IKN定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為0.2~0.4mm

速率V=3.14XD（轉(zhuǎn)子直徑）X轉(zhuǎn)速RPM/60

納米實(shí)驗(yàn)室膠體磨 ,實(shí)驗(yàn)室中試型膠體磨是由電動(dòng)機(jī)通過(guò)皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過(guò)本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生 向下的螺旋沖擊力，透過(guò)定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

德國(guó)*膠體磨，工業(yè)化高速膠體磨，工業(yè)化納米膠體磨,14000轉(zhuǎn)膠體磨，納米實(shí)驗(yàn)室膠體磨,納米膠體磨,實(shí)驗(yàn)室膠體磨,高速膠體磨詳情請(qǐng)接洽上海依肯,段，手機(jī) ，公司有樣機(jī)供客戶實(shí)驗(yàn) 

                   
納米實(shí)驗(yàn)室中試型膠體磨的細(xì)化作用一般來(lái)說(shuō)要弱于均質(zhì)機(jī)，但它對(duì)物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)（如高粘度、大顆粒），所以在很多場(chǎng)合下，實(shí)驗(yàn)室中試型膠體磨用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場(chǎng)合。在固態(tài)物質(zhì)較多時(shí)也常常使用膠體磨進(jìn)行細(xì)化。 物料粘度或固含量高導(dǎo)致不能正常進(jìn)料和輸送時(shí)，須選用壓力或輸送泵進(jìn)料或送料，輸送泵的壓力和流量與被選機(jī)型相匹配。

CM2000/4納米實(shí)驗(yàn)室中試型膠體磨是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計(jì)，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。 CM2000/4實(shí)驗(yàn)室中試型膠體磨的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。 CM2000/4實(shí)驗(yàn)室中試型膠體磨的定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

公司另外一項(xiàng)*的創(chuàng)新，就是錐體磨CMO2000系列，它的設(shè)計(jì)使其功能在原有的CM2000的基礎(chǔ)上又進(jìn)了一步。由于這項(xiàng)創(chuàng)新，CMO2000能夠濕磨和研磨，產(chǎn)生的顆粒粒徑甚至比膠體磨CM2000還小。研磨間隙可以無(wú)級(jí)調(diào)節(jié)，從而可以得到精確的研磨參數(shù)。 
研磨頭的表面涂上了一層極其堅(jiān)硬的硬質(zhì)材料，從而使其表面具有非常粗糙的紋理。這種硬質(zhì)材料是由碳化物、陶瓷等高質(zhì)量物質(zhì)構(gòu)成，并且具有不同的粒徑。研磨頭處形成了一個(gè)具有強(qiáng)烈剪切的區(qū)域，可以輸送高粘度和低粘度物料，但它的分散效果和zui后的粒徑大小都比膠體磨CM的效果更加理但它的分散效果和zui后的粒徑大小都比膠體磨CM的效果更加理想。

            
它們的主要區(qū)別

CM2000/4（LP系列）為實(shí)驗(yàn)室膠體磨的技術(shù)參數(shù)：功率1.5-2.2KW,轉(zhuǎn)速0-14000rpm,線速度 0-40m/s,電壓380V,機(jī)器產(chǎn)量為 0– 700 升/小時(shí)（水），重量35KG,尺寸 (長(zhǎng)寬高）(450250350)MM，LP使用軸封（PTFE 環(huán)），在正常的情況下，一般軸封可以使用3000-4000次。LP不能24小時(shí)連續(xù)使用，一般zui多可以使用連續(xù)半個(gè)小時(shí)，這要依據(jù)料液的溫度和轉(zhuǎn)速而定。LP也可以通過(guò)變換模塊，可以實(shí)現(xiàn)多功能多用途。是中試生產(chǎn)的zuijia選擇。

CM2000/4（PP系列）為中試型膠體磨的技術(shù)參數(shù)：功率2.2-4 KW,轉(zhuǎn)速0-14000rpm,線速度 0-40m/s，電壓380V,機(jī)器產(chǎn)量為 0– 700 升/小時(shí)（水），重量45KG, 尺寸 (長(zhǎng)寬高）((450250350)MM，PP使用雙機(jī)械密封，可24小時(shí)不停機(jī)連續(xù)生產(chǎn)，并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻。通過(guò)變換模塊，可以實(shí)現(xiàn)多功能多用途。機(jī)械密封和機(jī)械設(shè)計(jì)符合3A健康標(biāo)準(zhǔn)，是中試和小批量生產(chǎn)的zuijia選擇。

，工業(yè)化高速膠體磨，工業(yè)化納米膠體磨,14000轉(zhuǎn)膠體磨，納米實(shí)驗(yàn)室膠體磨,納米膠體磨,實(shí)驗(yàn)室膠體磨,高速膠體磨詳情請(qǐng)接洽上海依肯,段，手機(jī) ，公司有樣機(jī)供客戶實(shí)驗(yàn)