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      銅靶材鍍膜濺射儀

      參考價(jià)面議
      具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
      • 公司名稱鄭州科探儀器設(shè)備有限公司
      • 品       牌
      • 型       號(hào)
      • 所  在  地鄭州市
      • 廠商性質(zhì)其他
      • 更新時(shí)間2024/5/4 9:18:50
      • 訪問(wèn)次數(shù)118
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      鄭州科探儀器設(shè)備有限公司是集開(kāi)發(fā)、制造、經(jīng)營(yíng)為一體的材料創(chuàng)新型企業(yè),如今公司的產(chǎn)品已經(jīng)遍布國(guó)內(nèi)大多數(shù)實(shí)驗(yàn)室 及*校,科探儀器已經(jīng)成為老師 同學(xué)歡迎和信任的品牌之一公司以科技創(chuàng)新為主,服務(wù)社會(huì)為宗旨,積極設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)新型材料制備設(shè)備,奉獻(xiàn)于教育和科學(xué),經(jīng)過(guò)長(zhǎng)期的研發(fā)和不斷地技術(shù)積累,擁有熱工,制造,控制相關(guān)技術(shù)10余項(xiàng),為化學(xué),物理,材料,電子,高分子工程,新材料制備和研發(fā)領(lǐng)域的科學(xué)研究提供了精良設(shè)備。公司通過(guò)和院校老師 同學(xué)強(qiáng)強(qiáng)聯(lián)合,形成了有效的信息,技術(shù)交流平臺(tái),為科探儀器了解市場(chǎng)需求提供了強(qiáng)有力的支持!。目前公司已研發(fā)生產(chǎn)產(chǎn)品十多個(gè)系列幾十款產(chǎn)品,產(chǎn)品囊括實(shí)驗(yàn)電爐、CVD供氣系統(tǒng)、等離子清洗機(jī)、小型離子濺射儀、小型蒸鍍儀等,主要適用于科研院校及工礦企業(yè)在新材料、新能源等領(lǐng)域物理特性及化學(xué)特性的研究,廣銷于各大院校,及材料研究所。公司與國(guó)內(nèi)高校,科研院所有多層次的合作關(guān)系,建有開(kāi)放實(shí)驗(yàn)室,相關(guān)領(lǐng)域的教授、高級(jí)工程師、博士參與公司產(chǎn)品的研究和開(kāi)發(fā)。我們秉承公司的發(fā)展理念,依靠嚴(yán)謹(jǐn)?shù)募夹g(shù)研發(fā)能力,科學(xué)合理的生產(chǎn)工藝,精益求精的制造要求,全心全意做好產(chǎn)品質(zhì)量和服務(wù)工作,科探儀器時(shí)刻懷著一顆真誠(chéng)的心期待與您的合作。
      溫度控制儀
      以銅 (Cu) 濺射靶材為例.在制備銅濺射靶時(shí),不可避免地會(huì)引入硫、鉛等其他雜質(zhì)含量.微量的硫可以防止熱加工時(shí)晶粒尺寸增大或產(chǎn)生微裂紋;但當(dāng)硫元素含量高于18 ppm時(shí),會(huì)出現(xiàn)微裂紋;隨著兩種雜質(zhì)元素(硫和鉛),銅靶材鍍膜濺射儀KT-Z1650PVD為臺(tái)式磁控濺射鍍膜機(jī),儀器結(jié)構(gòu)緊湊,全自動(dòng)控制,設(shè)計(jì)符合人體工程學(xué),所得結(jié)果一致,可重復(fù)性高。
      銅靶材鍍膜濺射儀 產(chǎn)品信息

      銅靶材Cu target 鄭科探小型磁控濺射靶材鍍膜銅膜料顆粒銅

      以銅 (Cu) 濺射靶材為例.在制備銅濺射靶時(shí),不可避免地會(huì)引入硫、鉛等其他雜質(zhì)含量.微量的硫可以防止熱加工時(shí)晶粒尺寸增大或產(chǎn)生微裂紋;但當(dāng)硫元素含量高于18 ppm時(shí),會(huì)出現(xiàn)微裂紋;隨著兩種雜質(zhì)元素(硫和鉛)含量的增加,靶材裂紋的數(shù)量和電弧放電的數(shù)量會(huì)增加.因此,應(yīng)盡可能降低靶材中的雜質(zhì)含量,以提高薄膜的均勻性。

       

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      高純度銅靶材

       

      銅靶材鍍膜濺射儀

       

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      應(yīng)用領(lǐng)域:

      離子濺射儀在掃描電鏡中應(yīng)用十分廣泛,通過(guò)向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導(dǎo)電樣品的荷電現(xiàn)象,并提高觀測(cè)效率,另外可以使用噴碳附件對(duì)樣品進(jìn)行蒸碳,實(shí)現(xiàn)不導(dǎo)電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。

      銅靶材鍍膜濺射儀KT-Z1650PVD廠家供應(yīng)技術(shù)參數(shù);

       

      控制方式

      7寸人機(jī)界面 手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制

      濺射電源

      直流濺射電源

      鍍膜功能

      0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

      功率

      ≤1000W

      輸出電壓電流

      電壓≤1000V  電流≤1A

      真空

      機(jī)械泵 ≤5Pa(5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

      濺射真空

      ≤30Pa

      擋板類型

      電控

      真空腔室

      石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

      樣品臺(tái)

      可旋轉(zhuǎn)φ62  (可安裝φ50基底)

      樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速

      8轉(zhuǎn)/分鐘

      樣品濺射源調(diào)節(jié)距離

      40-105mm

      真空測(cè)量

      皮拉尼真空計(jì)(已安裝 測(cè)量范圍10E5Pa  1E-1Pa)

      預(yù)留真空接口

      KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進(jìn)氣口




       

       
      關(guān)鍵詞:人機(jī)界面
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