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      桌上型HMDS烘箱,小型HMDS真空烤箱

      參考價(jià)面議
      具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
      • 公司名稱上海雋思實(shí)驗(yàn)儀器有限公司
      • 品       牌
      • 型       號(hào)
      • 所  在  地上海市
      • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
      • 更新時(shí)間2024/1/27 15:54:25
      • 訪問(wèn)次數(shù)176
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        上海雋思實(shí)驗(yàn)儀器有限公司集研發(fā)、設(shè)計(jì)、制造、銷售于一體,專業(yè)制造氣候環(huán)境試驗(yàn)設(shè)備、各類烘干設(shè)備及實(shí)驗(yàn)室儀器,電線電纜燃燒分析檢測(cè)設(shè)備,拉力試驗(yàn)機(jī),光學(xué)分析儀器等產(chǎn)品.燃燒試驗(yàn)機(jī),電纜燃燒試驗(yàn)機(jī)高低溫試驗(yàn)箱,溫濕度試驗(yàn)箱,真空干燥箱電纜切片機(jī),削片機(jī),交聯(lián)電纜切片機(jī)拉力機(jī),拉力試驗(yàn)機(jī),*試驗(yàn)機(jī)電纜投影儀,電纜截面投影儀,電纜測(cè)量投影老化試驗(yàn)機(jī),老化房定做過(guò)渡電阻測(cè)試儀,絕緣電阻測(cè)試儀,電橋氣候環(huán)境試驗(yàn)設(shè)備、各類烘干設(shè)備及實(shí)驗(yàn)室儀電線電纜燃燒分析檢測(cè)設(shè)備,拉力試驗(yàn)機(jī).
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      桌上型HMDS烘箱,小型HMDS真空烤箱使用工藝光刻--就是將掩膜版上的幾何圖形轉(zhuǎn)移到涂有一層光刻膠的晶圓表面的工藝過(guò)程
      桌上型HMDS烘箱,小型HMDS真空烤箱 產(chǎn)品信息

      桌上型HMDS烘箱,小型HMDS真空烤箱使用工藝

        光刻--就是將掩膜版上的幾何圖形轉(zhuǎn)移到涂有一層光刻膠的晶圓表面的工藝過(guò)程。典型的光刻全過(guò)程為:

      晶圓表面預(yù)處理一涂膠(去邊)一前烘一 (對(duì)位) 曝光一PEB 烘一顯影一后烘一顯檢(測(cè)量)

         以上步驟中的步表面預(yù)處理就是涂膠前要進(jìn)行增粘處理(可利用親水/疏水理論對(duì)其進(jìn)行解釋。由于襯底表面吸水特性,使疏水的光刻膠無(wú)法與親水的晶圓表面結(jié)合良好。未經(jīng)過(guò)HMDS表面處理的晶圓在后道工藝中容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。通常的方法是使用氣相沉積的方法改變表面特性,一般采用HMDS涂布方法改變晶圓表面的親水性,從而增大晶圓表面的接觸角),增強(qiáng)光刻膠和晶圓的粘附力。

      桌上型HMDS烘箱,小型HMDS真空烤箱涂布方法

         JS-hmds90烘箱采用真空蒸鍍的方法涂布HMDS化合物。HMDS烘箱在高溫條件下,達(dá)到真空狀態(tài)后開(kāi)始涂布工藝,涂布完成后烘箱內(nèi)部充入N2,達(dá)到常壓后方可開(kāi)門。

      溫度范圍:RT+10-250℃

      真空度:≤1torr

      控制儀表:人機(jī)界面,一鍵運(yùn)行

      儲(chǔ)液瓶:HMDS儲(chǔ)液量1000ml 

      真空泵:無(wú)油渦旋真空泵

      數(shù)據(jù)處理:多個(gè)工藝方案,可修改并記錄,使用數(shù)據(jù)可記錄

      保護(hù)裝置: 低液位報(bào)警,HMDS藥液泄漏報(bào)&警,超溫保護(hù)并斷開(kāi)加熱,超溫保護(hù),漏電保護(hù),過(guò)熱保護(hù)等


      桌上型HMDS烘箱,小型HMDS真空烤箱增粘處理的注意事項(xiàng):

      1)預(yù)處理完的硅片應(yīng)在一定的時(shí)間內(nèi)盡快涂膠,以免表面吸附空氣中的水分,降低增粘效果。但同時(shí)也要充分冷卻,因硅片的溫度對(duì)膠厚有很大的影響;

      2)反復(fù)預(yù)處理反而會(huì)降低增粘效果;

      3)HMDS 的瓶蓋打開(kāi)后,其壽命有限。



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