產(chǎn)品簡介:
直拉法晶體生長爐,可針對于高純度活潑材料的晶體生長實驗探索,也可以適用于晶體材料的生產(chǎn);此款晶體生長爐可以提拉各種氧化物單晶和金屬單晶,如藍寶石、 GGG, YAG, LaAlO3 , Si 和 Ge 等,溫度可達 2100℃ (石墨坩堝)。此系統(tǒng)采用組成:高頻感應加熱電源,高真空腔體,石墨坩堝、或者氮化硼坩堝、精密提拉機構(gòu)和坩堝旋轉(zhuǎn)機構(gòu)。
二、主要技術(shù)參數(shù)
工作電源 | AC 380V,三相,20KW |
感應射頻 | 30-80KHz |
熔煉溫度 | 1650℃ |
真空系統(tǒng)(選配) | 配置一:10-2torr (機械泵) 1.型號:VRD-24 2.抽氣口接口尺寸:KF25 3.抽氣速率:(24m3/h) 6.6L/S 4.電機功率:750W 5.極限壓強 4×10-2Pa 配置二:10-5torr (機械泵+分子泵) 1.抽氣速率:620L/s 2.極限壓強:6×10-5Pa 3.啟動時間:≤8min 4.額定轉(zhuǎn)速:27000rpm/min 5.冷卻方式:水冷 6.抽氣口接口尺寸:LF160 |
真空腔室
| 1.采用 SS304 不銹鋼腔體雙層水冷腔體,確保設備工作室表面溫度 ≤70℃, 2.腔體尺寸: φ400*400mm臥式結(jié)構(gòu) 3.腔門上有一個50*150mm 的方形觀察窗口,方便晶體生長過程中實 時觀察樣品的熔化和生長情況; 4.腔體上部安裝了一個量程為-0.1-0.15MPa 的機械壓力表用于觀察 腔室內(nèi)壓力情況 5.一個 φ6 雙卡套接頭做為出氣口,并通過一個不銹鋼針閥控制出氣的通斷 6.一個電磁閥可自動控制進氣 7.安裝了一個安全泄壓閥,當腔室中壓力大于一定值時將自動泄壓, 確保腔體的安全 |
提拉機構(gòu) | 1.提拉采用伺服電機驅(qū)動,旋轉(zhuǎn)采用直流電機驅(qū)動 2.提拉速度:0.01-30mm/h 3.籽晶桿旋轉(zhuǎn)速度:0.1-60 rpm 4.提拉行程:200mm 5.位移精度:0.01mm 6.提拉分為快速和慢速 |
坩堝旋轉(zhuǎn)機構(gòu) | 1.直流電機驅(qū)動 2.旋轉(zhuǎn)速度:1-30 rpm |
控制系統(tǒng) | 1.整個電路控制系統(tǒng)在觸摸屏上面實現(xiàn)操作控制,采用控制軟件進行控制,可以實現(xiàn)以下功能: 2.生長斜率及控制參數(shù)設定; 3.控制晶升,動態(tài)可調(diào) 4.控制晶轉(zhuǎn),可設定多段速自動執(zhí)行 5.腔體真空壓力檢測 6.報警監(jiān)測,晶升晶轉(zhuǎn)中頻氣壓等上限報警 7.實時數(shù)據(jù)曲線 8.數(shù)據(jù)記錄, 自動存儲運行數(shù)據(jù) |
水冷系統(tǒng)(選配) | 1.工作電流:2.1-12.9A 2.制冷量:49474Btu/h 3.流量:117L/min 4.水箱容量:75L |
坩堝系統(tǒng)(選配) | 1.可選石墨坩堝或者氮化硼坩堝和相應的保溫材料組件 此單晶爐的坩堝尺寸分為D50*H50mm和D80*H80mm |
變壓器(選配) | 可根據(jù)客戶所在地的電壓選配變壓器,如480V變380V,415V變380V等 |
產(chǎn)品尺寸(參考) | 1.設備主機:~1480mm(L) x 1150mm(W) x 2450mm(H) 2.冷水機:~800mm(L) x 800mm(W) x 1200mm(H) 3.變壓器:~1050(L) x 800mm(W) x 1200mm(H) |