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      直流磁控濺射真空鍍膜設(shè)備

      參考價(jià)面議
      具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
      • 公司名稱鄭州科探儀器設(shè)備有限公司
      • 品       牌
      • 型       號(hào)
      • 所  在  地鄭州市
      • 廠商性質(zhì)其他
      • 更新時(shí)間2024/5/3 13:22:25
      • 訪問次數(shù)106
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      鄭州科探儀器設(shè)備有限公司是集開發(fā)、制造、經(jīng)營(yíng)為一體的材料創(chuàng)新型企業(yè),如今公司的產(chǎn)品已經(jīng)遍布國(guó)內(nèi)大多數(shù)實(shí)驗(yàn)室 及*校,科探儀器已經(jīng)成為老師 同學(xué)歡迎和信任的品牌之一公司以科技創(chuàng)新為主,服務(wù)社會(huì)為宗旨,積極設(shè)計(jì)開發(fā)新型材料制備設(shè)備,奉獻(xiàn)于教育和科學(xué),經(jīng)過長(zhǎng)期的研發(fā)和不斷地技術(shù)積累,擁有熱工,制造,控制相關(guān)技術(shù)10余項(xiàng),為化學(xué),物理,材料,電子,高分子工程,新材料制備和研發(fā)領(lǐng)域的科學(xué)研究提供了精良設(shè)備。公司通過和院校老師 同學(xué)強(qiáng)強(qiáng)聯(lián)合,形成了有效的信息,技術(shù)交流平臺(tái),為科探儀器了解市場(chǎng)需求提供了強(qiáng)有力的支持!。目前公司已研發(fā)生產(chǎn)產(chǎn)品十多個(gè)系列幾十款產(chǎn)品,產(chǎn)品囊括實(shí)驗(yàn)電爐、CVD供氣系統(tǒng)、等離子清洗機(jī)、小型離子濺射儀、小型蒸鍍儀等,主要適用于科研院校及工礦企業(yè)在新材料、新能源等領(lǐng)域物理特性及化學(xué)特性的研究,廣銷于各大院校,及材料研究所。公司與國(guó)內(nèi)高校,科研院所有多層次的合作關(guān)系,建有開放實(shí)驗(yàn)室,相關(guān)領(lǐng)域的教授、高級(jí)工程師、博士參與公司產(chǎn)品的研究和開發(fā)。我們秉承公司的發(fā)展理念,依靠嚴(yán)謹(jǐn)?shù)募夹g(shù)研發(fā)能力,科學(xué)合理的生產(chǎn)工藝,精益求精的制造要求,全心全意做好產(chǎn)品質(zhì)量和服務(wù)工作,科探儀器時(shí)刻懷著一顆真誠(chéng)的心期待與您的合作。
      溫度控制儀
      直流磁控濺射真空鍍膜設(shè)備,7寸人機(jī)界面,自動(dòng)手動(dòng)模式切換控制,功率1000w直流磁控濺射
      直流磁控濺射真空鍍膜設(shè)備 產(chǎn)品信息

      直流磁控濺射真空鍍膜設(shè)備,7寸人機(jī)界面,自動(dòng)手動(dòng)模式切換控制,功率1000w直流磁控濺射

      單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備,特別適用于實(shí)驗(yàn)室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等

      單靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備,具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點(diǎn)。

      所配電源為1000W大功率直流電源,可用于高能量的金屬濺射鍍膜,根據(jù)實(shí)驗(yàn)需求也可以選配其他規(guī)格的直流或者射頻電源來實(shí)現(xiàn)各種材料的鍍膜操作。

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      直流磁控濺射真空鍍膜設(shè)備技術(shù)參數(shù);

      控制方式

      7寸人機(jī)界面 手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制

      濺射電源

      直流濺射電源

      鍍膜功能

      0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

      功率

      ≤1000W

      輸出電壓電流

      電壓≤1000V  電流≤1A

      真空

      機(jī)械泵 ≤5Pa(5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

      濺射真空

      ≤30Pa

      擋板類型

      電控

      真空腔室

      不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

      樣品臺(tái)

      可旋轉(zhuǎn)φ62  (可安裝φ50基底)

      樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速

      8轉(zhuǎn)/分鐘

      樣品濺射源調(diào)節(jié)距離

      40-105mm

      真空測(cè)量

      皮拉尼真空計(jì)(已安裝 測(cè)量范圍10E5Pa  1E-1Pa)

      預(yù)留真空接口

      KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進(jìn)氣口






      關(guān)鍵詞:人機(jī)界面
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