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      ST2000薄膜測厚儀

      參考價面議
      具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
      • 公司名稱深圳微科泰儀器儀表有限公司
      • 品       牌
      • 型       號
      • 所  在  地
      • 廠商性質(zhì)其他
      • 更新時間2023/8/26 9:29:17
      • 訪問次數(shù)165
      產(chǎn)品標(biāo)簽:

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      深圳微科泰儀器儀表有限公司,為精密測試儀器代理商,服務(wù)對象為半導(dǎo)體生產(chǎn)行業(yè),PCB 生產(chǎn)行業(yè)及一般電鍍行業(yè)等,集經(jīng)營銷售、技術(shù)支持、售后服務(wù)于一體。主力經(jīng)銷美國 Thermo X射線鍍層測厚儀、韓國Micro Pioneer X射線鍍層測厚儀、日本精工SII X射線鍍層測厚儀、美國禾威WALCHEM自動加藥控制器、美國SCS離子污染測試儀等國外進(jìn)口儀器。自公司成立以來,公司本著“誠信經(jīng)營、客戶至上”的宗旨,建立了完善的銷售及優(yōu)質(zhì)技術(shù)服務(wù)體系,在行業(yè)中贏得了優(yōu)良的口碑!歡迎您合作產(chǎn)品,我們將竭誠為您服務(wù)。期待著能與您攜手并進(jìn),一起為中國的發(fā)展做出自己的努力,共創(chuàng)美好明天!以下是我司銷售的部分產(chǎn)品:一、韓國micro pioneer XRF-2000 X射線鍍層測厚儀(銷售、維修保養(yǎng)服務(wù))二、美國 Thermo ZXR、LXR、GXR系列X射線鍍層測厚儀(銷售、維修保養(yǎng)服務(wù))三、德國宏德X射線鍍層測厚儀(銷售、維修保養(yǎng)服務(wù))四、進(jìn)口鍍層膜厚標(biāo)準(zhǔn)片(Au、Ni、Ag、Sn、Zn、Cu、Cr)五、美國禾威WALCHEM自動加藥控制器1、化學(xué)鍍鎳自動加藥控制器 WNI310/4102、化學(xué)鍍銅自動加藥控制器 WCU310/4103、電導(dǎo)率檢測自動加藥控制器 WEC310/4104、PH/ORP檢測自動加藥控制器 WPH(ORP)310/410六、日本KYORITSU水質(zhì)離子測試包七、美國OMEGA 600SMD離子污染測試儀 八、美國EXTEC研磨 / 拋光器材及消耗品九、中國臺灣milum PCB表銅、孔銅測厚儀 1、mm610手持式PCB孔銅測厚儀2、mm125 手持式PCB銅箔檢測儀3、mm805桌上型雙功能孔面銅厚測厚儀
      銅離子檢測儀
      描述:儀器簡介:SpectraThick,K-MAC公司的薄膜厚度測量系統(tǒng),采用的是光學(xué)技術(shù)方法
      ST2000薄膜測厚儀 產(chǎn)品信息

      描述:

      儀器簡介:

      Spectra Thick, K-MAC公司的薄膜厚度測量系統(tǒng),采用的是光學(xué)技術(shù)方法。在薄膜的表面利用反射光和在下部的界面反射的光之間的干涉現(xiàn)象或是利用光的相位差來決定薄膜的性質(zhì)。這樣我們不但可以測量薄膜厚度還可測量光學(xué)常數(shù)。如果是透明薄膜且可維持光的干涉性,用ST系列可測量任何樣品。通過數(shù)學(xué)計算多層薄膜的每個層的厚度都可測量。由于采用的是用戶友好界面,操作十分簡單。樣品不會受到損害,并可快速測量從Å到數(shù)十㎛的大范圍厚度。

      技術(shù)參數(shù):

      測量方法: 非接觸式
      測量原理:反射計
      類型:手動的
      平臺尺寸: 4" (可選6" )
      活動范圍:150 x 120mm(70 x 50mm 移動距離)
      測量范圍 :200Å~ 35㎛(根據(jù)膜的類型)
      光斑尺寸:20㎛ 典型值 (可選10㎛、50㎛)
      測量速度:1~2 sec./site
      物鏡轉(zhuǎn)換器:Quadruple Revolving Mechanism with Inward Tilt
      照明類型:12V 35W Tungsten-Halogen Lamp Built-in Control Device & Transformer
      尺寸:190 x 265 x 316 mm
      重量:12Kg
      探頭類型:三目探頭
      可供選擇:標(biāo)準(zhǔn)樣品(K-MAC or KRISS or NIST)

      應(yīng)用領(lǐng)域:

      半導(dǎo)體:Poly-Si, GaAs, GaN, InP, ZnS + Si, Ge, SiGe...
      介質(zhì)材料:SiO2, TiO2, TaO5, ITO, ZrO2, Si3N4, Photoresist, ARC,...
      平板行業(yè):(包括 LCD, PDP, OLED, ): a-Si, n+-a-Si, Gate-SiNx MgO, AlQ3 , ITO, PR, CuPc, NPB, PVK, PAF, PEDT-PSS, Oxide, Polyimide...
      光學(xué)涂層:硬度涂層、增反射薄膜、Color Filters、封裝與功能薄膜...
      太陽能電池: Doping a-Si(i-type, n-type, p-type), TCO(ZnO, SnO, ITO..)
      聚合物:PVA, PET, PP, Dye, Npp, MNA, TAC, PR...
      Recordable materials: Photosensitive drum, Video head, Photo masks, Optical disk
      其他:示波管上的光阻薄膜材料與掩膜板、金屬薄膜、激光鏡...                   

      主要特點:

      測量迅速,操作簡單
      非接觸式,非破壞方式
      優(yōu)秀的重復(fù)性和再現(xiàn)性
      用戶易操作界面
      每個影像打印和數(shù)據(jù)保存功能
      可測量多達(dá)3層
      可背面反射

      關(guān)鍵詞:轉(zhuǎn)換器
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