描述：

osp膜厚測(cè)量?jī)xst4080-osp儀器通過(guò)進(jìn)行pcb/pwb上osp鍍層厚度的完整性、可靠性及膜層形態(tài)的定量分析，進(jìn)而檢測(cè)osp鍍層的應(yīng)用可靠性。 ★ 實(shí)時(shí)無(wú)損檢測(cè)pcb/pwb上osp鍍層厚度
★ 在osp鍍層表面864×648μm的測(cè)試區(qū)域內(nèi)同時(shí)獨(dú)立測(cè)量單個(gè)面積為1.35μm×1.35μm區(qū)域的osp鍍層厚度
★ 在osp鍍層表面86.4×64.8μm的測(cè)試區(qū)域內(nèi)同時(shí)獨(dú)立測(cè)量單個(gè)面積為0.135μm×0.135μm區(qū)域的osp鍍層厚度
★ 檢測(cè)分析的鍍層厚度范圍在0.035－3μm
★ 繪制osp鍍層厚度三維分布圖
★ 可在pcb板上選定特定區(qū)域針對(duì)osp鍍層厚度進(jìn)行有效的質(zhì)量監(jiān)控、失效分析以改善鍍層質(zhì)量。
★ 光譜范圍：420nm－640nm
★ 自動(dòng)測(cè)試平均厚度
st4080-osp檢測(cè)原理 st4080-osp儀器通過(guò)分析可見(jiàn)光譜中不同波長(zhǎng)的光譜分別在銅箔表面和osp鍍層表面上反射后形成的新的關(guān)于波長(zhǎng)的數(shù)據(jù)信息來(lái)測(cè)量osp鍍層的厚度。從osp鍍層表面反射的光線與從基層銅箔表面反射的光線相互干涉從而形成新的干涉圖譜。該圖譜會(huì)形成與光強(qiáng)相關(guān)的振幅曲線，st4080-osp儀器通過(guò)分析該曲線的振幅和頻率以確定osp鍍層厚度和完整性。
為什么選擇st4080-osp進(jìn)行osp鍍層厚度測(cè)試 ultraviolet－visible characterization （uv-vis）
★ 間接有損分析
★ 需要制備高精度的樣品才能得到較為精確的結(jié)果
★ 無(wú)法模擬實(shí)際osp產(chǎn)品的情況
focused lon beam（fib）method
★ 直接有損分析
★ 需要專業(yè)操作人才并且收費(fèi)昂貴
★ 無(wú)法提供分析點(diǎn)以外的任何參考信息
sequential electrochemical reduction analysis （sera）
★ 直接有損分析
★ 由于osp原料的差異性會(huì)導(dǎo)致潛在的測(cè)量誤差
★ 無(wú)法判斷osp鍍層的實(shí)際厚度分布情況
st4080-osp測(cè)量技術(shù)
★ 現(xiàn)場(chǎng)實(shí)時(shí)高精確度檢測(cè)實(shí)際產(chǎn)品上osp鍍層厚度
★ 檢測(cè)實(shí)際生產(chǎn)產(chǎn)品，不再使用檢驗(yàn)銅箔
★ 量化分析osp鍍層厚度，完整性及可靠性
st4080-osp的特點(diǎn)
★ 在osp鍍層表面864×648μm的測(cè)試區(qū)域，同時(shí)獨(dú)立測(cè)量單個(gè)面積為1.35μm×1.35μm區(qū)域的osp鍍層厚度。
★ 在osp鍍層表面86.4×64.8μm的測(cè)試區(qū)域，同時(shí)獨(dú)立測(cè)量單個(gè)面積為0.135μm×0.135μm區(qū)域的osp鍍層厚度。
★ osp鍍層的實(shí)際附著情況可以通過(guò)三維厚度分布圖進(jìn)行清晰顯示。
★ 實(shí)時(shí)檢測(cè)實(shí)際產(chǎn)品上osp鍍層厚度，無(wú)需樣品制備工序。
★ st4080-osp儀器測(cè)量技術(shù)對(duì)接受測(cè)試的pcb/pwb產(chǎn)品沒(méi)有任何不利、破壞影響。
★ 可在pcb/pwb產(chǎn)品生命周期的不同階段進(jìn)行檢測(cè)，以監(jiān)控osp鍍層在生產(chǎn)和儲(chǔ)存過(guò)程中可能產(chǎn)生的不良變化。
★ st4080-osp儀器可實(shí)時(shí)檢測(cè)pcb/pwb上osp鍍層厚度和質(zhì)量。