HORIBA XF-100 系列數(shù)字式液體質(zhì)量流量計
產(chǎn)品概述
HORIBA XF-100 系列是專為半導(dǎo)體制造、化學(xué)機械拋光(CMP)及高純化學(xué)品控制等領(lǐng)域設(shè)計的高精度數(shù)字式液體質(zhì)量流量計(Digital Liquid Mass Flow Meter)。該系列采用差壓測量原理結(jié)合材料物性補償技術(shù),能夠?qū)崿F(xiàn)穩(wěn)定、快速、無污染的液體流量控制,是新一代高性能流體控制解決方案。
核心優(yōu)勢
高精度測量:采用哈根-波伊修定律(Hagen-Poiseuille)實現(xiàn)±0.8% F.S. 的流量測量精度
超快響應(yīng)時間:響應(yīng)時間低至0.8秒,加快工藝穩(wěn)定速度
無油潔凈設(shè)計:無機械運動部件,無需油封,避免化學(xué)品污染,適用于高純液體
單通道流動結(jié)構(gòu):有效抑制氣泡滯留,提升流量檢測穩(wěn)定性
多種通信接口:支持模擬信號輸出、RS-485、DeviceNet 等,便于系統(tǒng)集成
技術(shù)參數(shù)(以 XF-122 為例)
流量范圍:0.2 至 30 g/min
測量精度:±0.8% F.S.
響應(yīng)時間:小于等于 0.8 秒
工作溫度范圍:0 至 50 攝氏度
工作壓力:1.0 MPa
可測液體類型:非腐蝕性液體,粘度不高于 10 cP
通信接口:支持模擬輸出(0–5V)、RS-485 數(shù)字通信、DeviceNet
電源要求:24 V DC 電源供電
應(yīng)用領(lǐng)域
半導(dǎo)體制造工藝(薄膜沉積、刻蝕、清洗)
CMP 拋光液/化學(xué)液體精準(zhǔn)控制
OLED 顯示器生產(chǎn)液體輸送
精密流體輸送系統(tǒng)
醫(yī)藥與化學(xué)試劑輸送與配比